【課題】 シリコン基板およびガラス基板をエッチングせずに、アルミナ粒子、シリカ粒子又は窒化ケイ素粒子からなる粒子の除去能力が高く、金属汚染についても除去することができる洗浄液を開発する。
【解決手段】 １分子中にスルホン酸基を少なくとも２以上有する化合物、フィチン酸および縮合リン酸化合物からなる群から選択される１種または２種以上と、無機酸と、水とを含有してなる、半導体基板浄液組成物。
スルホン酸基を有する高分子化合物、フィチン酸および縮合リン酸化合物からなる群から選択される１種または２種以上と、無機酸と、水とを含有してなる半導体基板浄液組成物で半導体基板を洗浄する第一の工程と、第一の工程に引き続いて、純水あるいはオゾンガスを溶解したオゾン水または過酸化水素水にて、当該半導体基板を洗浄する第二の工程とからなる、半導体基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 抗菌性及び臭気抑制効果がある衣料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 ポリヘキサメチレングアニジン燐酸塩を衣料用洗浄剤に添加することにより、細菌類の繁殖を抑制し、臭気の発生を抑制することができる。また本剤は皮膚への刺激がなく、安心して使用することが可能である。 （もっと読む）

洗浄性酸素系漂白剤の実質的な非存在下において向上した漂白性汚れ除去性を発揮する洗浄剤組成物を開示する。本組成物は、従来の洗浄マトリクス成分に加えて、特定のホスホネート成分と特定のイヌリン誘導体の組み合わせからなる２成分系を含む。 （もっと読む）

【課題】 皮膚刺激性が低く、高起泡性の洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】 （ａ）式（１）で表されるリン酸モノエステル又はその塩、（ｂ）式（２）で表されるリン酸ジエステル又はその塩及び（ｃ）式（３）で表されるアルキルエトキシレート硫酸エステルを特定割合で含有し、かつイオン交換水で５重量％濃度に希釈した時のｐＨが４．５〜６．５の弱酸性である皮膚洗浄剤組成物。
【化１】


【化２】


【化３】


〔式中、Ｒ¹は平均炭素数９〜１５で分岐率１０％以上のアルキル基又はアルケニル基、Ｒ²は平均炭素数１０〜１８のアルキル基又はアルケニル基、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³はＨ又はアルカリ金属、Ｘ⁴はアルカリ金属、ｎは０〜５の数、ｍは０〜１０の数である。〕 （もっと読む）

自動洗濯機で布地を処理するための、油及び特定の乳化剤系を含むマイクロエマルションの使用を開示する。また、液滴寸法 d₅₀ が 500 nm 未満であり、特定成分を含む、布地処理剤を開示する。前記布地処理剤及びマイクロエマルションは、安定であり、洗濯機の石鹸収納室から容易に溶け出し、冷水にも容易に分散できる。 （もっと読む）

ビスコリンおよびトリスコリン化合物に基づいた新規洗浄化学が、基板のエッチングを最小限に抑えながらフォトレジストおよびフラックスを除去することを目的として提供される。 （もっと読む）

Ｎ−アシル基の分子構造が共通である、Ｎ−アシルアスパラギン酸またはその塩と、Ｎ−アシル−ジアスパラギン酸またはその塩、および、前記Ｎアシル残基と共通のアルキル基を有する高級脂肪酸又はその塩を組み合わせて配合することを特徴とする、クリーミーな泡立ち、優れた洗浄力を有し、洗い流した後の肌のつっぱり感もなく、さっぱりした肌の感触のが得られ、かつ、保存安定性にも優れ、長期保存期間中にも、物性の低下、析出物の生成、黄変が見られない洗浄剤組成物。 （もっと読む）