【課題】厚膜化してもＪｃの低下を招くことがなく、充分に高いＩｃを有する酸化物超電導層が基材上に形成された酸化物超電導線材とその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、有機金属化合物を原料とし、塗布熱分解法により酸化物超電導層を形成する酸化物超電導線材の製造方法であって、本焼成最適温度がそれぞれ異なる複数の酸化物超電導層を、本焼成最適温度の高い酸化物超電導層から、順次、基板上に積層する酸化物超電導線材の製造方法。基板上に形成される酸化物超電導層は３層以上であり、各酸化物超電導層の厚みは０．０５〜１．０μｍである酸化物超電導線材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】熱侵入量を低減し、コンパクト化及び製造容易な電流リードを提供する。
【解決手段】所定の面積を有する配向ＮｉーＷ基板上に中間層を形成した複合基板上に、ＴＦＡ−ＭＯＤ法によりＹＢＣＯ酸化物超電導層及び安定化層を被覆して酸化物超電導体を作成した後、これに打ち抜き加工を施してミアンダ形状の電流経路を形成する。このミアンダ形状の電流経路の複数本を両端部に電気的絶縁材料からなる低熱伝導部材を介して一対の電極Ａ，Ｂが接続された支持部材の表面に載置し、その両端部１ａ、１ｂを電極Ａ、Ｂにそれぞれ接続した後、絶縁板及び絶縁シートにより固定するとともに、金属ケースに収容して電流リードを作成する。 （もっと読む）

【課題】酸化チタン膜および酸化チタン膜形成方法を提供すること。
【解決手段】本発明の酸化チタン膜は、表面被膜として使用され、１μｍ以下のミクロポア構造と、１μｍを超えるマクロポア構造を有し、マクロポア構造の空孔率が、酸化チタン膜の表面に対する面積率で０．０２以上とされている。また、本発明では、マクロポア構造の空孔率は、０．０６〜０．４とされることが好ましい。さらに本発明は、４級アンモニウム化合物を含む電解液にチタンを含むアノードを浸漬し、アノードをプラズマ電解酸化してアノード表面に酸化チタン膜を形成する工程を含む、酸化チタン膜形成方法を低供する。 （もっと読む）

【課題】酸化物超電導体を構成する元素を均一に存在させることができ、かつ量産可能な、酸化物超電導体原料粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】この発明に係る酸化物超電導体原料粉末の製造方法は、酸化物超電導体を構成する元素を含む溶液から、溶媒を除去して、固体粉末を生成する工程（Ｓ３）を備える。また、固体粉末を高温炉内に飛散させて、上記元素の酸化物を生成する工程（Ｓ４）を備える。 （もっと読む）