【課題】本発明は、高エネルギー線、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なラインウィズスラフネス、プロセスマージンを同時に満足するレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。
【解決手段】架橋反応によりネガ化する、ネガ型化学増幅レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、該膜を露光する工程、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程をこの順で有するレジストパターンの形成方法において、現像液が有機溶剤として、露光前のレジスト膜に対して良溶媒となる溶剤（Ｓ−１）及び露光前のレジスト膜に対して貧溶媒となる溶剤（Ｓ−２）を含有し、沸点について、溶剤（Ｓ−２）＞（Ｓ−１）の関係を満足することを特徴とするレジストパターン形成方法及びそれに用いる現像液を提供する。 （もっと読む）

スルホニルアジド基ではない１つ以上のアジド基を含むフルオロポリマー、及びその調製プロセス。
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【課題】水系分散体組成物に配合され、優れた揺変性を発現しつつ、その分散体を十分に分散させたままで維持させることができ、面倒な中和操作を必要とせず、長期間安定で、高分子量であっても粘度を低下させず共存する被膜形成樹脂成分への相溶性に優れた揺変剤と、それが含まれている水系分散体組成物とを、提供する。
【解決手段】水系分散体組成物用の揺変剤は、下記化学式
Ｈ_２Ｃ＝(Ｒ^１)Ｃ−ＣＯＯ(Ｃ_ｍＨ_２ｍＯ)_ｎ−Ｒ^２
（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基、Ｒ^２は炭素数８〜２２の脂肪族炭化水素基、ｍは２〜４の数、ｎは１〜１００の数。）で表されるアルコキシポリオキシアルキレングリコール（メタ）アクリレートモノマーの重合物で、その数平均分子量が、３,０００〜１,０００,０００である。水系分散体組成物は、この揺変剤と、被膜形成成分とが、含まれている。 （もっと読む）

【課題】 生産性に優れ、耐溶剤性の良好なグラフト化ポリビニルアセタールの製法を提供すること。
【解決手段】エチレン性不飽和単量体をビニルアルコール系重合体の１〜２５重量％水溶液中で、ビニルアルコール系重合体にグラフト重合し、次いで酸触媒およびアルデヒドの存在下にアセタール化することを特徴とするグラフト変性ポリビニルアセタールの製法。 （もっと読む）

【課題】不飽和二重結合を有し変性ポリビニルアルコールを含む感光性組成物の提供。
【解決手段】分子主鎖中に、一般式で表される不飽和二重結合を有する結合単位を含有する変性ポリビニルアルコールを含む感光性組成物。
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【課題】ポリビニルアルコールを原料として使い，複数の水酸基（ＯＨ基）がチオール基（ＳＨ基）に変換されていて，かつ，水や有機溶媒に可溶な複数のチオール基を有するポリビニルアルコール（PVASHs)を製造すること。
【解決手段】ポリビニルアルコールに対して臭化水素酸などの酸溶液とチオ尿素などのチオール化剤の使用量を一定範囲の組成比で使用し，これら混合物を窒素など不活性気体の下，加熱撹拌した後，アルカリで中和，ついでチオールや硫化化合物とともに処理せしめることによってPVASHsの水性媒体溶液を効率よく製造した。PVASHsの水性媒体溶液を酸素をできるだけ排除した雰囲気にて乾燥したり凍結乾燥することによってフィルム，ゲル，粉体とすることができた。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどに用いられる誘電率、機械強度等の膜特性が良好な絶縁膜、さらには該絶縁膜の形成に用いる膜形成用組成物および該絶縁膜を有する電子デバイス等を提供する。
【解決手段】カゴ型構造を有する化合物と有機溶媒とを含有する膜形成用組成物を用いて形成され、ガラス転移温度が３００℃以上であることを特徴とする絶縁膜、該絶縁膜を有する電子デバイス、カゴ型構造を有するモノマーの重合体でありガラス転移温度が２００℃以上であることを特徴とする化合物、該化合物と有機溶媒とを含有する膜形成用組成物、該膜形成用組成物を用いて形成したガラス転移温度が３００℃以上である絶縁膜、該絶縁膜を有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】 重合時のエマルジョンの安定性が良好、かつ生成したエマルジョンの凝集物が少ない反応性界面活性剤を提供することである。
【解決手段】 下記一般式（１）で表わされる反応性界面活性剤である。
Ｒ^１Ｃ_６Ｈ₄Ｏ（Ａ^１Ｏ）ｋ（Ａ^２Ｏ）ｍ（Ａ^３Ｏ）ｎＣＯＣＲ^２＝ＣＨＲ^３ （１）
（式中、Ｒ^１は炭素数１〜１２のアルキル基または水素原子、Ｒ^２およびＲ^３は水素原子またはメチル基、Ａ^１およびＡ^３は炭素数２〜４のアルキレン基、Ａ^２は炭素数５〜２２である直鎖の１，２−アルキレン基を表わし、ｋは平均が１〜５００の１以上の整数、ｍは平均が１〜３の１以上の整数、ｎは平均が０〜５の０または１以上の整数を表わす。） （もっと読む）

【課題】新規な、ペルフルオロ（２−アルキリデン−１，３−ジオキソラン）構造を有する化合物およびペルフルオロ（２−アルコキシメチレン−１，３−ジオキソラン）構造を有する化合物、ならびに、これらの化合物が重合したモノマー単位を含む新規な含フッ素重合体を提供する。
【解決手段】下式（ａ）で表される化合物、および該化合物が重合したモノマー単位を含む含フッ素重合体。ただし、Ｙ^Ｆは、炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基または炭素数１〜３のペルフルオロアルコキシ基である。Ｒ^Ｆ１、Ｒ^Ｆ２、Ｒ^Ｆ３およびＲ^Ｆ４は、それぞれ独立に、フッ素原子、フルオロスルホニル基または式−Ｑ^ＦＸで表される基である。Ｑ^Ｆは、炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基または炭素数２〜６のペルフルオロ（アルキレンオキシアルキレン）基である。Ｘは、フッ素原子またはフルオロスルホニル基である。
【化１】
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