Fターム[4J034GA34]の内容
ポリウレタン,ポリ尿素 (161,625) | 活性水素含有炭素−炭素不飽和高分子化合物 (799) | 炭素−炭素不飽和化合物の付加系不飽和高分子 (582) | 付加系高分子の活性水素基 (159) | N含有基 (11)
Fターム[4J034GA34]の下位に属するFターム
アミン (7)
Fターム[4J034GA34]に分類される特許
1 - 4 / 4
湿気硬化型樹脂組成物
【課題】低毒性な湿気硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】その分子内に、一般式(1)で示される含珪素特性基を有する硬化性シリコーン系樹脂(A)と、一般式(2)で示されるシリケート化合物等のシラン化合物(B)と、加水分解触媒としての三フッ化ホウ素および/またはその誘導体(C)とからなることを特徴とする湿気硬化型樹脂組成物を用いる。
・・・(1)(ただし、R1,R2は炭素数1または2の炭化水素基を、nは1、2または3を示す)
・・・(2)(ただし、R3は炭素数3または4の炭化水素基を示す)
(もっと読む)
エラストマー改質ケミカルメカニカル研磨パッド
【課題】 半導体、光学及び磁性基材の少なくとも一つを研磨するのに適したケミカルメカニカル研磨パッドを得る。
【解決手段】 研磨パッドは、エラストマー性ポリマーを中に分散させたポリマーマトリックスを含む。ポリマーマトリックは、室温を超えるガラス転移温度を有し、エラストマー性ポリマーは、少なくとも一つの方向に少なくとも0.1μmの平均長さを有し、研磨パッドの1〜45容量%を構成し、室温未満のガラス転移温度を有する。研磨パッドは、エラストマー性ポリマーなしのポリマーマトリックスから形成された研磨パッドと比較して増大したダイヤモンドコンディショナ切削レートを有する。
(もっと読む)
ブロックイソシアネートをベースとする系のための光潜在性塩基
本発明は、(a)光潜在性塩基;(b)ブロックイソシアネート又はブロックイソチオシアネート、及び(c)水素供与体化合物を含む組成物;ならびにその用途に関する。 (もっと読む)
被覆磁性粒子の調製方法
超常磁性結晶を含む被覆ポリマー粒子の調製方法であって、超常磁性結晶を含む直径0.5〜1.8μmの多孔性表面官能化ポリマー粒子を、少なくとも1つのポリイソシアネート及び少なくとも1つのジオール又は少なくとも1つのエポキシドと反応させることを含む方法である。 (もっと読む)
1 - 4 / 4
[ Back to top ]