【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、又は炭素数２〜１０のアルケニル基で、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。Ｒ³はフッ素原子又はトリフルオロメチル基、ｍは１〜５の整数。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位ａを含む、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。
【化１】
（もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩を含有する高分子化合物。


【効果】上記繰り返し単位を含有する高分子化合物を感放射線レジスト材料のベース樹脂として用いた場合、高い解像性能を発揮し、パターンのＬＥＲが小さく仕上がる。 （もっと読む）

【課題】高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベース樹脂として、少なくともフェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物を含むものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【化８５】
（もっと読む）

【課題】高感度および高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すポジ型レジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、これを用いたポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベース樹脂として、少なくともフェノール性水酸基の水素原子が下記一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている高分子化合物を含むものであることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【化８６】
（もっと読む）

【課題】新規芳香族オリゴマーを提供する。この芳香族オリゴマーはエポキシ樹脂組成物の改質剤として有用であり、成型性、低吸湿性、高耐熱性、異種材料との密着性に優れ、更に電気絶縁性に優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物とすることができる。
【解決手段】下記一般式（１）で表される単位を全体の１０〜９５モル％含有し、且つ数平均分子量が１００００以下である芳香族オリゴマーである。また、アルケニルベンゼン類、インデン類及びクマロン類から選ばれる芳香族オレフィン１０〜９５モル％とハロメチルスチレン類５〜９０モル％とをカチオン重合してオリゴマーを得、次いでこれをチオウレアと反応させる芳香族オリゴマーの製造方法である。
（もっと読む）

【課題】多層レジストプロセス用、特には２層レジストプロセス用又は３層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、即ち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、ヒドロキシ基を有するビニルナフタレンとヒドロキシ基を有さない特定のオレフィン類の繰り返し単位とを共重合してなる重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】平版印刷適性に優れ、さらに環境衛生保全上、好ましくないホルムアルデヒド類を原料として使用しない樹脂から構成され、さらに、ＶＯＣフリータイプにも適応可能な平版印刷インキの提供。
【解決手段】炭化水素樹脂を不飽和カルボン酸またはその無水物および脂肪族アルコールにより変性したエステル変性炭化水素樹脂（ａ）２０〜８０重量％、およびナフテン系炭化水素溶剤およびまたはパラフィン系炭化水素溶剤（ｂ）２０〜８０重量％からなる樹脂組成物（Ａ）に、分子中に２個以上のイソシアネート基を有する化合物（ｃ）を反応させることを特徴とする印刷インキバインダー用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 特にポリオレフィン系樹脂被着体に対する剥離接着力、及び初期接着力と保持力とのバランスに優れ、且つ加熱後の剥離接着力、耐変色性にも優れた粘着組成物、並びに該粘着剤組成物用の粘着付与剤として好適な変性石油樹脂、及びそのエマルジョンを提供する。
【解決手段】 炭素数４〜６のオレフィン性不飽和炭化水素単量体単位１０〜９５質量％および炭素数７〜１１のオレフィン性不飽和炭化水素単量体単位５〜９０質量％からなり、全単量体単位に含まれるジオレフィン単量体単位中のイソプレン単量体単位の割合が２０〜１００質量％、軟化点３０℃以上、かつ酸価が０．１〜１００ＫＯＨｍｇ／ｇである変性石油樹脂、及びそのエマルジョン。 （もっと読む）

【解決手段】 インデン類と、ヒドロキシ基もしくはエポキシ基を有すると共に重合性２重結合を有する化合物とを共重合してなる高分子化合物を含有することを特徴とする下層膜形成材料。
【効果】 本発明の下層膜形成材料は、必要により反射防止効果のある中間層と組み合わせることによって、２００ｎｍ以上の膜厚で十分な反射防止効果を発揮できるだけの吸光係数を有し、基板加工に用いられるＣＦ₄／ＣＨＦ₃系ガス及びＣｌ₂／ＢＣｌ₃系ガスエッチングの速度も通常のｍ−クレゾールノボラック樹脂よりも遅く、高いエッチング耐性を有する。また、パターニング後のレジスト形状も良好である。 （もっと読む）