【課題】 高屈折率低分散ガラスからなる、光学機能面にクモリやヤケなどの欠陥のないレンズを提供すること。
【解決手段】
屈折率（ｎ_ｄ）が１．８３超、アッベ数（ν_ｄ）が４０以上、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）が６４０℃以下、かつＬｉ_２Ｏを含まない光学ガラスを精密プレス成形してなり、メニスカス形状、両凹形状、平凹形状の何れかの形状を有することを特徴とするレンズ。 （もっと読む）

【目的】環境汚染を引き起こすことなく、キズがつきにくく、ガラスが割れてもその破片が飛散しない放射線遮蔽物品の製造方法を提供することである。
【構成】本発明は、バッチ原料を調製し、溶融した後、フロート法により板状に成形して、本質的にＰｂを含有せず、１００ｋＶのＸ線に対する鉛当量が０．０３ｍｍＰｂ／ｍｍ以上であるガラスからなるガラス板１１を作製する工程と、複数枚のガラス板１１を樹脂フィルム１２によって貼り合わせる工程とを有する放射線遮蔽物品１０の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．７０以上、アッベ数が５０以上であって、低温軟化性を有するとともに優れたガラス安定性を示す光学ガラスの提供。
【解決手段】屈折率が１．７０以上、アッベ数が５０以上であって、モル％表示にてＢ₂Ｏ₃を２０〜８０％、ＳｉＯ₂を０〜３０％、Ｌｉ₂Ｏを１〜２５％、ＺｎＯを０〜２０％、Ｌａ₂Ｏ₃を４〜３０％、Ｇｄ₂Ｏ₃を１〜２５％、Ｙ₂Ｏ₃を０〜２０％、ＺｒＯ₂を０〜５％、ＭｇＯを０〜２５％、ＣａＯを０〜１５％、ＳｒＯを０〜１０％含むとともに、前記成分の合計量が９７％以上、モル比[ＺｎＯ／（Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃）]が０．８以下、かつモル比[（ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃）]が０．８以下であり、任意成分としてＴａ₂Ｏ₅を含むことができ、かつモル比[（ＺｒＯ₂＋Ｔａ₂Ｏ₅）／（Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃）]が０．４以下である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】微粒且つ球状化した複数の元素を含むガラス粉末およびその製法を提供する
【解決手段】Ｓｉのアルコキシ化合物、Ｂ_２Ｏ_３およびＢａアルコキシ化合物を含むアルコール溶液を調製する工程と、前記アルコール溶液にアンモニア水を添加して反応溶液を調製して、該反応溶液中に前記Ｓｉ、ＢおよびＢａを含むガラス粉末を調製する工程と、該反応溶液を遠心分離して前記ガラス粉末を分離する工程と、遠心分離された前記ガラス粉末を乾燥する工程とを経て得られ、Ｓｉ、ＢおよびＢａの酸化物からなり、粒度分布における累積個数５０％における粒径Ｄ５０が３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、最長径をＬ、最短径をＳとしたときに、Ｌ／Ｓが１以上１．５以下である。 （もっと読む）

【課題】光学的処理によって検出可能であり、着色が低減されうるガラスセラミックまたはその前駆体ガラスを提供する。
【解決手段】光学検出可能な、フロート可能な、ヒ素およびアンチモンを含まないグレイザブルな、プレストレス可能であるリチウム−アルミノケイ酸ガラス、およびそれを変換したガラスセラミックが記載される。前記ガラスまたは前記ガラスセラミックは、実質的に以下の組成（酸化物を基準とする重量％）：ＳｉＯ_２ ５５〜６９、Ａｌ_２Ｏ_３ １９〜２５、Ｌｉ_２Ｏ ３．２〜５、Ｎａ_２Ｏ ０〜１．５、Ｋ_２Ｏ ０〜１．５、ＭｇＯ ０〜２．２、ＣａＯ ０〜２．０、ＳｒＯ ０〜２．０、ＢａＯ ０〜２．５、ＺｎＯ ０〜＜１．５、ＴｉＯ_２ １〜３、ＺｒＯ_２ １〜２．５、ＳｎＯ_２ ０．１〜＜１、ΣＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２＋ＳｎＯ_２ ２．５〜５、Ｐ_２Ｏ_５ ０〜３、Ｎｄ_２Ｏ_３ ０．０１〜０．６、ＣｏＯ ０〜０．００５、Ｆ ０〜１、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２を有する。 （もっと読む）

【課題】精密プレス成形によって高屈折率低分散ガラスからなる光学素子を高い生産性のもとに製造するための手段を提供すること。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．６５以上かつアッベ数（νｄ）が５０以上である精密プレス成形に使用される光学ガラス。ガラス転移温度（Ｔｇ）から屈伏点（Ｔｓ）までの温度域において、温度差ΔＴ（但し、ΔＴは１℃以下の一定値とする）に対するガラスの伸び量の差分が極大値を示す温度をＴ１とし、Ｔ１−５℃からＴ１＋５℃の範囲における平均線膨張係数をα１、ガラス転移温度（Ｔｇ）−１６０℃からガラス転移温度（Ｔｇ）−１４０℃に至る範囲における平均線膨張係数をα２としたとき、比率（α１／α２）が１７未満である。 （もっと読む）

【課題】優れた紫外線吸収特性を有する反射鏡基板及び反射鏡を提供すること。【解決手段】優れた耐熱性及び耐熱衝撃性を有するアルミノシリケートガラスに、Ｔｉ及びＣｅを含有させることで、紫外線吸収特性を有する反射鏡を得る。例えば、本発明に係る反射鏡基板は、アルミノシリケートガラスにおいて、ＴｉをＴｉＯ_２に、ＣｅをＣｅＯ_２に換算したとき、それぞれの含有率が
ＴｉＯ_２重量％≧−７×ＣｅＯ_２重量％＋３.５
ただし、ＴｉＯ_２重量％≧０、ＣｅＯ_２重量％≧０
なる範囲で表すことができる。 （もっと読む）

【課題】熔融性、熔融状態からガラスを成形する際の失透安定性、低着色性、加熱軟化して成形する際の失透安定性を同時に満足し得る高屈折率中分散特性を有する光学ガラスおよび前記ガラスからなる光学素子とその製造方法を提供すること。
【解決手段】質量％表示で、ＳｉＯ₂を２〜２２％、Ｂ₂Ｏ₃を３〜２４％、ＺｎＯを８％超３０％以下、ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯを１０〜５０％、ＭｇＯを０〜３％、Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋Ｙｂ₂Ｏ₃を１〜３３％、ＴｉＯ₂を２〜２０％、ＺｒＯ₂を０〜１０％、Ｎｂ₂Ｏ₅を２〜３２％、Ｌｉ₂Ｏを０〜５％、Ｎａ₂Ｏを０〜８％、Ｋ₂Ｏを０〜１０％、ＷＯ₃ を０〜２０％含み、かつ質量基準で、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃およびＹｂ₂Ｏ₃の合計含有量に対するＬａ₂Ｏ₃含有量の割合が０．７〜１の範囲であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】撮像、センサ、顕微鏡、医療機器、デジタル保護機器、フォトリソグラフィー、レーザ機器、ウェハー／チップ製造装置、遠距離通信、光通信技術、自動車光学・照明機器等の用途分野に有用であり、かつ１．８０≦ｎ_ｄ≦１．９５の屈折率及び１９≦ν_ｄ≦２８のアッベ数、及び優れた化学的安定性及び結晶化安定性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物を基準とする重量％で、Ｐ_２Ｏ_５ １４ − ３５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ４５ − ５０％、Ｌｉ_２Ｏ ０ − ４％、Ｎａ_２Ｏ ０ − ４％、Ｋ_２Ｏ ０．５ − ５％、ＢａＯ １７ − ２３％、ＺｎＯ ０．１ − ５％、ＴｉＯ_２ １ − ＜５％、ＺｒＯ_２ ０ − ６％、Ｓｂ_２Ｏ_３ ≧０．１ − ２％からなる光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】透明なガラスセラミックプレートと、不透明着色されたガラスセラミック調理プレートを提供する。
【解決手段】主結晶相が高石英混合結晶であり、酸化物換算の組成が質量で示して、４０〜４０００ｐｐｍのＮｄ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ ３．０−４．５（％、以下同じ）、Ｎａ_２Ｏ ０−１．５、Ｋ_２Ｏ ０−１．５、ΣＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．２−２．０、ＭｇＯ ０−２．０、ＣａＯ ０−１．５、ＳｒＯ ０−１．５、ＢａＯ ０−２．５、ＺｎＯ ０−２．５、Ｂ_２Ｏ_３ ０−１．０、Ａｌ_２Ｏ_３ １９−２５、ＳｉＯ_２ ５５−６９、ＴｉＯ_２ １−３、ＺｒＯ_２ １−２．５、ＳｎＯ_２ ０−０．４、ΣＳｎＯ_２＋ＴｉＯ_２ ＜３、Ｐ_２Ｏ_５ ０−３．０、Ｎｄ_２Ｏ_３ ０．０１−０．４、及びＣｏＯ ０−０．００４とする。さらに必要に応じて、プレートの一面の全表面または表面の一部に、不透明で温度安定な着色コーティングを施して調理プレートとする。 （もっと読む）

【課題】低融点化に効果があるとされるＰｂＯやＢｉ_２Ｏ_３を含まなくても、高硬度であ
りながら、ガラス転移点が相対的に低いため製造の容易な、高硬度酸化物ガラスガラス組
成物を提供すること。
【解決手段】Ｂ_２Ｏ_３、遷移金属酸化物、希土類酸化物からなる成分組成を有し、ビッカ
ース硬度Ｈｖが６００ｋｇ／ｍｍ^２以上であり、ガラス転移温度Ｔｇが７００℃以下であ
ることを特徴とする高硬度ガラス組成物。成分組成は、重量比で、Ｂ_２Ｏ_３を２０ｗｔ％
〜５０％、遷移金属酸化物を４ｗｔ％〜４５ｗｔ％、希土類酸化物を２０ｗｔ％〜６０ｗ
ｔ％が好ましい。 （もっと読む）

【課題】高品質の画面を実現することができるプラズマディスプレイパネル。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルを提供する。このプラズマディスプレイパネルのガラス材質の前面基板または第２誘電層の少なくとも１つの部材は、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、セレニウム（Ｓｅ）、鉄（Ｆｅ）、マンガン（Ｍｎ）、クロム（Ｃｒ）、バナジウム（Ｖ）、及びスカンジウム（Ｓｃ）からなる群より選択された１つ以上の遷移金属を含む遷移金属酸化物と、プラセオジミウム（Ｐｒ）、ネオジミウム（Ｎｄ）、サマリウム（Ｓｍ）、ティプロシウム（Ｄｙ）、及びホルミウム（Ｈｏ）からなる群より選択された１つ以上の稀土類元素を含む稀土類元素酸化物と、を含む。 （もっと読む）

【課題】溶融性と耐熱性に優れ、高い線膨張係数を有し、ＥＬ背面基板などに適する結晶性ガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％表示でＳｉＯ₂を１０〜２０質量％、Ａｌ₂Ｏ₃を１〜５質量％、Ｂ₂Ｏ₃を１０〜３０質量％、ＲＯを５０〜７０質量％（但しＲＯはＺｎＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、およびＢａＯからなる群から選ばれる少なくとも１種）、およびＲ_ＢＯ₂を０．５〜３質量％、（但しＲ_ＢＯ₂はＣｅＯ₂、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、およびＺｒＯ₂からなる群から選ばれる少なくとも１種）を含有するガラス組成物７１〜９５質量％と無機充填材５〜２９質量％の混合物を８５０〜９５０℃で焼成し結晶化させることを特徴とする結晶性ガラスセラミックス組成物であって、優れた溶融性と耐熱性を有しＥＬ背面基板、ＰＤＰ背面基板、磁気ヘッド基板、磁気ディスク、液晶基板等の各種電気機器分野に用いられる基板材料に好適である。 （もっと読む）

【課題】 オーバーフローダウンドロー工程以外の方法により製造できる、フラットパネルディスプレーデバイス用のパネルに使用するガラスを提供する。
【解決手段】 アルカリ金属酸化物を実質的に含まず、酸化物基準の重量パーセントで計算して、49％−58％のＳｉＯ₂、17.5％−23％のＡｌ₂Ｏ₃、０％−14.5％のＢ₂Ｏ₃、０％−８％のＭｇＯ、０％−９％のＣａＯ、0.4％−13.5％のＳｒＯ、および０％−21％のＢａＯから実質的になり、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの合計が13％−28％である組成範囲内の組成を有し、かつ、640℃より高い歪点、32−40×10^-7／℃の範囲にある線熱膨張係数、および95℃で５重量％の塩酸水溶液中に24時間に亘り浸漬した後の20ｍｇ／ｃｍ²未満の重量損失を有するアルミノケイ酸塩ガラスからなり、フロート工程を用いて延伸されている。 （もっと読む）

【課題】シリカのマトリックス中に比較的多くの炭素繊維を均一に分散した炭素繊維−シリカ複合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】炭素繊維とシリカとを含む炭素繊維−シリカ複合体の製造方法であって、少なくともアルコキシシラン、水および酸を含むゾル溶液に、炭素繊維を分散させ、かつ当該ゾル溶液を半ゲル化させる分散・半ゲル化工程（ステップＳ１０１、ステップＳ１０２）と、分散・半ゲル化工程（ステップＳ１０１、ステップＳ１０２）にて得られた混合物のゲル化を促進させるゲル化工程（ステップＳ１０３）と、ゲル化工程（ステップＳ１０３）により得られたゲルを加熱する加熱工程（ステップＳ１０４）とを含む。 （もっと読む）

【課題】視覚的に無秩序な光散乱（濁度）または固有色のないアルミノケイ酸リチウムガラスを提供する。
【解決手段】含量が０〜０．４のＳｎＯ_２、１．３〜２．７重量％のΣＳｎＯ_２＋ＴｉＯ_２、１．３〜２．５重量％のＺｒＯ_２、３．６５〜４．３重量％のΣＺｒＯ_２＋０．８７（ＴｉＯ_２＋ＳｎＯ_２）、０．０４重量％以下のＦｅ_２Ｏ_３、５０〜４０００ｐｐｍのＮｄ_２Ｏ_３、及び０〜５０ｐｐｍのＣｏＯのアルミノケイ酸リチウムガラスまたは対応するガラスセラミックが開示される。前記ガラスまたは前記ガラスセラミックは中間色であり、濁度が１％未満のヘイズ及び高い光透過を有する。前記ガラスのガラスセラミックへの変換に要するグレージング時間は２．５時間未満と特に短い。 （もっと読む）

【課題】既存のＰｂＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系のシースヒータモジュール密封素材の代わりとなり得る程度に類似した電気的特性及び物性を有するとともに、ＥＵのＷＥＥＥ及びＲｏＨＳ指針にも符合し得る電気電子用無機系絶縁素材として、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｃｒ^＋６などの規制成分が含まれていないシースヒータモジュール密封用高絶縁性の無鉛素材を提供する。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−Ｒ_２Ｏを基本組成とし、これにＡｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＢａＯ_２を添加してなる母物質を固化した後、粉砕して製造された成形粉末パウダーから構成されており、６．９±０．５ｇ／ｃｃの比重、４００°Ｃのガラス転移温度 、および７０〜１１０×１０^−７の熱膨張係数などの材料固有物性を有するとともに、常温において湿度及び露出時間と関係なしに∞ＭΩ値の絶縁特性などを発現するシースヒータモジュールの密封用高絶縁性の無鉛素材を構成する。 （もっと読む）

【課題】人体に有害な鉛を含むことなく、ステンレス製真空二重容器の封着に使用されるものとして、封着の際の熱処理によってもステンレス製真空二重容器の性質に悪影響を与えることなく、封着を確実に行い、且つフッ素塗装の焼成処理温度によっても封着が破れたりするのを確実に防止することができるステンレス製真空二重容器の封着用無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。
【解決手段】本発明のステンレス製真空二重容器の封着用無鉛ガラス組成物は、ステンレス製真空二重容器の排気口を真空封着するのに用いられる無鉛ガラス組成物であって、酸化物換算で、Ｂｉ_２Ｏ_３：７０〜８５重量％、Ｂ_２Ｏ_３：５〜１５重量％、ＺｎＯ：０．１〜７重量％、ＳｉＯ_２：１〜１０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：０．１〜６重量％、ＢａＯ：０．１〜６重量％を含有する組成としている。 （もっと読む）

【課題】ホウケイ酸ガラス中にフッ素雲母結晶が分散した快削性ガラスセラミックスにおいて、フッ素雲母結晶の成長を制御し、切削性、機械的強度を改善する。
【解決手段】フッ素以外は酸化物換算に基づく質量％で、ＳｉＯ_２：３５〜６０％、Ａｌ_２Ｏ_３：５〜２０％、ＭｇＯ：１０〜３５％、Ｋ_２Ｏ：５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３：２〜１０％、ＺｒＯ_２：０〜１０％およびＦ：１〜１５％の組成をなすように調整された原料配合物から得られたガラス体を、不活性ガスまたは不活性ガスと酸素との混合ガスを圧力媒体とする熱間等方圧プレス（ＨＩＰ）法により結晶化熱処理する。ＨＩＰ処理は５０ＭＰａ以上で６５０〜８５０℃の温度の第１段(結晶核生成)と、８０ＭＰａ以上で９００〜１１００℃の第２段(結晶成長)とで行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】非鉛ガラスにおいて、６００℃以下の温度で焼成することができ、ガラス基板に適合する熱膨張係数と優れた耐酸性を有する誘電体層を形成することが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体材料を提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、ＺｎＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系ガラス粉末を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体材料において、該ガラス粉末が、実質的にＰｂＯを含有せず、ＴｉＯ₂を含有するガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）