本発明のプラズマ発生電極は、互いに対向する二つ以上の、長方形の表面及び四つの端面を有する板状の単位電極２と、単位電極２を、単位電極２の四つの端面に対応した四つの端部のうち、一組の互いに平行な端部（一組の端部）の少なくとも一方（固定端６）を保持する保持部材５とを備えたプラズマ発生電極であって、互いに対向する単位電極２の少なくとも一方が、セラミック体３と導電膜４とを有する導電膜配設電極８であるとともに、導電膜配設電極８の四つの端部うち、一組の端部に隣接する他の一組の互いに平行な端部（他の一組の端部９）側における、導電膜４の先端からセラミック体３の先端までの距離ａ（ｍｍ）と、セラミック体３の厚さｃ（ｍｍ）とが、（ｃ／２）≦ａ≦５ｃの関係を満たすプラズマ発生電極であり、熱衝撃による破損を有効に防止することができる。 （もっと読む）

微粒子を製造する方法であって、該方法は、（ａ）システムを用意する工程を備え、該システムは、（ｉ）液体を収容する容器と、（ｉｉ）少なくとも第１の電極対と、（ｉｉｉ）前記第１の電極対間に電気アークを生じさせる機構を備え、（ｂ）更に前記方法は、前記第１の電極対を前記液体中に配設する工程と、（ｃ）前記電極対間で少なくとも１回のパルス放電を行い、プラズマ泡を生じせしめ、微粒子を作り出す工程を備え、該微粒子は、前記プラズマ泡に付随して生じ、前記パルス放電は、１０００μ秒以下のパルス持続時間を備えるとともに少なくとも１アンペア（Ａ）の電流振幅であることを特徴とする方法である。
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本発明は、プラズマ処理と、プラズマ処理済み粉末に対する超音波処理と、を組み合わせたような、粉末の球状化焼鈍や高密度化や精製のためのプロセスに関するものである。超音波処理により、プラズマによって溶融して部分的に蒸発した粉末から、『煤塵』とも称されるような、ナノサイズの凝結粉末を分離することができる。また、このプロセスを使用することにより、ナノ粉末を合成することができる。この場合、供給材料を部分的に蒸発させ、その後に、蒸気クラウドの迅速な凝縮を行い、これにより、ナノ粉末からなる微細エアロゾルを生じさせる。後者の場合、超音波処理ステップは、部分的に蒸発した材料から、形成されたナノ粉末を分離するように作用する。
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本発明のプラズマ発生電極１は、互いに対向する二以上の電極２と、電極２のそれぞれを所定間隔に隔てて保持する保持部材３とを備えてなり、電極２相互間に電圧を印加することによってプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極１であって、互いに対向する電極２のうちの少なくとも一方が、誘電体となる板状のセラミック体６と、セラミック体６の内部に配設された導電膜７とを有するとともに、保持部材３が、対向する電極２のそれぞれの反対側の端部５（固定端部５ａ）を片持ち梁の状態で固定して、全体として電極２のそれぞれを、互い違いに向きの異なった片持ち梁の状態で、所定間隔に隔てて保持している。このため、熱応力が緩和され、温度変化による電極の歪みや破損を有効に防止することができる。 （もっと読む）

本発明のプラズマ発生電極１は、複数の単位電極２が所定間隔を隔てて階層的に積層され、単位電極２が、導電膜４を欠落した部分を有する欠落単位電極２ｂと、欠落した部分を有しない通常単位電極２ａとから構成されてなり、各単位電極２間に形成される空間Ｖが、導電膜４間の距離が単位電極２相互間の距離となるように形成された通常空間Ｖａと、通常単位電極２ａ相互間に、導電膜４間の距離が通常空間Ｖａにおける導電膜４間の距離よりも長くなるように形成された欠落空間Ｖｂとから構成されている。本発明のプラズマ発生電極１は、被処理流体を一度流すだけで、含有される複数の所定成分を、それぞれの反応に適した複数の異なるプラズマにより、効率的に処理することができる。 （もっと読む）

【課題】処理対象ガスに窒素が含まれていてもＰＦＣの分解率が高く、ＮＯ_Ｘの生成量が少なく、大気圧下で使用可能な排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】ＰＦＣガスと窒素ガスとからなる排ガスを処理し、排ガス中のＰＦＣを分解する排ガス処理装置であって、処理対象の排ガスに炭化水素や水素、アンモニアなど水素原子を有する添加ガスを供給する添加ガス供給装置、および添加ガスを含んだ排ガスをプラズマ処理するプラズマチャンバーを有する。添加ガス供給装置をプラズマチャンバーの下流に設け、プラズマ処理後の排ガスに添加ガスを供給するように構成してもよい。 （もっと読む）

【課題】空間的に均一な密度のプラズマを生成することができるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】真空容器１１内に複数個の高周波アンテナ１６を配置し、各高周波アンテナ１６にインピーダンス素子１７を接続する。高周波電源２０に、銅板１８を介して複数の高周波アンテナ１６を並列に接続する。各インピーダンス素子１７をそれぞれ適切な値に調節することにより、高周波電源２０から各高周波アンテナ１６に供給される高周波電力を制御する。これにより、真空容器１１内のプラズマ密度の均一性を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】 メインテナンス後に再装着しても割れることのない電極板を有するプラズマ装置を提供する。
【解決手段】 電極支持体２２と電極板２３との境界面の少なくとも片方に，薄い絶縁被膜６２を設け，電極支持体２２と電極板２３との直接の接触を避け，絶縁被膜の厚さを調整して，融着を防止しつつ性能を保持したプラズマ装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】 真空ポンプを損傷させず整備、点検の容易で且つ燃焼処理を必要としないＰＦＣの処理方法および処理装置を提供する。
【解決手段】 真空室１２の後段には配管１４を介して真空ポンプ１６と反応ガス導入部１７とプラズマ処理部１８と重合体回収部２０とが連続して設置され、処理装置１０を構成する。このように処理装置１０を構成すれば、プラズマ処理後の反応物が真空ポンプを通過することがなく、反応物によって真空ポンプが損傷するのを防止することができる。またプラズマ処理を行う部分については大気圧の環境に設置されるため、プラズマ処理部の整備や点検を容易に行うことができる。また混合ガスをプラズマ処理することによって重合体を生成するので、当該重合体を回収するだけでＰＦＣの処理を済ませることができる。 （もっと読む）

【課題】 絶縁保持が効果的になされ、もれ電流を最小化することができる局所処理装置を提供する。
【解決手段】 外部からの電磁的遮蔽をなすケーシングを有する。前記ケーシングの管通路上に放電管を設ける。前記放電管の一端をガス供給源に接続して放電管内に処理用気体を導入可能とする。前記放電管の他端にノズルを脱着自在に連結して、当該ノズルより処理用気体を外部に放出可能とする。前記放電管を挟むように一対の電極を対向配置して、当該電極の一方にリードの一端を接続し、当該リードの他端をケーシング部材外部の高周波電力源に接続して伝導経路を形成しする。これにより、ケーシング内を密閉空間とするとともに前記伝導経路の周囲に中空部分を設けて絶縁空間を形成した。 （もっと読む）