Fターム[4H050BB40]の内容
第5−8族元素を含む化合物及びその製造 (19,778) | 反応媒体、分離・精製・回収用溶媒 (1,406) | プロトン性 (4)
Fターム[4H050BB40]に分類される特許
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改良された重合性組成物
【課題】ホスホアルキル(メタ)アクリラートモノマーを含む重合性組成物を製造する方法に関する。
【解決手段】重合性溶媒もしくはプロトン性有機溶媒のいずれかである少なくとも1種の溶媒の存在下で、少なくとも1種のヒドロキシアルキル(メタ)アクリラートと少なくとも1種のポリリン酸(PPA)とを反応させることを含む、改良された重合性組成物を製造する。
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CPT阻害剤としての4−トリメチルアンモニウム−3−アミノブチレートおよび4−トリメチルフォスフォニウム−3−アミノブチレート誘導体
本発明は、カルニチンパルミトイルトランスフェラーゼ (CPT) を阻害することができる、式(I)を有する新規なクラスの化合物を提供する。本発明はまた、本発明による少なくとも一つの新規化合物を含む医薬組成物、および糖尿病などの高血糖状態およびそれに関連する病態、例えばうっ血性心不全および肥満症の処置におけるその治療上の使用にも関する。
(I)
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金属錯体の製造方法
次の一般式(I)の化合物と2座配位子Lと反応する工程を含む一般式M(Ar1Ar2)nLの金属錯体を形成する方法であって、
【化1】
ここで、Ar1及びAr2は、それぞれ独立して選択的に置換されたアリール又はヘテロアリールである。Ar1−Ar2は、MとAr1−Ar2カルバニオンの反応によって少なくとも1つの炭素−M結合を形成する。ここで、Mはイリジウム、ロジウム、プラチナ又はパラジウムである。Halはハロゲンであり、nはMの価数を満足するのに必要な価数を有する1〜3の数字であり、一般式(I)の化合物のハロゲンの架橋を破壊することができるイネーブリング配位子の存在下で反応が行われることを特徴とする方法。
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イリジウム(III)ケトケトネートの製造方法
ロジウム(III)−及びイリジウム(III)ケトケトネートの製造方法。本発明は、各種のオルガノ−ロジウム化合物及びオルガノ−イリジウム化合物の出発化合物として用いられるロジウム化合物及びイリジウム化合物の製造方法に関する。この反応は、ロジウム(III)又はイリジウム(III)塩から始まり、かつ異なる溶媒又は溶媒混合物が用いられる2工程で行われる。 (もっと読む)
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