【課題】高解像性のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、一般式（１）［式中、Ｐはａ価の有機基を表し、ａは２〜２０の整数を表し、Ｙはアリーレン基又は炭素原子数１〜１２のアルキレン基を表し、Ｘは酸の作用により解裂され得る特定の結合基を表す。］で表されるコア部と、該コア部に結合し、かつ、アニオン重合法によって得られるポリマー鎖からなるアーム部とを有するポリマーを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】電子線リソグラフィー又はＥＵＶリソグラフィー等の短波長リソグラフィーに適しており、パターン形状、感度及び解像度が良好なパターンを形成し得るフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を側鎖に有する繰り返し単位と、ラクトン構造を側鎖に有する（メタ）アクリレート単位とを含有する樹脂（Ａ）、酸に不安定な基を側鎖に有する繰り返し単位と、式（III）で表される繰り返し単位とを含有する樹脂（Ｂ）、及び、露光により酸を発生する酸発生剤、を含有するフォトレジスト組成物。
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【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができる化学増幅型フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】２３℃における水への溶解度が０．１％以下である酸発生剤と、樹脂とを含有する液浸露光用化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】被加工基板上に酸不安定基を有する繰り返し単位を有し、酸不安定基の脱離によりアルカリ性現像液に可溶になる樹脂、光酸発生剤又は熱酸発生剤、及び有機溶剤を含有する化学増幅ポジ型レジスト膜形成用組成物でレジスト膜を形成する工程、該膜に高エネルギー線の繰り返し密集パターンを露光し、未露光部を露光、加熱し、発生酸を樹脂の酸不安定基に作用させ、露光部の樹脂の酸不安定基に脱離反応させた後、現像してポジ型パターンを得る工程、ポジ型パターンを露光又は加熱して、樹脂の酸不安定基を脱離させ、架橋を形成させてポジ型パターンに有機溶剤への耐性を与える工程、反転用膜形成工程、上記架橋形成ポジ型パターンを溶解除去する工程を含むポジネガ反転を用いたレジストパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、ポジ型パターン上に反転用膜を成膜し、パターンにダメージを与えずにポジ型パターンの間隙に反転用膜形成用材料を埋め込められ、簡易な工程で高精度なポジネガ反転を行える。 （もっと読む）

【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される酸発生剤及び式（ＩＩ）で表される構造単位を有する樹脂を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物。


［Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^０は、２価のＣ_１-17飽和炭化水素基を表す。Ｙ^１は、炭素数３〜３６の飽和環状炭化水素基を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ^２は、単結合又は−［ＣＨ_２］_ｋ−を表す。ｋは、１〜８の整数を表す。Ｙ^２は、炭素数４〜３６の飽和環状炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】露光の際、効果的に反射を防止し、さらに段差基板上に塗布される際にも表面が平滑な膜を形成できるとともに、上層に塗布されるレジストとのインターミキシングが抑制され、さらに、露光部がアルカリ現像液により容易に除去可能な下層膜用重合体を提供する。
【解決手段】下層膜用重合体は、２以上のポリマー鎖が酸の作用により切断可能な官能基を含む連結基で結合されており、且つ吸光性基を有する繰り返し構造単位を少なくとも１種含有する架橋ポリマーからなる。この下層膜用重合体において、酸の作用により切断可能な官能基はアセタール構造を有しているのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れたビニルエーテル重合体を提供する。
【解決手段】ビニルエーテル系モノマー単位を主体とする重合体において、重合体の重合停止末端が下記〔Ｉ〕式（Ｒは水素原子又はメチル基を示す）で表される官能基であることを特徴とするビニルエーテル重合体。
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【課題】硬化性、地汚れ耐性等の印刷適性が優れた印刷を可能とし、印刷皮膜強度の優れた印刷物を提供し得る活性エネルギー線硬化型平版印刷インキの提供。
【解決手段】（ａ）樹脂、（ｂ）活性エネルギー線硬化性化合物および（ｃ）顔料を含有する活性エネルギー線硬化型平版印刷インキにおいて、
（ａ）樹脂が、樹脂酸にアクリル酸エステル化合物およびα，β−不飽和カルボン酸
または該無水物を付加反応させ、さらに、多価アルコールを反応させて合成したもの
であり、
（ａ）樹脂が、インキ全量の１０〜４０重量％含有され、
（ｂ）活性エネルギー線硬化性化合物が、インキ全量の３０〜７５重量％含有され、
および
（ｃ）顔料が、インキ全量の５〜４０重量％
含有されてなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型平版印刷インキ。 （もっと読む）

【課題】モールド剥離性およびドライエッチング耐性に優れるナノインプリント用組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）芳香族基とフロロアルキル基を有する重合性単量体（Ａｘ）少なくとも１種と、（Ｂ）光重合開始剤とを含有するナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト用樹脂に対する熱履歴を少なくすることができ、且つフォトレジスト用樹脂溶液を効率良く製造できるフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】本フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法は、重合性化合物を重合させることにより、レジスト用樹脂を含有する樹脂溶液を調製する工程と、樹脂溶液に含まれる樹脂を再沈殿により精製し、スラリーを得る工程と、スラリーを濾過し、洗浄溶剤を用いて洗浄することにより湿粉を得る工程と、恒率乾燥領域内で湿粉を乾燥して乾燥物を得る工程と、乾燥物を再溶解し、洗浄溶剤をフォトレジスト用溶剤に置換する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用として好適なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該レジスト組成物に用いる添加剤として有用な含フッ素高分子化合物の提供。
【解決手段】一般式（ｃ０−０）［式中、Ｒ^６は水素原子又は１価の炭化水素基であり、ｑは０〜２の整数であり、ｇは１〜４の整数である。］で表される基を側鎖に含み、アルカリ現像液に対して分解性を示す含フッ素高分子化合物（Ｃ）と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）（ただし、前記含フッ素高分子化合物（Ｃ）に該当するものを除く。）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。
［化１］
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【課題】耐熱性に優れた重合体、さらにはアルカリ現像できる感光性組成物を得ることができる化合物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を提供する（式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子、フッ素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁴〜Ｒ⁶は単結合又はアルキレン基を示す。Ｒ⁷は単結合又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁸は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁹は水素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。但しＲ¹〜Ｒ⁹のいずれか一つは、フッ素原子又はフッ素原子で置換されている基である。）。
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【課題】含フッ素重合体を含有していてもアルカリ現像できる感光性組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を構成モノマーとする重合体（Ａ）、重合性化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有する感光性組成物（式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子、フッ素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁴は単結合又はアルキレン基を示す。Ｒ⁵は単結合又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁶は直鎖状アルキレン基を示す。Ｒ⁷は水素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。但しＲ¹〜Ｒ⁷のいずれか一つは、フッ素原子又はフッ素原子で置換されている基である。）。
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【課題】透明性が高く、且つ屈折率が低い膜を形成できる硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を構成モノマーとする重合体（Ａ）、硬化剤（Ｂ）及び溶剤（Ｃ）を含有する硬化性組成物（式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子、フッ素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁴は単結合又はアルキレン基を示す。Ｒ⁵は単結合又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁶は直鎖状アルキレン基を示す。Ｒ⁷は水素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。但しＲ¹〜Ｒ⁷のいずれか一つは、フッ素原子又はフッ素原子で置換されている基である。）。
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【課題】液状態での保存安定性が高く、硬化後には圧縮強度及び圧縮変形からの変形回復性に優れた硬化物が得られる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）不飽和カルボン酸又はその無水物に由来する構成単位の少なくとも１種とマレイミド系モノマーに由来する構成単位の少なくとも１種とを含み、側鎖にエチレン性不飽和結合を有する共重合体と、（Ｂ）多官能性モノマーと、（Ｃ）光重合開始剤とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】高い耐熱性を有する重合体、及び該重合体を形成するために用いることができる新規なフッ素原子を含有する化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される含フッ素化合物、及び当該化合物から導かれる構成単位を有する重合体。Ｒ¹〜Ｒ³は、水素原子、フッ素原子又はフッ素原子若しくは水酸基で置換されてもよいC_1-13脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ⁴は、単結合又はフッ素原子で置換されてもよいC_1-10アルキレン基を表す。Ｒ⁵は、単結合又はフッ素原子で置換されてもよいC_1-15脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁶は、フッ素原子で置換されてもよい直鎖状C_1-10アルキレン基を表す。Ｒ⁷は、炭素原子上の水素原子がフッ素原子で置換されてもよいか若しくは炭素原子が酸素原子で置換されてもよいC_1-24脂肪族炭化水素基又は水素原子を表す。Ｒ^１Ｒ^２Ｃ＝Ｃ（Ｒ^３）Ｒ^４ＣＯＯＲ^６ＯＣＯＲ^５ＣＯＯＲ^７・・・（Ｉ） （もっと読む）

【課題】現像欠陥の要因となる低溶解性の成分を除去できる重合体の精製方法、およびこの精製方法により得られる重合体溶液を提供する。
【解決手段】アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の重合体であって酸の作用によりアルカリ可溶性になる重合体を該重合体を溶解する良溶媒に溶解させて重合体溶液とする第１の工程と、この重合体を溶解しないが上記良溶媒には相溶する貧溶媒を、上記重合体溶液に、重合体による沈殿が析出しない範囲で添加する第２の工程と、第２の工程後の重合体溶液を濾過する第３の工程とを備え、上記良溶媒１００質量部に対して、貧溶媒が１００質量部以下であり、上記濾過に使用するフィルターの孔径が１．０μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】機能性樹脂組成物としての基本特性に影響を及ぼすことなく、さらなる解像度の向上を実現することができる化学増幅型レジスト組成物及び液浸露光用化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位と、式（Ｉ）


で示される構造単位と、多環式ラクトン構造を有する構造単位とを含有し、それ自体有機溶媒に可溶、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに式（II）Ａ⁺Ｅ^-(II）で示される酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】残留モノマーを大幅に低減させることができ、無臭で、安定した粘度、分散性、レベリング性を有するとともに、低温かつ低酸素濃度雰囲気下であっても脱脂処理が可能な（メタ）アクリル系重合体の製造方法、該（メタ）アクリル系重合体の製造方法により製造される（メタ）アクリル系重合体、及び、該（メタ）アクリル系重合体を用いてなる無機微粒子分散ペースト組成物を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル系モノマーを重合させる際にビニルエステルモノマーを添加する（メタ）アクリル系重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物用のモノマーとして有用な化合物およびその製造方法、前記製造方法において中間体として有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物。 （もっと読む）