【課題】良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で示されることを特徴とする塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表し、Ｔはメチレン基又はカルボニル基を表し、Ｕ^１、Ｕ^２及びＵ^３は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、水酸基、ヒドロキシメチル基、シアノ基を示すか、又はＵ^１とＵ^２とがひとつになってオキソ基を示してもよい。ただし、Ｕ^１、Ｕ^２及びＵ^３は、同時に水素原子であることはない。Ａ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】高耐熱、高機械強度、低誘電率、表面平滑性、及び、良好な保存経時安定性を有する膜を形成することができる膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて得られる膜、並びに、前記膜を有する電子デバイスを提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物、及び／又は、式（１）で示される化合物を少なくとも用いて重合した重合体を含むことを特徴とする膜形成用組成物、前記膜形成用組成物を用いて形成された膜、並びに、前記膜を有する電子デバイス。なお、式（１）中、Ａ^１は４又は６価の有機基を表し、Ａ^２はアルケニル基又はアルキニル基を表し、Ａｒは（ａ１＋１）価のアリール基を表し、Ｒは水素原子又は炭素数１〜３０のアルキル基を表し、ａ１は１〜５の整数を表し、ａ２は２又は３を表す。
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【課題】エネルギーロスが少なく、生産性に優れ、熱劣化が少ない変性ポリオレフィン樹脂の製造方法を提供すること。
【解決手段】以下の連続する工程からなることを特徴とする変性ポリオレフィン樹脂の製造方法；（１）１〜４０重量％の揮発成分を含有するポリオレフィン樹脂から揮発成分を脱揮して、揮発成分量が０〜０．５重量％であるポリオレフィン樹脂（Ａ）を得る工程、ならびに、（２）該ポリオレフィン樹脂（Ａ）１００重量部と、少なくとも１種の不飽和基（ｂ１）および少なくとも１種の極性基（ｂ２）を有する化合物（ｂ）０．０１〜２０重量部と、有機過酸化物（ｃ）０．００１〜２０重量部とを反応させて、変性ポリオレフィン樹脂（Ｂ）を製造する工程。 （もっと読む）

【課題】感放射線性樹脂組成物における液中異物発生度合を樹脂原料段階で評価可能な樹脂の評価方法、及び各種放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして使用できる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本樹脂の評価方法は、フッ素含有重合体を含む樹脂のレジスト溶剤溶液の動的光散乱を測定し、この溶液の一定濃度領域における拡散係数差（ΔＤ）により、樹脂を感放射線性樹脂組成物材料として用いた場合における液中異物発生度合を評価する。本感放射線性樹脂組成物は、フッ素含有重合体を含む樹脂と、レジスト溶剤と、感放射線性酸発生剤とを含有しており、前記樹脂は、濃度２質量％のレジスト溶剤溶液の動的光散乱測定による拡散係数（Ｄ_ａ）と、濃度８質量％のレジスト溶剤溶液の動的光散乱測定による拡散係数（Ｄ_ｂ）との拡散係数差［ΔＤ（Ｄ_ｂ−Ｄ_ａ）］が、−２．０×１０^−７ｃｍ^２・ｓ^−１以上である。 （もっと読む）

【課題】ジエチレングリコールビスアリルカーボネートを用いて安価、簡便にフォトクロミック眼鏡レンズを製造できるフォトクロミック硬化性組成物を提供する。
【解決手段】ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、及び／またはそのオリゴマーを１０質量％以上含有するラジカル重合性単量体１００質量部に対して、下記（Ａ）および（Ｂ）のラジカル重合開始剤を合計０．１〜１０質量部（（Ａ）１０時間半減期温度が５０℃以上のパーオキシエステル系ラジカル重合開始剤、（Ｂ）１０時間半減期温度が８０℃以上のパーオキシケタール系ラジカル重合開始剤）、フォトクロミック化合物部０．００１〜１０質量部、を含有してなるフォトクロミック硬化性組成物は、歩留まりよくフォトクロミック眼鏡レンズが製造できる。また得られる硬化体は、機械的、光学的物性が優れている。 （もっと読む）

【課題】環状オレフィン付加重合体を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（I）、（II）または(III）のいずれかで示されるメタロセン錯体を用いて環状オレフィンの単量体を重合させる。


一般式（I）、（II）および（III）において、
Ｍは、ランタノイド元素、スカンジウムまたはイットリウムを示し、
Ｃｐ^Rは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、
Ｃｐ^R'は、無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル、またはフルオレニルを示し、
Ｒ^a〜Ｒ^fは、それぞれ独立して、水素または炭素数１〜３のアルキル基を示し、
ＸおよびＸ’は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基または炭素数１から20の炭化水素基を示し、
Ｌは、中性ルイス塩基を示し、
ｗは、０〜３の整数を示し、
[Ｂ] ^-は非配位性アニオンを示す。 （もっと読む）

【課題】アクリル酸エステル単量体に基づく構造単位とノルボルネン系単量体に基づく構造単位からなるアクリル系共重合体を、ラジカル重合開始剤を使用して該開始剤の10時間半減期温度に対して0〜30℃高い温度で製造できる方法を提供する。
【解決手段】アクリル酸エステル単量体(A)と、ノルボルネン系単量体(B)とを、
ルイス酸(C)とニッケル化合物(D)の存在下において、アゾビス系ラジカル重合開始剤を用いて、重合開始温度及び重合発熱によるピーク温度が、該ラジカル重合開始剤の10時間半減期温度に対して0〜30℃高い温度で共重合させるアクリル系共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高周波用電子部品にも好適に使用できる、低誘電率かつ低誘電損失（低誘電正接）の新規な脂環式ビニルエーテル重合体を提供する。
【解決手段】下記〔I〕式（ｍは０又は１を示し、ｎは２〜３，０００の整数を示す。）で表される新規な脂環式ビニルエーテル重合体、及び下記〔I〕式に表される重合体におけるモノマー構造と所定のモノマー構造からなる新規な脂環式ビニルエーテル共重合体。
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【課題】水又は水に対する液浸媒体に対して高い撥水性及び耐水性を有し、剥離剤によって容易に剥離し、かつフォトレジスト層とのミキシングを起こさない保護膜を形成するための液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】水又は水を主成分とする液浸媒体からフォトレジスト層を保護する非水溶性でかつ有機溶剤可溶性の保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、少なくとも下記一般式（１）


（式中、Ｘは少なくとも炭素数３〜１５の脂環骨格を有する基を示す）
で表される構成単位を有する樹脂を含むことを特徴とする液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】接着剤処方でワックス置換物、インク変性剤、油変性剤、粘度変性剤、繊維加工助剤、シーラント、コーキング剤などとして有用な非流動性超低分子量ポリエチレンポリマーを提供すること。
【解決手段】非流動性均一超低分子量エチレンポリマーであって、数平均分子量が１１０００以下であり、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎが１．５−２．５であり、等しい密度で対応する高分子量物質により長いラメラ及びより大きい結晶性構造を有する非流動性均一超低分子量エチレンポリマー。 （もっと読む）

【課題】プリント配線板の製造に有用な耐熱性および重ね塗り性に優れる低粘度のインクジェット用硬化性樹脂組成物、及びその硬化物並びにそれを用いたプリント配線板を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表されるビスアリルナジイミド化合物：
【化１】


（式中、Ｒ^１は、炭素数２〜１８のアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示す。）、（Ｂ）平均粒子径５乃至１００ｎｍのシリカまたはアルミナ微粒子を希釈剤に分散してなるディスパージョン、及び希釈剤（Ｃ）を含有してなり、粘度が２５℃で１５０ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とするインクジェット用硬化性樹脂組成物、および該組成物を用いて形成された硬化物並びに該組成物を用いて形成されたソルダーレジストを有するプリント配線板。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、環状オレフィン系ポリマーの製造において、従来法より高収率で、所望の分子量に制御することが容易な環状オレフィン系ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】 環状オレフィンモノマーを、触媒存在下、溶媒中で、マイクロ波を照射して重合する環状オレフィン系ポリマーの製造方法であって、前記溶媒は３以上の誘電率を有するものであることを特徴とする環状オレフィン系ポリマーの製造方法。前記環状オレフィン系ポリマーの製造方法は、末端二重結合を有するオレフィン化合物を連鎖移動剤として用いるものである。前記環状オレフィン系ポリマーの製造方法により、環状オレフィンモノマーを反応させて、重合することによって得られた環状オレフィンモノマーの付加重合体。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）で示されるスルホニウム塩を持つ繰り返し単位を有する高分子化合物を添加してなるレジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子又はメチル基、Ｒ²はフェニレン基、−Ｏ−Ｒ⁶−、又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ⁶−。Ｙは酸素原子又はＮＨ、Ｒ⁶はアルキレン基又はアルケニレン基、又はフェニレン基であり、カルボニル基、エステル基、エーテル基又はヒドロキシ基を含んでいてもよい。Ｒ³、Ｒ⁴はアルキル基であり、カルボニル基、エステル基又はエーテル基を含んでいてもよく、又はアリール基、アラルキル基又はチオフェニル基。Ｘ^-は少なくとも１個のフッ素原子を有するイミド酸アニオン又はメチド酸アニオン。）
【効果】本発明のポリマー型スルホニウム塩の酸発生剤を添加したレジスト材料は、特に解像性に優れ、高感度でラインエッジラフネスが小さいという特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】クロロホルムやジクロロメタンなどのハロゲン化飽和炭化水素化系溶媒に対する溶解性に優れた新規なノルボルネン系付加重合体を提供すること。
【解決手段】従来のノルボルネン系単量体の重合触媒に替えて、特定の触媒として、ハロゲン原子を有する周期律表第８、９、１０族から選ばれる遷移金属化合物とアルキル基を有しないハロゲン系ルイス酸を組み合わせた触媒を用いることで、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した数平均分子量がポリスチレン換算で１０，０００〜１，０００，０００であり、クロロホルム不溶分が０．１重量％以下であるハロゲン化飽和炭化水素への溶解性が極めて高い新規なノルボルネン系付加重合体が得られる。 （もっと読む）

重合条件下、（ｂ）式（Ｉ）：


（ここで、基Ｒ^１〜Ｒ^４、Ｌ、Ｍ、及びＷは、本文中に記載した通りである）
の少なくとも１種類のメタロセン化合物；（ｂ）アルモキサン又はアルキルメタロセンカチオンを形成することのできる化合物；及び場合によっては（ｃ）有機アルミニウム化合物；を接触させることによって得られる触媒系の存在下において、エチレン及び少なくともプロピレンを接触させて、９６モル％〜７１モル％のエチレン誘導単位を含むコポリマーを得ることを含む重合方法。
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【課題】感度や解像性などに優れるとともに、基板との密着性に優れ、現像後に開口部に残渣を発生させず、メッキ時にメッキ液を汚染せず、メッキ後の樹脂膜のクラック発生を抑制することができ、かつメッキの樹脂膜への押し込みを抑制し、さらにレジストの浮きを解消することができるポジ型感放射線性樹脂組成物、この組成物を用いた転写フィルム、およびバンプや配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るメッキ造形物製造用ポジ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）少なくとも１つの末端が−ＳＲ基（Ｒは炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは炭素数３〜２０の環状のアルキル基またはその誘導体を示す）を有し、酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する構造単位を有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、および（Ｃ）有機溶媒を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高感度で、１，２００Ｊ／ｍ^２以下の露光量でも十分なスペーサー形状が得られ、柔軟性と高回復率、ラビング耐性、透明基板との密着性、耐熱性等に優れ、さらにスペーサーパターニング時の現像特性にも優れた液晶表示素子用スペーサーを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物、水酸基含有不飽和化合物、ヒドロキシフェニル基含有不飽和化合物、およびこれらの上記不飽和化合物以外の他の不飽和化合物の共重合体に、（メタ）アクリロイルオキシアルキルイソシアネート化合物を反応させて得られる重合体、重合性不飽和化合物および感放射線性重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】電子材料や光学材料等の原料として用いた場合に良好な物性を呈する、新規な脂環式化合物等を提供する。
【解決手段】脂環式化合物（脂環イミドアクリレートという）は、分子中に重合性官能基（（メタ）アクロイル基および、ノルボルネン骨格中のビニレン基）を有するので、単独で重合させ、若しくは他の重合性モノマーと共重合させることにより、油性ないし水性の重合体とすることができ、耐熱性、低吸水性、低透湿性、高い硬度、各種基材に対する密着性などに良好な物性を有する。 （もっと読む）

【課題】波長４００ｎｍ前後のブルーレーザ光の積算照射量が多くなっても光線透過率の低下が少なく、且つ低複屈折性で高光線透過率の成形体を得ることができるノルボルネン系重合体水素化物を提供する。
【解決手段】１，４−メタノ−１，４，４ａ，９ａ−テトラヒドロフルオレンなどの芳香環を有するノルボルネン系単量体（Ａ）と、エチレンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィン（Ｂ）とを付加重合し、さらに芳香環を水素化率９９％以上、重クロロホルム中（ＴＭＳ基準）で測定した^１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルにおいて、１２２〜１２８ｐｐｍおよび１４２〜１４８ｐｐｍにピークが観測されず、かつ、５０．５〜５３ｐｐｍのピーク面積（Ｃ）と５５〜５６．５ｐｐｍのピーク面積（Ｄ）とがＣ／（Ｃ＋Ｄ）≧０．８０を満たすまで水素化し、数平均分子量が１５，０００以上である付加重合体水素化物を得る。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト用樹脂の分解を極力抑制しつつ、低沸点不純物の含有量が極めて低いフォトレジスト用樹脂溶液を得る。
【解決手段】 酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性となる基を含む繰り返し単位Ａと、極性基を有する脂環式骨格を含む繰り返し単位Ｂとを少なくとも含有するフォトレジスト用樹脂を１種又は２種以上の塗膜形成用溶媒に溶解したフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法であって、重合により得られた前記フォトレジスト用樹脂を貧溶媒に沈殿させ、沈殿したフォトレジスト用樹脂を湿結晶として分離し、該湿結晶を少なくとも１種の塗膜形成用溶媒を含む溶媒に再溶解させ、得られた再溶解液を蒸留缶の加熱用ジャケット及び／又はチューブに１４０℃以下の熱媒又は蒸気を流通させつつ且つ蒸留缶内を撹拌機により撹拌しながら蒸留して、前記フォトレジスト用樹脂の湿結晶中に含まれる低沸点不純物を減圧下に留去する。 （もっと読む）