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Fターム[4F209PN15]の内容

Fターム[4F209PN15]に分類される特許

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【課題】従来の微細構造転写装置と比較して、スタンパの交換に要する時間を短縮することができると共に、スタンパの転写面に異物が付着するのを防止することができる微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】スタンパヘッド23に取り付けられたスタンパ2を被転写体5に押し付けて、前記スタンパ2に形成された微細な凹凸パターンを前記被転写体5の表面に転写する微細構造転写装置1において、前記スタンパヘッド23に対して近接移動可能な移動ステージ31と、この移動ステージ31に設けられたスタンパ保持部32とを備え、前記スタンパ保持部32が、前記スタンパ2の前記凹凸パターンの形成面を粘着保持可能な粘着層35を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】複数の領域のそれぞれに微細構造体を高い精度で低コストかつ高スループットにて形成することができる微細構造転写用スタンパ及びこれを搭載した微細構造転写装置を提供する。
【解決手段】表面に微細構造が形成された微細構造形成層を有するスタンパ2を、被転写基板6上に形成した樹脂薄膜に押し付けた状態でこの樹脂薄膜を硬化させ、前記被転写基板6上に微細構造体を形成する微細構造転写装置1において、支持部材23a上に複数の前記スタンパ2を有するマルチヘッド23を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】テンプレート検査時に、プロセス起因欠陥の発生を抑制するプロセス条件を求める。
【解決手段】本実施形態によれば、テンプレート検査方法は、インプリント処理に使用される複数のパターンが形成されたテンプレートをテンプレート検査装置を用いて検査する方法であって、前記複数のパターンからいずれか1つのパターンを抽出する工程と、プロセスパラメータと発生するプロセス欠陥の数とが対応付けられた欠陥プロセスマップと、前記抽出したパターンの寸法ばらつき、掘り込み深さ、及びテーパ角とを用いて、プロセス欠陥数が所定値以下となるプロセスパラメータの組合せを探索する工程と、を備えるものである。 (もっと読む)


【課題】インプリント装置において基板保持面またはモールド保持面に存在する異物を除去するために有利な技術を提供する。
【解決手段】基板に塗布された樹脂とモールドのパターン面とを接触させて該樹脂を硬化させるインプリント装置100は、前記基板を保持する基板保持部4と、モールド保持面MSで前記モールドを保持するモールド保持部3と、前記モールド保持部3に対して前記基板保持部4を相対的に移動させる駆動機構と、前記基板保持部4により前記基板の代わりにクリーニング部材12が保持されて前記クリーニング部材12と前記モールド保持面MSとが接触した状態で前記モールド保持部3に対して前記基板保持部4が相対的に移動するように前記駆動機構を制御し、これにより前記モールド保持面MSをクリーニングする制御部20とを備える。 (もっと読む)


【課題】 裏面に凹部を有するテンプレート用の基板を用いる場合の問題を解決することが可能なテンプレートの処理装置を提供する。
【解決手段】 実施形態によれば、インプリントリソグラフィに用いるテンプレート用の基板の処理装置であって、テンプレート用の基板14の裏面に形成された凹部に整合する凸部を有する載置台12を備える。 (もっと読む)


【課題】インプリント領域に異物や凹凸が存在する場合に、モールドの交換を行うことなく、パターン形成時のモールドの破損を防止するインプリント装置を提供する。
【解決手段】モールド3は、パターンを形成するための凹凸パターンを有する第1押印部20と、ダミー用の第2押印部21との少なくとも2つの押印部を有する。制御手段は、異物検査手段の検査結果に基づいて、インプリント領域に異物、又は凹凸が存在するかどうかを判定し、存在しないと判定した場合には、第1押印部20を選択し、一方、存在すると判定した場合には、第2押印部21を選択し、第2押印部21を選択した場合には、第2押印部21が第1押印部20よりも基板5との距離が近くなるように退避手段を制御した後、第2押印部21と未硬化樹脂との接触を実行させる。 (もっと読む)


【課題】被転写基板の局所的な突起に追従し、パターン転写不良領域を低減することが可能で、耐久性のあるスタンパおよび転写方法を提供する。
【解決手段】表面に凹凸形状が形成されたインプリント用スタンパにおいて、前記凹凸形状が形成された樹脂製のパターン層と、前記パターン層の裏面に配置された樹脂製の緩衝層と、前記緩衝層の裏面に配置された基材層とを有し、前記緩衝層のヤング率が前記パターン層のヤング率よりも小さく、前記基材層のヤング率が前記緩衝層のヤング率よりも大きいことを特徴とするインプリント用スタンパ。 (もっと読む)


【課題】生産性が高く、テンプレートに欠陥が生じた場合に、欠陥の種類に応じて最適な歩留まりの管理を行うことができるインプリント方法、インプリント装置及びプログラムを提供する。
【解決手段】実施の形態のインプリント方法によれば、テンプレートに形成された凹凸パターンを基板上のインプリント材料に接触させて凹凸パターンをインプリント材料に転写する工程と、転写する工程の後にテンプレート又はインプリント材料に形成された凹凸パターンを撮像する工程とを複数回行う。次に、複数回の撮像する工程によって得られた複数の画像の経時的な変化に基づいて、テンプレートの欠陥の種類を判定する。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリントを用いた被処理基板へのパターン形成時に、被処理基板に存在する凹凸や異物によってテンプレートが破損することを防止するパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】基板上に下地膜を形成する工程と、下地膜の表面に凹凸/異物が存在するか否かを検査する工程と、検査の結果を用いて、パターンを形成するショット領域に、凹凸/異物が存在するかを判定する工程と、ショット領域に凹凸/異物が存在しない場合には、第1のテンプレートをショット領域上の下地膜にレジスト剤を介して接近させてレジスト剤を固化させてマスクパターンを形成し、ショット領域に凹凸/異物が存在する場合には、第1のテンプレートとは異なる第2のテンプレートをショット領域上の下地膜にレジスト剤を介して接近させた状態でレジスト剤を固化する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置を提供する。
【解決手段】エンボス装置10は、原反70に対面するようになるエンボス型面30を有するエンボスロール20と、エンボスロール20に対向して配置されたバックアップロール13と、を備える。原反は、エンボスロール20とバックアップロール13との間で押圧されるようになる。エンボスロールのエンボス型面は、原反に形成すべき凹凸柄85に対応した凹凸形状を有する凹凸部35と、エンボスロールの回転軸線L1に沿って凹凸部からずれた位置に形成され、凹凸部とは異なる凹凸形状を有する凹凸パターン40と、を有する。 (もっと読む)


一実施形態では、エンボス加工ドラムが、外テーパを備えた外面を有するマンドレル(4)と、マンドレル(4)の第1の端部から延びる主ジャーナル(10)と、マンドレル(4)の第2の端部から延びる副ジャーナル(12)と、内テーパを備えたスリーブ内面を有し、マンドレル(4)の周りに配置されて、実質的に一定の外径を有するドラムを形成するスリーブ(6)と、副ジャーナル(12)に係合し、スリーブ(6)の最小内径を有する第1のスリーブ端部が隣接して配置される着脱可能なジャーナル支持部(30、50)とを有している。一実施形態では、ドラムシステムのメンテナンス方法が、エンボス加工ドラムシステムにおけるジャーナル支持部(30、50)を解放することと、マンドレル(4)から外して副ジャーナル(12)の上へスリーブ(6)を滑らせることとを含んでいる。
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