【課題】 加工性が良く、色ムラの発生が無く、高温（１５００℃）曲げ強が高く、耐熱性の良好なＳｉＣ−ＢＮ複合焼結体を提供する
【解決手段】
窒化硼素２．５〜５０質量％、炭化珪素４７〜９７質量％、炭化硼素又は炭化硼素と炭素が０．５〜３質量％未満の相対密度９７．５％以上、Ａｒガス中の２０００℃で１０時間加熱後の質量減少率が０．５質量％以下であるＳｉＣ−ＢＮ複合焼結体。比表面積１１ｍ^２／ｇ以上で酸素含有量が１３．３４×Ａ^{−０．５８}以下の窒化硼素が２．５〜５０質量％、比表面積８ｍ^２／ｇ以上の炭化珪素が４７〜９７質量％、炭化硼素又は炭化硼素と炭素が０．５質量％以上３質量％未満の混合粉末であり、酸素量が１．１０質量％以下、比表面積が１０〜４５ｍ^２／ｇである混合粉末を非酸化性雰囲気で圧力１０〜５０ＭＰａ、温度１８００〜２１５０℃、保持時間１〜６時間のホットプレス焼結で焼結するＳｉＣ−ＢＮ複合焼結体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 機械的特性や熱的特性を有しているとともに体積抵抗率の大きな炭化珪素質焼結体およびこの炭化珪素質焼結体からなる静電吸着部材ならびに半導体製造装置用部材を提供する。
【解決手段】 炭化珪素を主成分とし、チタンを含む緻密質の炭化珪素質焼結体であって、炭化珪素の平均結晶粒径が4.8μｍ以下（但し、０μｍを除く）であり、チタンの含
有量が140質量ｐｐｍ以下（但し、０ｐｐｍを除く。）の炭化珪素質焼結体である。この
炭化珪素質焼結体は、機械的特性や熱的特性を有しているとともに体積抵抗率の大きなものである。 （もっと読む）

【課題】六方晶系窒化ホウ素を快削性付与剤として含み、比較的低温で、かつ、無加圧下でも製造が可能な快削性セラミックス及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の快削性セラミックスは、快削性付与剤としての六方晶系窒化ホウ素粉体と、焼結助剤としてのアルミノケイ酸塩粉体と、基材としてのセラミックス粉体（ただし六方晶系窒化ホウ素及びアルミノケイ酸塩は除く）との混合物の焼結体からなり、前記六方晶系窒化ホウ素粉体の粒子には表面のみならず内部にも酸素が含まれていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】六方晶系窒化ホウ素を快削性付与剤として含み、より低温で焼成可能であって、かつ、無加圧下で製造が可能な快削性セラミックス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】粒子の表面のみならず内部にも酸素が含まれている快削性付与剤としての六方晶系窒化ホウ素粉体と、基材としてのセラミックス粉体（ただし六方晶系窒化ホウ素は除く）とを混合して焼結用混合粉とし（混合工程）、該焼結用混合粉を圧力成形してプレ成形体とし（プレ成形工程）、プレ成形体を非酸化性ガス雰囲気下又は真空中において焼結する（焼結工程）。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム溶湯に対する良好な耐濡れ性及び高い強度を有する窒化珪素―窒化硼素複合セラミックスを提供する。
【解決手段】窒化珪素粉末、焼結助剤粉末、及び六方晶窒化硼素粉末からなる原料を成形、焼成して窒化珪素と窒化硼素の複合セラミックスを得る窒化珪素−窒化硼素複合セラミックスの製造方法において、前記六方晶窒化硼素として、レーザ回折・散乱法で測定した平均粒径が２〜１０μｍ、３０μｍ以上の粒径を有する粒子が５％以下、ＳＥＭ写真から測定した１次粒子の平均粒子寸法が０．０１〜０．８μｍ、比表面積が２０〜５０ｍ^２／ｇであるものを、窒化珪素粉末と焼結助剤粉末の合計１００質量部に対して３〜２０質量部含有する。 （もっと読む）

【課題】快削性と共にシリコンに近い熱膨張係数を有し、高い強度を備えたセラミックス部材、このセラミックス部材を用いて形成されるプローブホルダ、及びセラミックス部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくともフォルステライト及び窒化ホウ素を主成分として含み、窒化ホウ素が一方向に配向している焼結体であるセラミックス部材、セラミックス部材を用いて形成されるプローブホルダ、及びセラミックス部材の製造方法。セラミックス部材は、配向度が０．０７以下であり、配向方向と平行な方向の２０〜３００℃における熱膨張係数が（３〜５）×１０^−６／℃であるか、又はＪＩＳ Ｒ １６０１に基づく３点曲げ強度が２５０ＭＰａ以上である。 （もっと読む）

【課題】低圧条件でｈＢＮからｃＢＮを合成する低圧合成方法及びｃＢＮ原料粉末を用いたｃＢＮ焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】金属触媒として、１５ｗｔ％以上５０ｗｔ％未満のＭｏと、１．５〜８ｗｔ％のＡｌ及びＭｇのいずれか１種又は２種と、残部はＦｅ，Ｃｏ及びＮｉのうちから選ばれる１種又は２種以上からなる合金粉末あるいは混合粉末を用いて、低圧（４ＧＰａ以上）かつ１２００〜１９００℃でｈＢＮからｃＢＮを合成し、また、ｃＢＮを原料粉末とし、金属触媒として用いた上記合金粉末あるいは混合粉末を焼結助剤として原料粉末に含有させて焼結し、ｃＢＮ焼結体を得る。 （もっと読む）

【課題】酸素存在下で焼結が可能であって、焼結体の相対密度が高く、機械的強度の優れた六方晶系窒化ホウ素焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】六方晶系窒化ホウ素とアルミノケイ酸塩とをあらかじめ混合粉砕して焼結用混合粉とし（混合粉砕工程）、該焼結用混合粉を圧力成形してプレ成形体とし（プレ成形工程）、プレ成形体を酸素が存在する雰囲気下において焼結する（焼結工程）。六方晶系窒化ホウ素からなる粉体粒子は、表面のみならず内部にも酸素が含まれている。 （もっと読む）

【課題】０．１μｍ以下の寸法を持つ微細粒子のｃＢＮ焼結体を用いた切削工具を提供する。
【解決手段】被切削物を切削するための切削工具であって、六方晶窒化ホウ素を原料として、該六方晶窒化ホウ素を加熱しながら加圧することで立方晶窒化ホウ素の焼結体１に転換する。焼結体１，１ａを、被切削物を切削する切刃部とした。加熱および加圧は、前記焼結体１を構成する粒子の寸法を０．１μｍ以下にする温度および圧力で行われる。 （もっと読む）

【課題】炭化珪素焼結体本来の優れた特性を保持しながら炭化珪素単相の焼結体よりも良好な加工性を示し、優れたセラミックス構造材料となりうる炭化珪素／窒化硼素複合材料焼結体、および炭化珪素／窒化硼素複合材料焼結体の新たな製造方法を提供する。
【解決手段】上記焼結体は、炭化珪素55〜92質量%、六方晶窒化硼素5〜35質量%ならびに焼結助剤等を3〜25質量%の割合で含有し、酸素不純物含有量が0.2質量%以下であり、曲げ強度が400MPa以上である。上記製造方法は、炭化珪素粉末および六方晶窒化硼素粉末を含む混合粉末を焼成する前に真空または不活性雰囲気中1450〜1650℃の温度で熱処理する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】プレス圧を下げ安価な黒鉛製鋳型を使用することにより低コストで製造できると共に、超硬工具にて容易に加工できる快削性と、穿孔などの機械加工時に割れや欠けを起こさない高強度とを併せ持ち、かつ使用温度環境が変動しても寸法の狂いが生じにくい低熱膨張性を有する快削性セラミックスの製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミナとジルコニアと窒化硼素と焼結助剤とを含む原料粉末であって、アルミナとジルコニアとの質量比が１：０．７〜１：２．３であり、窒化硼素が比表面積１５ｍ²／ｇ以上の六方晶系窒化硼素で、その原料粉末全体に対する配合割合が２５〜６２質量％であり、焼結助剤の原料粉末全体に対する配合割合が０．５〜４．５質量％である原料粉末を不活性雰囲気中、プレス圧９〜２１ＭＰａ、焼成温度１５３０〜１７２０℃で加圧焼成する。
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【課題】機械部品としての十分な強度を具備し、摺動性にすぐれた摺接構造体を提供する。
【解決手段】一方を他方に対して摺動可能に支持する第１部材と第２部材とを含む摺接構造体であって、第１部材は、マトリックスを構成する金属基地中に、固体潤滑粒子５〜４０体積％、硬質粒子５〜４０体積％を含み、第２部材は、窒化珪素を母材とする基地中に、窒化硼素粒子を５〜５０体積％含んでいる。 （もっと読む）

【課題】従来の高純度ｃＢＮ焼結体の合成技術ではなし得なかった、構成粒子径が０．１μｍ以下の微細な構造を有し、かつｃＢＮ含有量が１００％の透光性を有する高純度超微粒子ｃＢＮ焼結体を提供する。
【解決手段】六方晶窒化ホウ素を原料として、立方晶窒化ホウ素が熱力学的に安定な９．５万気圧、１７００℃以上１９００℃以下の圧力、温度条件で、立方晶への高圧相転移を伴いながら助剤無添加で焼結することにより、ｃＢＮ含有量が１００％で、かつ、焼結体の平均粒子径が０．１μｍ以下で、透光性を有する焼結体を得る事が出来る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、焼結助剤を用いることなく製造された六方晶窒化ホウ素（ｈ−ＢＮ）の焼結体であって、その相対密度が９０％以上と高密度であり、かつ、曲げ強度が１００ＭＰａ以上と高い力学的強度を有する焼結体、およびその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明にかかるｈ−ＢＮ焼結体の製造方法は、窒素または不活性ガス雰囲気下で、六方晶窒化ホウ素および不可避不純物のみからなる原料粒子を粉砕して無秩序構造を含む粉体を調製する工程；窒素または不活性ガス雰囲気下で、上記粉体を焼結型内に充填する工程；および上記焼結型内の粉体を、減圧雰囲気下で、１０〜３００℃/分の昇温速度で所望の焼結温度まで昇温して加圧焼結する工程を含む。本発明にかかるｈ−ＢＮのｃ軸は、加圧焼結時の圧力方向と垂直に配向しており、ｈ−ＢＮのａ軸が加圧焼結時の圧力方向と平行に配向している。 （もっと読む）

【課題】従来の六方晶窒化ホウ素焼成体の製造方法の問題点を解決し、ホットプレス等の
加圧装置を用いず、かつ非酸化性雰囲気とすることなく、大気中で常圧でｈＢＮを焼成す
る方法とその焼成体を提供すること。
【解決手段】本発明は、六方晶窒化ホウ素と、焼成温度において液相を形成し六方晶窒化
ホウ素と濡れる性質を有する焼成用助剤とを混合し、大気中、無加圧で焼成することを特
徴とする窒化ホウ素焼成体の製造方法と、このようにして得られた六方晶窒化ホウ素とガ
ラス質物質からなる窒化ホウ素焼成体である。焼成用助剤としては、曹長石、ＮａＡｌＳ
ｉ₃Ｏ₈、カリ長石、ＫＡｌＳｉ₃Ｏ₈などのアルミノケイ酸塩が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 ダイヤモンド工具によっても加工困難な、鉄系あるいはガラス系であって難削材といわれる材料の加工に対しても加工性能、工具寿命とも十分な性能を示すマイクロ回転工具を提供することを課題とする。
【解決手段】 マイクロ回転工具１は、超硬合金材料からなる軸対称のシャンク部２と、バインダレス微粒高純度ＣＢＮ多結晶体材料からなりシャンク部２の端面にシャンク部の中心軸線２１と同心状に接合されているビット部３とを有している。ビット部３がシャンク部２と接合されている側と反対側の端面には、複数の四角錐３２が互いに密に隣り合って整列する多刃先端切れ刃３１が形成されている。これらの四角錐３２は、隣り合う２つの四角錐３２の互いに向き合う２つの錐平面３３が互いに６０度±５度の角度で交差しており、各四角錐３２は、互いに直交する２つの整列方向において、０．０６ｍｍ〜０．１ｍｍのピッチで整列している。 （もっと読む）

本発明は、導電性ＡｌＮからなる導電性セラミックス及びその製造方法並びにその導電性セラミックスを用いた半導体製造装置用部材に関する。
従来のＡｌＮセラミックスでは室温で高い導電性を得ることは困難であったが、本発明の導電性ＡｌＮからなる導電性セラミックスは、粒界相に希土類窒化物を含んでおり、該希土類窒化物が三次元的に網目状に連続した導電ネットワークを形成し、室温における導電率が１０^−１０Ｓ／ｃｍ以上となる。
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