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Fターム[4J011VA03]の内容

重合方法(一般) (57,023) | 照射重合時の形態、照射条件 (1,265) | ガス状モノマーへの照射により基板上へ重合被膜形成 (6)

Fターム[4J011VA03]に分類される特許

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【課題】被処理物を異なる寸法のものに変更する際、反応ガスノズルの交換作業を省略する。
【解決手段】被処理物9を、表面処理装置1の支持部10の円筒ロール11,12によって支持する。反応ガスノズル20と円筒ロール11の周面(支持面)との間の処理空間90に、反応ガスノズル20の吹出し口29から重合性モノマーを含有する反応ガスを吹き出す。反応ガスノズル20の端部分の好ましくは側部に希薄化ノズル30を設ける。希薄化ノズル30を排気手段3又は希釈ガスの供給手段4に接続する。被処理物9の処理幅方向の幅寸法に応じて希薄化ノズル30を操作し、処理空間90における端側空間部92の反応ガスを中央空間部91より希薄にする。 (もっと読む)


【課題】設置面積が小さく、処理時間が短い、内部を汚染させ難い膜形成装置を提供する。
【解決手段】真空ポンプPに通じる配管81が接続される排気口8を有する真空チャンバ1と、この排気口が形成された真空チャンバの壁面を下とし、この真空チャンバ下部に配置され、基板Wを保持すると共にこの基板の冷却を可能とするステージ2と、真空チャンバ内に、原料有機分子を気化させて導入し得る原料導入手段4と、原料導入手段を介して真空チャンバ内に導入された原料有機分子を基板表面に堆積させた後、基板上方に対向配置されてこの堆積した原料有機分子に光を照射して重合反応を引き起こす光照射手段3とを備える。原料導入手段は、照射面を囲う環状のシャワーヘッド43を有し、このシャワーヘッドから噴出された原料有機分子を基板表面へと導くガイド手段5を設けた。 (もっと読む)


【課題】優れたエッチング選択性及び微細加工性を示し、高密度プラズマ下においてもエッチング速度とエッチング選択性のバランスに優れたドライエッチングが可能であり、また、加熱処理を施しても応力緩和の小さいフルオロカーボン膜を成膜可能なプラズマ反応用ガスを提供すること。
【解決手段】パーフルオロ−(3−メチレンシクロペンテン)を含有してなるプラズマ反応用ガス。 (もっと読む)


【課題】溶媒を使用しない方法、および複雑な幾何形状の基板の形状に完全に適合し、かつイオン伝導特性が良好である燃料電池用非架橋イオン伝導性膜を提供する。
【解決手段】それぞれが、少なくとも1つの重合可能な基と、ホスホニルエステル、アシルエステル、スルホニルエステル、ハロゲン化カルボニル、またはハロゲン化チオニルによって形成される基から選択されるイオン伝導性官能基の少なくとも1つの前駆体基とを含む少なくとも2つの同一または異なる重合可能なモノマーをプラズマ化学蒸着させることによって燃料電池のイオン伝導性高分子膜を製造する。 (もっと読む)


【課題】 基板を大気圧プラズマ技術により被覆する方法を提供する。
【解決手段】 前記方法は、基板(1)を準備し、ガスの存在下に大気圧プラズマ放電を作り、基板を前記大気圧プラズマ放電に少なくとも部分的に露出し、被膜形成物質の液体エーロゾル(6)を前記大気圧プラズマ放電中に導入し、それにより基板上に被膜を形成し、基板を紫外光に露出することにより基板及び被膜を硬化することを含む。 (もっと読む)


【課題】プラズマ重合により、より低い誘電率の膜を製造する方法およびより低い誘電率の高分子膜を提供すること。
【解決手段】式(1)で示される化合物のガスを含む混合ガスを減圧下の反応室に供給する工程と、反応室内に形成されたプラズマ中を通過させることにより反応室内に設置された基板表面に前記ガスを吹き付けて、前記有機化合物を骨格に含む高分子膜を基板表面上に成長させる工程とを含む高分子膜の製造方法。該製造方法により得られる高分子膜。


(PCAは炭素原子数7以上のポリシクロ脂肪族炭化水素基。ALKは炭素原子数1〜10の二価の脂肪族炭化水素基。mは1または2。nは0または1。R1およびR2は炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数2〜6のアルケニル基、炭素原子数2〜6のアルキニル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数6〜10のアリール基または炭素原子数6〜10のアリールオキシ基。) (もっと読む)


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