【課題】 ソルダーレジスト、パッケージ基板用レジストとして必要なはんだ耐熱性、密着性、電気絶縁性、ＨＡＳＴ耐性に優れ、かつ硬化収縮が少なく反りの無い基板を提供できる光硬化性・熱硬化性樹脂組成物、及びその硬化物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）１分子中に２個以上のフェノール性水酸基を有する化合物（ａ）とアルキレンオキシド（ｂ）又はシクロカーボネート化合物（ｃ）とを反応させて得られる反応生成物に不飽和基含有モノカルボン酸（ｄ）を反応させ、得られる反応生成物に多塩基酸無水物（ｅ）を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、（Ｂ）カルボキシル含有基ウレタン（メタ）アクリレート化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）一分子中に２個以上の環状エーテル基及び／又は環状チオエーテル基を有する熱硬化性成分、及び（Ｅ）希釈剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】感光性が非常に良好である、露光・現像によるパターン形成の際にアンダーカットを起こさない樹脂組成物を提供する。
【解決手段】構造中に、少なくとも１個以上のラジカル重合性不飽和基を有し、かつ少なくとも１個以上のフェノール性水酸基およびまたはカルボキシル基を有する光硬化性樹脂、下記一般式（１）で示される化合物、光重合開始剤、希釈剤、および、エポキシ樹脂硬化剤を含んでなる感光性熱硬化性樹脂組成物。一般式（１）


（式中、ｍは、０〜１０の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】メッキ乗り均一性，耐折性，低応力性，半田耐熱性に優れ、しかも良好な絶縁性を備えた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記の（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有する感光性樹脂組成物である。
（Ａ）カルボキシル基含有線状重合体。
（Ｂ）エチレン性不飽和基含有重合性化合物。
（Ｃ）光重合開始剤。
（Ｄ）下記の一般式（１）で表される複素環式メルカプタン化合物。
【化１】


（Ｅ）テトラゾール化合物。 （もっと読む）

【課題】ソルダーレジスト等の永久パターン形成を目的として、パターン形成性、めっき耐性、剥離性等の諸特性に優れ、感度が高く、解像性が良好であり、高精細な永久パターンを効率よく形成可能な感光性樹脂組成物、感光性フィルム、前記感光性樹脂組成物を用いた永久パターン形成方法、及び該永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント配線板を提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び重合性化合物を含み、前記バインダーが、酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂を含み、前記光重合開始剤が、下記一般式（１）で表される化合物を含み、前記熱架橋剤が、１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】


ただし、一般式（１）中、Ｒ¹は、アシル基、アルコキシカルボニル基等を表し、Ｒ²は、アルキル基を表し、Ｒ³は、ナフチル基を表す。 （もっと読む）

【課題】重合性化合物として重合性基を有する樹状分岐化合物を含むことにより、感度、解像度、及び永久保護膜としての硬化物特性に優れ、かつフィルム化したロールからの感光性組成物のしみだし（端面融着）が少なく、高精細な永久パターンを効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、前記感光性積層体を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤を含み、前記重合性化合物が重合性基を有する樹状分岐化合物を含む感光性組成物、感光性フィルム、及び感光性積層体である。また、該感光性積層体を用いる永久パターン形成方法及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板である。 （もっと読む）

【課題】 液晶滴下工法によって液晶表示素子を製造する場合に、液晶材料を汚染することなく、液晶材料の配向乱れ、色むら等の表示不良を防止できる他、基板との接着性を良好に維持できる液晶表示素子用のシール剤、これに適する硬化性組成物、その硬化物、及び前記性能を具備した液晶表示素子、並びに、前記シール剤にこのような性能を付与し得るビニル基含有エポキシ樹脂を提供すること。
【解決手段】 エポキシ基のβ位に炭素原子数１〜４のアルキル基を有するビスフェノール型エポキシ樹脂と不飽和一塩基酸とを反応させて得られる、下記一般式(１)
【化１】


（式中、Ｒ^１は炭素原子数１〜４のアルキル基、Ｒ²は水素原子またはメチル基を表す。）で示される官能基とグリシジルオキシ基とを分子構造中に有するビニル基含有エポキシ樹脂（Ａ）、エポキシ樹脂用硬化剤（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）を必須成分とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、加水分解性に優れ、特に血液に対する防汚性および肌に優しい特性が付与された繊維構造物およびその加工方法を提供することにある。
【解決手段】飽和および不飽和ジカルボン酸からなる酸成分およびグリコール成分が共重合された不飽和共重合ポリエステル樹脂（Ａ）に、グラフト成分として、少なくともホスホリルコリン基を有する重合性モノマーがグラフト重合された、酸価が５０ｅｑ／１０⁶ｇ以上のアクリル変性共重合ポリエステル樹脂（Ｂ）に対し、中和剤（Ｃ）を用いて[上記樹脂 (Ｂ)の酸価]に対する中和比率が１０〜２０００％を満足すべく調製されてなる繊維用水分散液。 （もっと読む）

【課題】基板上に適用したときに、樹脂組成物の適用のための位置合わせ精度に優れる上に、フォトリソグラフィ技術におけるパターニング処理の解像度を向上させる樹脂組成物、接着フィルム及び樹脂ワニスを提供する。
【解決手段】半導体部品と、基板とを接合するために用いる接着層を形成する樹脂組成物であって、ラジカル重合性二重結合を有する樹脂と、熱硬化性樹脂と、アルカリ可溶性基および二重結合を有する樹脂と、を含んでいる。 （もっと読む）

本発明は、カチオン重合可能な成分と、カチオン系光反応開始剤と、ヒドロキシ成分と、衝撃調節剤と、を含んでなる放射線硬化性組成物であって、前記樹脂組成物が、完全硬化した後に、＞２GPaの弾性率、降伏応力＜７０MPa、およびＫ_１Ｃ値＞１．３MPa. (m)^１／２またはアイゾット値＞０．４５J/cmを有する組成物に関する。この樹脂組成物は、三次元的物体の製造に使用できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、加水分解性に優れ、特に血液に対する防汚性および肌に優しい特性が付与された繊維構造物およびその加工方法を提供することにある。
【解決手段】 スルホン酸塩基含有ジカルボン酸、飽和および不飽和ジカルボン酸からなる酸成分およびグリコール成分が共重合された不飽和共重合ポリエステル樹脂（Ａ）に、グラフト成分として、少なくともホスホリルコリン基を有する重合性モノマーが、グラフト重合されたアクリル変性共重合ポリエステル樹脂（Ｂ）からなる繊維用水分散液。 （もっと読む）

【課題】基板上に適用したときに、樹脂組成物の適用のための位置合わせ精度に優れる上に、フォトリソグラフィ技術におけるパターニング処理の解像度を向上させる、半導体素子のパッケージングに好適な樹脂組成物、接着フィルム及び樹脂ワニスを提供する。
【解決手段】半導体部品と、基板とを接合するために用いる接着層を形成する樹脂組成物であって、ラジカル重合性二重結合を有するアクリル系化合物と、熱硬化性樹脂と、アルカリ可溶性基および二重結合を有する樹脂と、を含んでいる。さらに、無機充填剤および可撓性エポキシ樹脂を含む。 （もっと読む）

【課題】 ４００〜４１０ｎｍのレーザー光に対して高い光重合能力を発揮できると共に、十分な深部硬化性が得られ、さらに熱安定性が優れたアルカリ現像型ソルダーレジスト及びその硬化物並びにそれを用いてパターン形成されたプリント配線板を提供する。
【解決手段】 （Ａ）（ａ）１分子中に２つ以上の環状エーテル基又は環状チオエーテル基を持つ化合物に、（ｂ）不飽和モノカルボン酸を反応させた後、（ｃ）多塩基酸無水物を反応させた樹脂に、さらに（ｄ）１分子中に環状エーテル基とエチレン性不飽和基を併せ持つ化合物を反応させ、再度（ｃ）多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、（Ｂ）オキシムエステル系光重合開始剤、（Ｃ）１分子中分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、（Ｄ）熱硬化性成分、及び（Ｅ）増感剤を含み、波長４００〜４１０ｎｍにおける吸光度が、２５μｍあたり０．３〜１．２である。 （もっと読む）

【課題】そり、耐折性、耐湿絶縁信頼性の特性バランスが良く、１２０℃の低温硬化にも対応可能な感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、フレキシブル基板及び電子部品を提供する。
【解決手段】ビフェニル構造を有するノボラック型エポキシ樹脂（ａ）に不飽和モノカルボン酸成分（ｂ）を反応させて得られるエステル化物に、さらに飽和又は不飽和多塩基酸無水物（ｃ）を付加した付加反応生成物である酸変性ビニルエポキシ樹脂（Ａ）、光開始剤（Ｂ）、エポキシ樹脂（Ｃ）、を成分とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】階調マスクを用いて表示装置等における複数のパターンを一括形成する場合に好適に用いられ、アルカリ現像性が良好である光硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】酸性官能基を有する構成単位および光重合性官能基を有する構成単位を含む酸性官能基含有共重合体と、酸性官能基および複数の光重合性官能基を有する酸性官能基含有多官能モノマーと、酸性官能基を有する構成単位およびエポキシ基を有する構成単位を含む酸性官能基含有エポキシ樹脂とを含有することを特徴とする異種部材一括形成用光硬化性樹脂組成物を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】反りが抑制されると共に、半導体回路や電子回路等の基板に用いる際に要求される耐湿信頼性や半田耐熱性を備えた積層体を提供する。
【解決手段】金属箔と、重量平均分子量1000〜30000のアルカリ可溶性のエポキシアクリレート重合体樹脂が樹脂成分の主成分として含まれる感光性樹脂組成物から形成された絶縁層とが積層したことを特徴とする積層体である。 （もっと読む）

【課題】重合性化合物として、脂肪族エステル系のモノマー以外のモノマーを組み合わせることにより、感度、解像度、タック性、無電解金メッキ耐性、及び保存安定性に優れ、高精細な永久パターン（層間絶縁膜、ソルダーレジストパターンなど）を効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、感光性積層体、前記感光性積層体を用いた永久パターン形成方法、前記永久パターン形成方法により形成される永久パターン、及び前記永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び熱架橋剤を含み、前記バインダーが、酸性基とエチレン性不飽和結合とを側鎖に有する高分子化合物を含み、かつ重合性化合物が、２種以上のモノマーを含む感光性組成物等である。重合性化合物が、官能基数の異なる２種以上のモノマーを含む態様、などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、バインダー樹脂の色故障を抑制し、高精細な永久パターンを効率よく形成可能な感光性組成物、感光性フィルム、前記感光性組成物を用いた永久パターン形成方法、及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。
【解決手段】バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、熱架橋剤、及び触媒を含み、前記バインダーが、側鎖にカルボキシル基を有する高分子化合物のカルボキシル基にエポキシ基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物を付加させた特定の構造単位を少なくとも１つ有する高分子化合物を含み、かつ、前記触媒の残存量が、０．４質量％以下である感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】プリント配線板に電気絶縁性、密着性、はんだ耐熱性等の特性に優れたレジストパターンを作製する方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板のレジストパターンは、（Ａ）１分子中に２個以上のフェノール性水酸基を有する化合物（ａ）と環状カーボネート類（ｂ）とを反応させて得られる反応生成物（ｃ）に不飽和基含有モノカルボン酸（ｄ）及び／又はそのエステル類（ｅ）を反応させ、得られる反応生成物（ｆ）に多塩基酸無水物（ｇ）を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）感光性（メタ）アクリレート化合物、及び（Ｄ）希釈溶剤を含有する硬化性組成物を、回路形成されたプリント配線板に塗布して塗膜を形成し、上記塗膜を選択的に活性エネルギー線により露光し、未露光部を希アルカリ水溶液により現像してレジストパターンを形成し、加熱及び／又は活性エネルギー線の照射により硬化させて作製される。 （もっと読む）

【課題】 紫外線や電子線などの活性エネルギー線の照射により速やかに硬化し、若しくはさらに加熱によって硬化し、加水分解性が低く、電気絶縁性、ＨＡＳＴ耐性に優れる光硬化性樹脂組成物、及びその硬化物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）二官能エポキシ樹脂（ａ）とメタクリル酸から誘導されるメタクリロイル基含有多分岐ポリエーテル樹脂、（Ｂ）光重合開始剤を含有することを特徴とする光硬化性樹脂組成物、さらに前記組成物に、（Ｃ）一分子中に１個以上のカルボキシル基を有するカルボン酸含有樹脂、又はさらに、（Ｄ）一分子中に２個以上の環状エーテル基及び／又は環状チオエーテル基を有する熱硬化性成分を含む組成物、及びその硬化物が提供される。 （もっと読む）

【解決手段】一液光及び熱硬化性樹脂組成物であって、（１）アクリル酸エステルおよび／またはメタクリル酸エステルと、他のエチレン性不飽和単量体とを共重合させて得られる、一分子内に少なくとも1個のエポキシ基および（メタ）アクリロイル基を有する重量平均分子量が１０００〜１００００の、少なくとも１種類のコポリマーと、（２）潜在性エポキシ硬化剤と、（３）光ラジカル重合開始剤とを必須成分とする液晶シール剤である。
【効果】液晶滴下工法における液晶への汚染性が少なく、接着性、液晶表示特性に優れた液晶シール剤、及びそれを用いた液晶表示パネルを得ることができる。 （もっと読む）