Fターム[4G062HH10]の内容
Fターム[4G062HH10]に分類される特許
121 - 140 / 275
誘電体用ガラスペースト
【課題】背面誘電体層と隔壁を同時に焼成して形成することができ、背面誘電体乾燥膜の強度および隔壁に対する密着性を向上することのできる誘電体用ガラスペースト、および該ガラスペーストを用いる隔壁付きガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】軟軟化点が650℃以下であるガラス粉末(A)、活性水素を有する樹脂(B)、1分子中に少なくとも2個以上のブロックイソシアネート基を有する化合物(C)、溶剤(D)を含有し、ガラス粉末(A)の質量を100部としたときに樹脂(B)および1分子中に少なくとも2個以上のブロックイソシアネート基を有する化合物(C)の合計の質量が5〜50部である誘電体用ガラスペースト。
(もっと読む)
非鉛系ガラス微粒子分散ペースト組成物
【課題】 本発明は、非鉛系ガラス封着材に使用した場合に、好適に塗布することができ、焼結後の残留炭素が少なく、かつ、低温雰囲気下であっても脱脂処理が可能な非鉛系ガラス微粒子分散ペースト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 非鉛系ガラス封着材に使用する非鉛系ガラス微粒子分散ペースト組成物であって、イソブチルメタクリレートに由来するセグメントを40〜95重量%、ポリオキシアルキレンエーテルモノメタクリレートに由来するセグメントを5〜40重量%含有するバインダー樹脂と、有機溶剤と、非鉛系ガラス微粒子とを含有する非鉛系ガラス微粒子分散ペースト組成物。
(もっと読む)
無鉛低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、質量%表示で、SiO2 5〜25、B2O3 35〜65、ZnO 10〜40、BaO 0〜3、ZrO2 0〜7、CoO 0.01〜2、CeO2 0.01〜2、CuO 0〜2、K2O 0.01〜5(ただし5は含まず)、F2 0〜10、であり、かつ、Li2OとNa2Oの合計量 1〜15、であることを特徴とするSiO2−B2O3−ZnO−R2O系無鉛低融点ガラス。30℃〜300℃における熱膨張係数が(55〜85)×10−7/℃、軟化点が500℃以上630℃以下である特徴も有す。
(もっと読む)
リチウムイオン二次電池用正極材料およびその製造方法
【課題】リン酸鉄リチウム粒子表面に効率よく導電活物質を付与することが可能な、リチウムイオン二次電池正極材料およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】下記酸化物換算のモル%表示で、Li2O 20〜50%、Fe2O3 5〜40%、P2O5 20〜50%の組成を含有することを特徴とするリチウムイオン二次電池正極材料用前駆体ガラス。
(もっと読む)
反射率勾配を有するガラス基板及びその製造方法
本発明は、ガラスのアルカリ金属イオンを外部源由来の銀イオンで交換する処理により得られた少なくとも1つのイオンパターンを含むガラス基板であって、前記基板が特定の組成を有するガラスから形成されていて、前記イオンパターンが0.03以上の屈折率変化、100μm以上の深さ、及び60%以上の410nmでの光透過率(TL410)を有する前記ガラス基板に関する。 (もっと読む)
光部品用封着ガラスおよび光部品の封着方法
【課題】本発明は、レーザー光等の光エネルギーを効率良く熱エネルギーに変換することができる光部品用封着ガラスを得ること、つまりレーザー光等による局所加熱に好適な光部品用封着ガラスを得ることにより、光部品の信頼性向上を図ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の光部品用封着ガラスは、照射光による封着処理に供される光部品用封着ガラスであり、紫外域、可視域、赤外域のいずれかの波長において、透過率が70%以下であることを特徴とする。
(もっと読む)
電極付きガラス基板の製造方法
【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板の強度を高くする電極付きガラス基板の製造方法の提供。
【解決手段】ガラス基板上に形成されている電極を、質量百分率表示で、B2O3が30〜50%、SiO2が21〜25%、ZnOが10〜35%、Li2OおよびNa2Oのいずれか一方または両方とK2Oとが合計で7〜14%、Al2O3が0〜10%、ZrO2が0〜10%、MgO+CaO+SrO+BaOが0〜5%、Li2O、Na2O、K2Oのモル分率l、n、kについてlが0.025以下、l+n+kが0.07〜0.13である無鉛ガラスによって電極を被覆する。
(もっと読む)
蛍光ランプ用紫外線吸収ガラスおよび蛍光ランプ用ガラス管
【課題】波長315nm以下の樹脂劣化に影響を及ぼす有害紫外線の遮蔽性に優れており、かつ、輝度向上が可能なバックライト用蛍光ランプ用ガラスの提供。
【解決手段】質量百分率表示で、SiO2を60〜80%、Al2O3を1〜7%、B2O3を10〜25%、Li2O+Na2O+K2Oを3〜15%、CaO+MgO+BaO+SrOを0〜5%、CeO2を0.1〜5%、SnO2を0.01〜5%、Fe2O3を0.001〜0.05%、ZrO2+ZnO+Nb2O5を0.01〜5%、MnO2+Cu2O+Ag2O+Eu2O3+Gd2O3+Tb2O3+Yb2O3を0.01〜5%含有し、0〜300℃における平均線膨張係数が36×10−7〜57×10−7/℃である蛍光ランプ用紫外線吸収ガラス。
(もっと読む)
電極活物質、電極、非水電解質二次電池、車両、電池搭載機器、および電極活物質の製造方法
【課題】 電極活物質のうち、非水電解質二次電池に使用し、大きな放電電流を流したときに、この電池の放電レート特性を良好としうる電極活物質を提供する。この電極活物質を用いた電極、この電極を用いた非水電解質二次電池、この非水電解質二次電池を搭載した車両並びに電池搭載機器、および電極活物質の製造方法を提供する。
【解決手段】 電極活物質1は、非水電解質二次電池100の電極10に用い、一般式:(Li2O)a・(Fe2O3)b・(M2O3)0.5-b・(V2O5)c・(P2O5)d、(M:Co,Mn,Niの少なくとも一種)、但し、0<a≦0.5,0<b<0.5,0<c≦0.5,0<d≦0.5で表されるリチウム含有鉄バナジウム燐酸塩からなるガラスおよびガラスセラミックスの少なくともいずれかを主体としてなる。
(もっと読む)
絶縁性被膜材料
【課題】荷重センサに代表される電子材料基板開発において、低温で熔融できて耐水性の高い絶縁性被膜ガラス材料が望まれている。
【解決手段】 重量%でSiO2を1〜5、B2O3を10〜25、ZnOを4〜9、PbOを65〜82含むことを特徴とする絶縁性被膜ガラス材料。また、上記のガラスの粉末とセラミックス粉末のフィラーからなることを特徴とする絶縁性被膜材料。
軟化点が350℃以上480℃以下、30〜300℃における平均熱膨張係数が(85〜130)×10−7/℃である特徴も有す。
(もっと読む)
無鉛絶縁性被膜材料
【課題】荷重センサに代表される電子材料基板開発において、低温で熔融できて耐水性の高い絶縁性被膜ガラス材料が望まれている。
【解決手段】 重量%でSiO2を3〜23、B2O3を1〜7、ZnOを1〜7、BaOを0〜10、Bi2O3を60〜88、Al2O3を0.1〜5含むことを特徴とする無鉛絶縁性被膜材料。また、上記のガラスの粉末とセラミックス粉末のフィラーからなることを特徴とする無鉛絶縁性皮膜材料。
軟化点が350℃以上480℃以下、30〜300℃における平均熱膨張係数が(85〜130)×10−7/℃である特徴も有す。
(もっと読む)
ガラスペースト組成物
【課題】リットガラスやフィラー粒子の沈降分離が抑制され、良好な封着を形成するガラスペーストを提供する。
【解決手段】ガラスペーストは、溶媒及び分散剤を含有するビヒクルと、ビヒクルに分散するフリットガラス及びフィラー粉末とを有し、フリットガラス及び前記フィラー粉末の各々について、式:S=D2×ρ(但し、式中、Dは平均粒子径[μm]、ρは密度[g/cm3]を示す)に従って計算される数値Sが3000以下であるか、又は、前記フィラー粉末の密度が前記フリットガラスの密度より小さい。
(もっと読む)
無鉛低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量%でSiO2を25〜40、B2O3を35〜55、ZnOを5〜14、BaOを0.1〜3、ZrO2を0.1〜7、CuOを0.1〜2、F2を0〜10、さらにLi2O、Na2O、K2Oのうちから選択される、少なくとも1種を5〜18含むことを特徴とする、SiO2−B2O3−ZnO−R2O−BaO−ZrO2系無鉛低融点ガラス。30℃〜300℃における熱膨張係数が(55〜85)×10−7/℃、軟化点が500℃以上630℃以下である特徴も持つ。
(もっと読む)
光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子、それらの製造方法
【課題】屈折率ndが1.87以上、アッベ数νdが35以上40未満、精密プレス成形に供するプリフォームの成形が容易になる粘性の温度依存性を有し、優れたガラス安定性を示し、生産性良く精密プレス成形が可能な低温軟化性を有する光学ガラスを提供する。前記ガラスからなる精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】モル%表示で、
SiO2 0〜20%、
B2O3 5〜40%、
SiO2+B2O3=15〜50%、
Li2O 0〜10%、
ZnO 12〜36%、
ただし、3×Li2O+ZnO≧18%、
La2O3 5〜30%、
Gd2O3 0〜20%、
Y2O3 0〜10%、
La2O3+Gd2O3=10〜30%、
La2O3/ΣRE2O3=0.67〜0.95%、
(但し、ΣRE2O3=La2O3+Gd2O3+Y2O3+Yb2O3+Sc2O3+Lu2O3)
ZrO2 0.5〜10%、
Ta2O5 1〜15%、
WO3 1〜20%、
Ta2O5/WO3≦2.5(モル比)
Nb2O5 0〜8%、
TiO2 0〜8%
を含み、
屈折率ndが1.87以上、
アッベ数νdが35以上40未満
の光学ガラス。このガラスからなる精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とそれらの製造方法。
(もっと読む)
無鉛低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量%でSiO2を12〜30、B2O3を35〜55、ZnOを15〜30、BaOを0.1〜3、ZrO2を0.1〜7、CoOを0.01〜2、CeO2を0.01〜2、F2を0〜10、さらにLi2O、Na2O、K2Oのうちから選択される、少なくとも1種を5〜18含むことを特徴とするSiO2−B2O3−ZnO−R2O−BaO−ZrO2系無鉛低融点ガラス。30℃〜300℃における熱膨張係数が(55〜85)×10−7/℃、軟化点が500℃以上630℃以下である特徴も有す。
(もっと読む)
プラズマディスプレイパネル背面誘電体用ガラスセラミックス組成物
【課題】プラズマディスプレイパネルの背面誘電体に無鉛無ビスマスガラスを用いてもレジスト剥離工程における背面誘電体焼成膜と未焼成隔壁の密着性が十分なものとなるようにする。
【解決手段】下記酸化物基準の質量百分率表示で、SiO2 20〜30%、B2O3 16〜25%、ZnO 40〜50%、Li2O+Na2O+K2O 2〜7%、Al2O3 0〜5%、から本質的になるガラス粉末と、当該ガラス粉末100質量部に対して3〜10質量部の割合のSiO2粉末とを含有するプラズマディスプレイパネル背面誘電体用ガラスセラミックス組成物。
(もっと読む)
無鉛低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】透明絶縁性の無鉛低融点ガラスにおいて、重量%でSiO2を25〜40、B2O3を35〜55、ZnOを5〜14、BaOを0.1〜3、ZrO2を0.1〜7、CoOを0.01〜2、CeO2を0.01〜2、F2を0〜10、さらにLi2O、Na2O、K2Oのうちから選択される、少なくとも1種を5〜18含むことを特徴とするSiO2−B2O3−ZnO−R2O−BaO−ZrO2系無鉛低融点ガラス。30℃〜300℃における熱膨張係数が(55〜85)×10−7/℃、軟化点が500℃以上630℃以下である特徴も有す。
(もっと読む)
情報記録媒体基板用素材、情報記録媒体基板、情報記録媒体それぞれの製造方法
【課題】一定の薄板状の情報記録媒体基板用素材を量産するための円盤状ガラス素材の製造方法を提供すること、前記方法で製造した素材から情報記録媒体用基板ならびに情報記録媒体を製造する方法を提供する。
【解決手段】熔融ガラスから、複数の円盤状ガラス素材を逐次に成形することを含む円盤状ガラス素材の製造方法。前記円盤状ガラス素材に成形される熔融ガラスに含まれる赤外線吸収性イオンの濃度の経時的な変動を抑制して、前記複数の円盤状のガラス素材の板厚の変動が、1000枚のガラス素材について、基準値に対して±15%の範囲内になるようにする方法。0.1〜100ppmの赤外線吸収性イオンを含むガラスからなる複数の円盤状ガラス素材を成形する際に、前記円盤状ガラス素材に成形される熔融ガラスに含まれる赤外線吸収性イオンの濃度の経時的な変動を抑制して、前記複数の板状のガラス素材の板厚の変動を抑制する方法。
(もっと読む)
有機物及び/又は無機物を強化できるガラス糸
本発明は、基本的に酸化ホウ素を含まず、かつ重量%で表された後述の範囲内で次の抗生物質、すなわち、55〜65のSiO2、9〜16のAl2O3、15〜26のCaO、1〜5のMgO、0.5〜5のBaO+SrO、0〜2のNa2O+K2O+Li2O、0〜1のTiO2、0〜2のZnO、0〜2のZrO2を含む化学組成を有する、ガラス繊維に関する。本発明は前記繊維を含む複合材料にも関する。 (もっと読む)
レーザを用いたガラスの加工方法および加工装置
【課題】ガラスに微小な孔や溝を容易かつ安価に形成できる加工方法を提供する。
【解決手段】工程(i)では、波長λのレーザパルス11をレンズで集光してガラス板12に照射することによって、そのガラス板12のうちレーザパルス11が照射された部分に変質部13を形成する。次に、工程(ii)では、そのガラス板12に対するエッチングレートよりも変質部13に対するエッチングレートが大きいエッチング液を用いて少なくとも変質部13をエッチングすることによりガラス板12に孔を形成する。上記レーザパルス11のパルス幅は、1ns〜200nsの範囲にある。波長λは535nm以下、波長λにおけるガラス板12の吸収係数は50cm-1以下である。レンズの焦点距離L(mm)をレンズに入射する際のレーザパルス11のビーム径D(mm)で除した値は、7以上である。
(もっと読む)
121 - 140 / 275
[ Back to top ]