本発明は、特定の処理雰囲気を必要とせず、また溶融塩を用いることなく、ガラス基材の所望部位に対して容易に屈折率分布を形成できる屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。
具体的には、本発明は、アルカリ金属成分をガラス構成成分として含むガラス基材に、銅化合物、有機樹脂及び有機溶剤を含有するペーストを塗布し、ガラス基材の軟化温度より低い温度で熱処理することを特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。 （もっと読む）

高い歪み点温度、耐失透性、良好な化学的耐久性、優れた誘電特性、シリコンのものに一致するように調整できる熱膨張係数、および従来の方法による成形を可能にする液相線粘度を有する安定なガラスを生成するＰ₂Ｏ₅−ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃三成分系のガラスからなるフラット・パネル・ディスプレイ用ガラス基板が開示されている。このガラスは、酸化物基準の質量パーセントで計算して以下の組成：３３〜７５％のＰ₂Ｏ₅、２〜５２％のＳｉＯ₂、８〜３５％のＡｌ₂Ｏ₃を有する。
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高い歪み点、透明度、および低い熱膨張係数を示す、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃−Ｐ₂Ｏ₅三成分系からのガラスの一群が開示されている。これらのガラスは、酸化物基準のガラスバッチから計算して、モルパーセントで表して、以下の組成：５５〜８０％のＳｉＯ₂、１２〜３０％のＡｌ₂Ｏ₃、および２〜１５％のＰ₂Ｏ₅を有する。
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酸化物の形としてＢａＯ、ＳｒＯ、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３を含み、それぞれの含有量を分子濃度比とするとき、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＴｉＯ_２：０．２〜０．８、ＳｉＯ_２：０．１〜０．６、Ａｌ_２Ｏ_３：０．０５〜０．２５で、ＳｒＯおよびＢａＯの合計量を１とするとき、（１−ｘ）ＢａＯ＋ｘＳｒＯ＝１の式にてｘ：０．１〜０．７であり、キュリー温度が−１００℃から８０℃までの範囲にあることを特徴とするガラス組成物。また、ガラス組成物中でＡｌ_２Ｏ_３となる素材原料にＡｌＦ_３を用い、原料粉末を１３００〜１４００℃にて溶融した後、急冷して得たガラスの粉末を用いて９００〜１２００℃にて焼成する上記の強誘電性ガラス組成物の製造方法。このようにして、印加電圧による可変容量コンデンサ素子に用いるキュリー温度制御の容易な低温焼成可能強誘電性のガラス組成物とその製造方法が提供できる。 （もっと読む）

化学強化された情報記録媒体用ガラスにおいて、化学強化による強化層１３を、外周面および内周面に存在させるとともに、情報記録層が形成される上面１１及び下面１２に実質的に存在させないようにする。これにより高精度の基板研磨技術を必要とすることなく、平坦度などの形状精度および強度を向上させることができる。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも５０重量％のチタニアと、少なくとも５重量％の酸化ビスマスとを含んでなるミクロスフィア（すなわち、ビーズ）に関する。このガラスミクロスフィアは、ジルコニアをさらに含んでなる。また本発明は、かかるミクロスフィアを含んでなる再帰反射性物品、特に路面表示にも関する。
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