【課題】金属イオンのうち銅（II）イオンのみを選択的に吸着し、脱離して回収することができる光応答性銅イオン吸着材料を提供する。
【解決手段】金属イオン溶液中で金属イオンの吸着及び脱離の転移を光照射の有無により可逆的に示す光応答性化合物と、
四級化アミン化合物と
を含む単量体成分を共重合させてなる共重合体を含む光応答性銅イオン吸着材料であり、前記共重合体は、塩素イオン、ナトリウムイオンおよび銅（II）イオンを含む金属イオン溶液から、暗所下で銅（II）イオンを選択的に吸着する。 （もっと読む）

【課題】解像度と感度に優れたポジ型レジスト組成物に好適な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】５−ヒドロキシ−３−オキサ−２−チア−トリシクロノナンとアクリル酸よりなるアクリル酸エステル（ａ０）と酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物。酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）は、前記高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２種類のアルカリ現像液に不溶または難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂を含有し、その内の少なくとも１種が２４８ｎｍに吸収を有する基を側鎖に有する特定の繰り返し単位を含有する樹脂であり、 更に、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および、有機塩基性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、基板との密着性に優れ、現像後に開口部に残渣を発生させず、メッキ後の樹脂膜のクラック発生を抑制することができ、メッキの樹脂膜への押し込みを抑制、露光量の変化に対してパターンの寸法変化が小さく、Ｔ−ｔｏｐを解消できるポジ型感放射線性樹脂組成物、転写フィルム、バンプや配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】上記ポジ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する構造単位とカルボキシル基を有する構造単位と架橋構造とを有する重合体、（Ｂ）感放射線性酸発生剤、および（Ｃ）有機溶媒を含有し、該重合体（Ａ）を構成する全構造単位のうち、架橋構造を含む構造単位以外の構造単位の合計１００モル％に対して、前記酸解離性官能基を有する構造単位が１〜３５モル％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子線、Ｘ線、極紫外線による微細パターン形成に好適なパターン形成方法並びにそれに用いられる感放射線性樹脂組成物及び感放射線性酸発生基含有樹脂を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、感放射線性樹脂組成物の樹脂成分として含有されている感放射線性酸発生基含有樹脂から、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生させ、該感放射線性酸発生基含有樹脂の現像液に対する溶解性を増大させることにより、レジストパターンを形成する。また、本感放射線性樹脂組成物は、樹脂成分として、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生基を含有する繰り返し単位と、非酸解離性繰り返し単位とからなる酸発生基含有樹脂のみを含有する。 （もっと読む）

【課題】様々な色、特に色純度の高い青色系の発光が高い発光効率で得られ、さらには長寿命である高分子発光材料を提供することにある。また、製造工程が簡略化され、大面積化が実現できるとともに、耐久性に優れた有機ＥＬ素子および表示装置を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る高分子発光材料は、下記一般式（１）で表される部分構造を有するイリジウム錯体から導かれる構造単位を含む重合体からなることを特徴とする。


（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁶はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子などを表す。ただし、Ｒ¹〜
Ｒ⁶のうち少なくとも一つは重合性官能基を有する置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】半導体装置の表面保護膜または層間絶縁膜材料用途として、現像工程でアルカリ現像液が使用でき、低いキュア温度により、残留応力が低く、優れた耐熱性、機械特性等を発現するポジ型感光性レリーフパターン形成材料を提供する。
【解決手段】同一分子内に籠型シルセスキオキサン構造含有基とフェノール性水酸基の両方の基を含有するアルカリ可溶性物質（Ａ）、及び溶解抑止剤（Ｂ）を含有することを特徴とするアルカリ現像性のポジ型感光性レリーフパターン形成材料。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度に優れ、パターンのラインエッジラフネスが小さく、更にはパターン形状を良好に維持することが可能なレジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルキル置換ノルボルナンラクトン環を含有する酸解離性基含有共重合体と、（Ｂ）スルホン酸エステル型の酸増殖剤と、（Ｃ）酸発生剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】波長が３００ｎｍ帯以下の露光光に対する透過性に優れると共に、基板密着性及び現像溶解性に優れるレジスト材料を提供する。
【解決手段】レジスト材料のベース樹脂は、同種又は異種の水素原子、炭素数１以上で２０以下の直鎖状、分岐状著しくは環状のアルキル基、フルオロアルキル基又は酸により脱離する保護基を有するスルホンアミド基含有の第１ユニット及びベンゼン環上にフッ素原子又は炭素数が１以上２０以下の直鎖状、分岐状若しくは環状のフッ素化されたアルキル基又は特定の置換基を有するアルコキシ基を有するスチレン誘導体からなる第２ユニットから構成される繰り返し単位を含む高分子化合物よりなり、微細加工技術に適したレジスト材料となる。 （もっと読む）