Fターム[4G169BA01]の内容
Fターム[4G169BA01]に分類される特許
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ヒ素および1以上の他の金属化合物を炭化水素供給原料から除く方法並びに触媒
本発明は、ヒ素および1以上の他の金属化合物、たとえばケイ素、バナジウムおよびニッケルを炭化水素供給原料から除く方法並びに触媒に関する。触媒は担体上にモリブデン化合物およびニッケル化合物を含む。触媒は少なくとも200m2/gの表面積を持つ。汚染物質の除去と並んで、触媒は水素化脱硫、水素化脱窒素および/または水素化にも適している。 (もっと読む)
膜装置、および膜を調製する方法、および水素を生成する方法
本発明は、水素ガス、特に合成ガスを生成するための方法、装置、および装置の製造方法を開示する。本発明によれば、片面にTiO2薄膜で処理されているアルファアルミナ膜を含み、反対面に活性ガンマアルミナ層を有する。金属触媒、好ましくは、ロジウムが、アルミナの細孔中に沈着される。酸素はこの膜を通って進行し、活性化され、その後この膜の他方の面上でメタンと接触し、メタンの部分酸化を通して合成ガスを形成する。本発明の実施形態は種々の利点を有する。すなわち、酸素の高い転化率(100%)、爆発の危険をともなわずに最適比を用いることを可能にする、メタンと酸素との別々の供給原料ストリーム、および形成された生成物を交換することなく供給率を変える機会等である。 (もっと読む)
金属ヒドロキシ塩を含む組成物、その製造および触媒または吸着剤としての使用
1以上の金属ヒドロキシ塩および、マトリックス、バインダーまたは担体物質を含む組成物において、金属ヒドロキシ塩が、(a)金属としての(i)1以上の2価金属、それらの少なくとも1はNi、Co、Ca、Zn、Mg、Fe、およびMnから成る群から選択される、または(ii)1以上の3価金属、のいずれか、(b)骨組としてのヒドロキサイド、および(c)置き換え可能なアニオンを含む化合物であるところの組成物。この組成物は、種々の触媒用途を有する。 (もっと読む)
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