Fターム[4G062FH02]の内容
Fターム[4G062FH02]に分類される特許
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Al2O3と、REOと、ZrO2および/またはHfO2と、Nb2O5および/またはTa2O5とを含むセラミックスおよびガラス、および/またはそれらを製造するための方法
(i)Nb2O5またはTa2O5の少なくとも1種と、(ii)(a)Al2O3、(b)REO、または(c)ZrO2もしくはHfO2の少なくとも1種の内の少なくとも2種とを含む、セラミックスである。本発明によるセラミックスの実施態様では、光導波路、ガラスビーズ、物品(たとえば、平板)、繊維、粒子(たとえば、研磨粒子)、および薄層コーティングの形態として製造したり、形成したり、またはそれらのものに転化させたりすることができる。
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情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体
化学強化された情報記録媒体用ガラスにおいて、化学強化による強化層13を、外周面および内周面に存在させるとともに、情報記録層が形成される上面11及び下面12に実質的に存在させないようにする。これにより高精度の基板研磨技術を必要とすることなく、平坦度などの形状精度および強度を向上させることができる。 (もっと読む)
Al2O3と、Y2O3と、ZrO2および/またはHfO2と、Nb2O5および/またはTa2O5とを含むセラミックス、ならびにそれらを製造するための方法
(i)Nb2O5またはTa2O5の少なくとも1種と、(ii)(a)Al2O3、(b)Y2O3、または(c)ZrO2もしくはHfO2の少なくとも1種の内の少なくとも2種とを含む、セラミックスである。本発明によるセラミックスの実施態様では、光導波路、ガラスビーズ、物品(たとえば、平板)、繊維、粒子(たとえば、研磨粒子)、および薄層コーティングの形態として製造したり、形成したり、またはそれらのものに転化させたりすることができる。
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低温磁化率補償
【課題】構造材料それ自体としてまたは接着材料として使用できかつ極低温かつNMR装置が有する磁場の大きさにおいてほぼゼロの磁気モーメントを有する、エポキシまたは類似のアモルファス組成物の磁化率特性を改変する。
【解決手段】NMR装置の部品の製造に使用できる、所望の値の磁化率を示す組成物およびその製造方法であって、前記組成物は、Gd+3、Fe+3およびMn+2からなる群から選択される金属イオンと、アモルファス材料とを含み、リガンドまたはキレート剤を用いて前記金属イオンをアモルファス材料に溶解させる。前記組成物の磁化率は、77゜K以下においてほぼゼロの磁化率のように、極低温において所望の値を示す。
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