【課題】本発明は、プラズマ耐食部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】窒化アルミニウムを主体とし、１Ｇ（１０^９）Ｈｚ以上において誘電損失（ｔａｎ δ）が５×１０^−３以下であることを特徴とするプラズマ耐食材料、及び窒化アルミニウムを主体とし、酸化イットリウムと酸化マグネシウム又は窒化マグネシウムとを微量添加して焼結することにより、マイクロ波焼結や高ガス圧力焼結といった特別な焼結装置を用いることなく、また焼結後の再加熱や広い温度範囲において毎分０．７℃といった極端に遅い冷却速度で長時間に渡り徐冷をすることなく、フッ化物系反応ガスを含む１ＧＨｚ以上の高周波プラズマに曝されるプラズマ耐食部材の誘電損失（ｔａｎ δ）が５×１０^−３以下の誘電損失特性の優れたプラズマ耐食部材を製造する。 （もっと読む）

【課題】窒化アルミニウムの特性を維持しつつ、その耐食性を向上させる。
【解決手段】窒化アルミニウム質セラミックス１０は、窒化アルミニウム粒子と粒界相とを備える。更に、窒化アルミニウム質セラミックス１０は、その表層に内部１１よりも粒界相を多く含む粒界相豊富層１２を備える。そして、その粒界相豊富層１２における粒界相は希土類元素又はアルカリ土類元素の少なくとも１つを含有する。 （もっと読む）

【課題】 亀裂のない反射膜の形成が容易であり、なおかつ超精密な表面粗さと平面度を有しているＳｉＣ−Ｓｉ複合材料からなる基板の表面に反射膜を形成してなる光学反射ミラーを得る技術を提供する。
【解決手段】 Ｓｉマトリックス中にＳｉＣ強化材が複合されたＳｉＣ−Ｓｉ複合材料からなる基板の表面に直接に反射膜を形成してなる光学反射ミラーであって、前記ＳｉＣ−Ｓｉ複合材料中のＳｉＣの含有率が６０〜９０体積％であり、かつ、前記基板の表面粗さＲａが１０ｎｍ以下であることを特徴とする光学反射ミラー。さらに、前記ＳｉＣ−Ｓｉ複合材料組織中のＳｉマトリックス相幅の平均値が１μm以下であり、かつ、ＳｉＣ強化材の平均粒径が３μm以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 セルの大きさおよびその分布状態の均一性を高めたセラミック成形体を得ることができるセラミック成形体の製造方法、および、セラミック成形体を提供する。
【解決手段】 複数のセルと複数の連通孔とを有する三次元網目構造を備えたセラミック成形体を製造する方法であって、セラミック粉体と、有機系粒子の表面を複数のＳｉＣ粒子で被覆してなる複数の被覆粒子とを混合し、被覆粒子−セラミック粉体混合物を作製する第１工程と、所定の型を使用して、被覆粒子−セラミック粉体混合物を加圧成形し、被覆粒子が所定に配列し、配列した被覆粒子間にセラミック粉体が充填してなる被覆粒子−セラミック粉末配列体を作製する第２工程と、被覆粒子−セラミック粉末配列体を加熱し、有機系粒子をガス化させることによって、セルおよび連通孔を形成する第３工程と、を有する。 （もっと読む）

残存する量の遊離炭素及びグラファイトを除去するために炭化ケイ素物を熱処理するための方法を提供する。この方法は、炭化ケイ素物を供給すること及び所定の時間、所定の温度範囲内で炭化ケイ素物を加熱することを含む。加熱は、酸化試薬の存在下で行われる。結果として、一酸化炭素及び二酸化炭素などの気体の生産物が、残存する遊離炭素及びグラファイトを除去するために遊離炭素及びグラファイトを酸化することによって形成された副生産物を含むものとして遊離される。気体は、炭化ケイ素物の加熱の結果として生産される。粒子は、炭化ケイ素物上に酸化被膜を形成させることなく炭化ケイ素物から除去される。結果として、炭化ケイ素物は、実質的に炭素及びグラファイトの封入体がない状態になる。 （もっと読む）

【課題】炭化ケイ素系多孔質構造材の比表面積を飛躍的に高め、耐酸化性の付与、構造材そのものの強度の増加を実現した炭化ケイ素系多孔質構造材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンと炭素が反応して炭化ケイ素が生成する体積減少反応に起因する開気孔が生成された炭化ケイ素系多孔質構造体を空気中で仮焼して過剰の炭素を除いた後、焼成して酸化物セラミックスとなる溶液を含浸させ、それを焼成することにより、セラミックス被覆された炭化ケイ素系多孔質構造材を得る。 （もっと読む）