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Fターム[4G030HA17]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 使用鉱物 (828) | ペタライト (11)

Fターム[4G030HA17]に分類される特許

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【課題】低熱膨張で耐熱衝撃性に優れたコーディエライト質の磁器焼結体、特に磁器食器を提供すると共に、Li系の低膨張釉薬を施釉しても、亀裂の発生のない磁器焼結体を提供する。
【解決手段】素地層の原料に、リチウム元素と、1.1重量%〜2.8重量%のNa2O+K2Oが含まれるよう、タルク、カオリン、アルミナ、長石、リチウム含有原料を秤量・混合し微粉砕する。釉薬層はリチウム元素を含む低熱膨張結晶を生成する釉薬を用いる。素地成形体を素焼き後、施釉し1200℃〜1300℃で本焼成を行う。 (もっと読む)


【課題】焼成によって正極活物質を製造する間に原料から拡散するリチウム成分に対する耐食性が高い窯道具を提供すること。
【解決手段】本発明のリチウム二次電池の正極活物質製造用の窯道具は、βスポジュメンを含むセラミック素材からなる。窯道具におけるLi2Oの含有割合は1〜12質量%であり、Al23の含有割合は15〜40質量%であり、SiO2の含有割合は55〜75質量%であることが好適である。窯道具におけるNa2Oの含有割合が1質量%以下であり、K2Oの含有割合が2質量%以下であり、かつ両者の総和が3質量%以下であることも好適である。 (もっと読む)


【課題】高温下であっても破損することがなく、かつ遠赤外線効果に優れる耐熱材の製造方法を提供する。
【解決手段】粘土、コンクリート、アスファルトのいずれかを20〜80重量%、70〜90メッシュのペタライトを80〜20重量%の割合で混練し第1混練物を生成し、炭素粒子と珪酸化合物の混練体と、第1混練物とを混練して第2混練物を生成し、該第2混練物を加圧成形し成形物を生成し、乾燥後の成形物を950℃〜1250℃の温度で焼成して耐熱材を生成する。 (もっと読む)


【課題】電子レンジを用いて簡単に加熱することができ、安定した加熱特性及び保温性を備えるとともに、安全に使用することができる発熱セラミック及びその製造方法並びに発熱セラミックを利用した保温用品を提供する。
【解決手段】マイクロ波加熱に用いられる発熱セラミック10であって、セラミック材と導電材とから焼成して形成され、焼成体中に導電体粉が含有されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】フラットパネルディスプレイ基板等のガラス基板がスリップしにくいガラス基板の熱処理用セッターを提供する。
【解決手段】上面にガラス基板を載せて熱処理するためのセッターであって、20〜600℃の熱膨張係数が0〜10×10−7/℃であり、かつ3次元網目構造の連通気孔を有する多孔質セラミックス焼結体よりなるガラス基板熱処理用セッター。空気透過率は好ましくは0.5〜10×10−3cmである。好ましくは、リチア系焼結体よりなる。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッターを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のガラス基板熱処理用セッターは、結晶化ガラス又はセラミックス焼結体からなり、載置面において深さ3μm以上の凹部が、平均して500μmあたり1つ以上の割合で存在することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】表面性状が良好なフラットパネルディスプレイ基板を製造することができるフラットパネルディスプレイ基板製造用棚板を提供する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイ基板を載せて熱処理するための棚板であって、光沢度が5度以上であるか、又は写像性が5%以上である。好ましくは熱膨張係数が2.0×10−6/℃以下であり、曲げ強さが40MPa以上であり、ヤング率が30GPa以上である。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッターを提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板熱処理用セッターは、板状のセラミック焼結体からなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するためのガラス基板熱処理用セッターにおいて、セラミック焼結体は、K2Oを0.5〜4質量%含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高電導かつ低熱膨張の材料を提供しようとし、また、従来の陶磁器材と一体的に複合が可能な高電導かつ低熱膨張の材料を提供しようとする。
【解決手段】βユークリプタイト、焼成によりβユークリプタイトとなる組成物、から選択される被焼成成分、融材およびNiを主成分とする焼成前駆体が焼成されてなり、焼成された焼成物中の、塩基性成分とAl2O3とのモル比が3:7〜3:1であるNiセラミック複合体である。また、焼成されて陶磁器材となる陶磁器焼成用前駆体と、前記Niセラミック複合体の焼成に用いられる前記焼成前駆体とが複合された被焼成物を焼成してなり、陶磁器材と前記Niセラミック複合体とが、互いの境界面で焼結状態で結合して複合されてなる複合陶磁器である。
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【課題】平面方向の収縮率を低く抑えることができる積層ガラス−セラミック回路基板を提供する。
【解決手段】
ガラス成分と、無機物フィラーとを含む絶縁層を複数積層した積層基板を備える積層ガラス−セラミック回路基板であって、前記複数の絶縁層のうち、隣接する2つの絶縁層の各々の前記無機物フィラー間に、ガラス転移点の差が80℃以上異なる前記ガラス成分がそれぞれ充填されていることを特徴とする。また、前記ガラス成分は、結晶化ガラスであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、焼結後の曲げ強度が170MPa以上の物性を有し、さらに、強化磁器素地の破壊時の安全性に優れ、透光性を有する低コストの強化磁器の提供を課題とする。また、成形時の可塑性に優れ、より低い温度での焼成が可能な強化磁器の製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】 本発明の強化磁器は、酸化物基準で二酸化珪素25質量%〜55質量%、酸化アルミニウム40質量%〜70質量%、アルカリ金属酸化物1質量%〜7質量%、酸化マグネシウム0. 5質量%〜6質量%からなり、熱膨張係数が4. 5×10-6/K以上で、平均曲げ強度が170MPa以上である。 (もっと読む)


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