エチレンをエチレンオキシドに酸化するための反応器系。前記反応器系は触媒成分を含有し得る成形支持体材料の充填層を収容している反応管を含む。前記成形支持体材料は中空円筒形幾何学的構造を有する。前記反応器系は反応管と触媒系形状寸法の特定組合せを有する。
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本発明は、水素ガス、特に合成ガスを生成するための方法、装置、および装置の製造方法を開示する。本発明によれば、片面にＴｉＯ_２薄膜で処理されているアルファアルミナ膜を含み、反対面に活性ガンマアルミナ層を有する。金属触媒、好ましくは、ロジウムが、アルミナの細孔中に沈着される。酸素はこの膜を通って進行し、活性化され、その後この膜の他方の面上でメタンと接触し、メタンの部分酸化を通して合成ガスを形成する。本発明の実施形態は種々の利点を有する。すなわち、酸素の高い転化率（１００％）、爆発の危険をともなわずに最適比を用いることを可能にする、メタンと酸素との別々の供給原料ストリーム、および形成された生成物を交換することなく供給率を変える機会等である。 （もっと読む）

使い捨て可能な可撓性容器１０は第２のチャンバ１２から第１のチャンバ１１を分離する隔壁５００を備える。隔壁に流体を流すことによって、流体は第１のチャンバから第２のチャンバに移動するにつれて処理される。特定の構成の隔壁によって、流体の混合、反応、加熱、及び冷却のほか濾過などの処理が可能となる。
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【課題】製造が容易、且つ反応や分析の工程数や量を制限しないマイクロ流体システム用支持ユニットを提供する。
【解決手段】第一の支持体２と、この第一の支持体２の表面に設けられた第一の接着剤層１ａと、第一の接着剤層１ａの表面に任意の形状に敷設された複数の中空フィラメント５０１〜５０８からなる第一の中空フィラメント群と、この第一の中空フィラメント群に直交する方向に敷設された複数の中空フィラメント５１１〜５１８からなる第二の中空フィラメント群と、この第二の中空フィラメント群の表面に設けられた第二の接着剤層１ｂと、第二の接着剤層１ｂの表面に設けられた第二の支持体６とを備える。第一及び第２二の中空フィラメント群は、流路層を構成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、微小な多孔質部をその一部に有するフィルム状の部材や、多孔質部を有する非常に薄くかつ柔軟なフィルム状の部材を工業的に安定した方法で精度良く他の部材に積層し固着して、多孔質部を有するマイクロ流体デバイスを製造する方法を提供する。
【解決手段】 塗工支持体上に活性エネルギー線硬化性組成物を塗工し、部材の少なくとも一部に部材の表裏に達する細孔からなる多孔質部を有する硬化又は半硬化状の塗膜から成る第一部材を形成する工程、表面に達する流路となる欠損部を有する第二部材の前記欠損部の少なくとも一部に、第一部材の多孔質部を重ねるように積層し固着する工程、及び塗工支持体を第一部材から除去する工程を含む、流路と該流路と接続された多孔質部を有するマイクロ流体デバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】プロセスエンジニアリング工業及び環境保護において、蒸留の様な物理的プロセスを、第２機能としての化学的、生物学的または他の物理的プロセスと一緒に１つのプロセスユニットにて同時に実施する事がコスト的にも、時間的にも有利である。
【解決手段】特殊構造を有する有能な多目的パッキングは少なくとも２倍の機能性を有すると共に交互の層で設けられた物質分離要素と第２機能性要素とを内蔵し、物質分離要素はプロフィルド表面を有すると共に第２機能性要素のそれぞれは相互の頂部に設けられた２つもしくはそれ以上の閉鎖チャンバを有して第２機能性に関し物理的、化学的もしくは生物学的に活性なパッキング材料が充填される。 （もっと読む）

【技術課題】 基板に損傷や表面汚染を与えることなく、エッチングや成膜が行え、チャンバや電極等の構造は同一であるにも拘らず、導入するガスやプラズマ励起周波数を変えることにより、エッチングや成膜にも応用可能であり、生産性に優れるとともに、低価格で高性能なプラズマプロセス用装置を提供すること。
【解決手段】 容器内105に対向するように設けられ夫々平板状に形成された第１及び第２電極102，104と、プラズマに対して安定な材料から成り第１電極102上を覆うように設けられる保護部材101と、第２電極104上に被処理物103を取り付けるための保持手段と、第１電極102に接続される第１の高周波電源111と、第２電極104に接続される第２の高周波電源110と、容器105内に所望のガスを導入するためのガス供給手段とを少くとも備え、第１の高周波電源の周波数が前記第２の高周波電源の周波数より高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 メインテナンス後に再装着しても割れることのない電極板を有するプラズマ装置を提供する。
【解決手段】 電極支持体２２と電極板２３との境界面の少なくとも片方に，薄い絶縁被膜６２を設け，電極支持体２２と電極板２３との直接の接触を避け，絶縁被膜の厚さを調整して，融着を防止しつつ性能を保持したプラズマ装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】 絶縁保持が効果的になされ、もれ電流を最小化することができる局所処理装置を提供する。
【解決手段】 外部からの電磁的遮蔽をなすケーシングを有する。前記ケーシングの管通路上に放電管を設ける。前記放電管の一端をガス供給源に接続して放電管内に処理用気体を導入可能とする。前記放電管の他端にノズルを脱着自在に連結して、当該ノズルより処理用気体を外部に放出可能とする。前記放電管を挟むように一対の電極を対向配置して、当該電極の一方にリードの一端を接続し、当該リードの他端をケーシング部材外部の高周波電力源に接続して伝導経路を形成しする。これにより、ケーシング内を密閉空間とするとともに前記伝導経路の周囲に中空部分を設けて絶縁空間を形成した。 （もっと読む）