【課題】極めて優れた光沢、耐久性、耐油、耐水性、離型特性、耐熱性、耐蝕性および接着性を示す新規のポリシラザン／ポリシロキサン‐ブロック共重合体を提供する。
【解決手段】ポリシラザンとポリシロキサンを含む反応混合物からポリシラザン／ポリシロキサン‐ブロック共重合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】シルセスキオキサン骨格をケイ素系ポリマーの主鎖に含み、かつ耐熱性に優れるだけではなく、常温域で線膨張係数の非常に低い架橋シリコーン硬化物を提供すること。
【解決手段】式（１）で表されるケイ素化合物と、式（２）で表される架橋性ケイ素化合物及び式（２）で表される架橋性ケイ素化合物のオリゴマーからなる群より選ばれる一以上から得られる、ガラス転移点が３０℃以下、かつ線膨張率が１０ｐｐｍ以下である、シロキサンポリマー架橋硬化物による。


（式（１）中、ｍは、独立して４〜３０の整数を表し；ｎは、重量平均分子量２，０００〜１０，０００，０００を満たす数字を表すＲ³−Ｓｉ（Ｒ⁴）₃（２） （もっと読む）

硬化性オリゴマー及び／又はポリマーポリシラザンの調製プロセスは、（ａ）少なくとも１つのジハロシランを少なくとも１つの塩基と反応させることにより少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物を形成する工程と、（ｂ）所望により、少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物と少なくとも１つの有機ジハロシランを混ぜ合わせる工程と、（ｃ）少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物、又は得られた少なくとも１つのジハロシラン−塩基付加生成物と少なくとも１つの有機ジハロシランの混合物のアンモノリシスを行う工程と、を含み、ただし、塩基を、（１）ジハロシラン中のケイ素−ハロゲン結合の化学量論量の２倍以下の制限量でジハロシラン−塩基付加生成物の形成に用い、又は（２）この制限量より多い量でジハロシラン−塩基付加生成物の形成に用い、アンモノリシスに先立ち、得られた反応済み又は未反応の塩基の全量をこの制限量以下に減少させる。 （もっと読む）

【課題】樹脂組成物においては全光線透過率及び光拡散性等の光学特性の一層の向上、また化粧料においては使用感、ソフトフォーカス性、隠蔽性及び持続性等の一層の向上等、近年における要求の高度化に充分に応えることができる異形微粒子、その製造方法及びその用途を提供する。
【解決手段】全体として六面体以上の多面体の各面を凹面（１１）で形成した形状の異形微粒子であって、（１）異形微粒子個々の外形の最大径（Ｌ_１）の平均値が０．１〜２０μｍの範囲にあること、（２）異形微粒子個々の外形の最小径（Ｌ_２）／外形の最大径（Ｌ_１）の比の平均値が０．６０〜０．９７の範囲にあること、（３）異形微粒子個々の凹面（１１）の最大径（ｍ_１）／外形の最大径（Ｌ_１）の比が０．２０〜０．９０の範囲にある異形微粒子１個当たりの凹面（１１）の数の平均値が６〜１４個の範囲にあること、以上の（１）〜（３）の条件を同時に満たす異形微粒子を用いた。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、不純物量を大きく低減させ、着色や反応性の低下を抑制することが可能となる効率的なシリル化カゴ型ケイ酸の製造方法、および、それから得られる多面体構造ポリシロキサン変性体を提供する。
【解決手段】
テトラアルコキシシランまたはその部分縮合物（ａ）と水酸化４級アンモニウム（ｂ）を反応させて得られるアンモニウムオリゴシリケートをさらにシリルクロライド（ｃ）とを反応させてシリル化カゴ型ケイ酸（Ａ）を吸着剤（ｄ）と接触させることを特徴とするシリル化カゴ型ケイ酸の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、低収縮多官能基化シルセスキオキサン（ＳＳＱ）誘導体、これらのＳＳＱを含むナノコンポジット材料、及び生体適合材料における重合性樹脂としての該ナノコンポジット材料の使用に関する。 （もっと読む）

【解決課題】 工業的に好ましい材料であるシロキサン重合体を用いて、従来のシロキサン重合体によるものよりも機械強度に優れる多孔質膜を形成し得る、新たな方法により合成されたシロキサン重合体、それを含有する膜形成用組成物、多孔質膜の形成方法及び形成された多孔質膜、並びに、この多孔質膜を内蔵する高性能かつ高信頼性を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】 加水分解性シラン化合物の加水分解縮合によるシロキサン重合体の製造方法において、一般式（１）
（ＳｉＯ_1.5−Ｏ）_n^n-Ｘ⁺_n （１）
（但し、ＸはＮＲ₄を表し、Ｒは炭素数１〜４の直鎖状または分岐状のアルキル基を表し、各々独立して互いに同じでも異なってもよい。また、ｎは６から２４の整数を表す。）
で表されるシルセスキオキサンのケージ化合物塩を準備し、該シルセスキオキサンのケージ化合物塩に、加水分解性シランを加水分解して縮合したシロキサン重合体を用いる。 （もっと読む）

本発明は、（１）約０．４以上のＴ２：Ｔ３比（ここで、Ｔ２は−５６ｐｐｍ〜−５９ｐｐｍの範囲に中心があるＣＰ／ＭＡＳ²⁹Ｓｉ ＮＭＲスペクトルにおける化学シフトを有するピークの強度であり、Ｔ３は−６５ｐｐｍ〜−６９ｐｐｍの範囲に中心があるＣＰ／ＭＡＳ²⁹Ｓｉ ＮＭＲスペクトルにおける化学シフトを有するピークの強度である）、及び（２）約０．０５超の（Ｔ２＋Ｔ３）／（Ｔ２＋Ｔ３＋Ｍ）比（ここで、Ｍは＋７ｐｐｍ〜＋１８ｐｐｍの範囲に中心があるＣＰ／ＭＡＳ²⁹Ｓｉ ＮＭＲスペクトルにおける化学シフトを有するピークの強度である）を有する疎水性の表面処理されたシリカ粒子を提供する。本発明は、疎水性の表面処理されたシリカ粒子の調製方法をさらに提供する。
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【課題】従来技術の欠点を解決したアミノ官能性シロキサンの製造方法。
【解決手段】一般式（ＳｉＯ_４／２）_ｋ（Ｒ^１ＳｉＯ_３／２）_ｍ（Ｒ^１_２ＳｉＯ_２／２）_ｐ（Ｒ^１_３ＳｉＯ_１／２）_ｑ［Ｏ_１／２Ｈ］_ｒ （ＩＩ）で示されるオルガノシロキサンを、一般式
【化１】


で示される環状シラザンとブレーンステッド酸の存在で反応させ、ここで、基及び添え字は、請求項１に記載の意味を有する。 （もっと読む）

【課題】ポッティング成型が可能であり、かつ膜厚が厚くても硬化物にクラックや気泡を生じず、しかも無色透明でＵＶ耐久性、耐熱性に優れた光半導体封止材を形成しうる光半導体用封止用組成物、当該光半導体用封止用組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】エポキシ基を有するシラン化合物とエポキシ基を持たないシラン化合物とを、有機溶媒、有機塩基および水の存在下で加熱して得られる重量平均分子量５００〜１００万のポリオルガノシロキサン、
それを主成分とする光半導体封止用組成物、光半導体封止材および光半導体。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子などに用いられる層間絶縁膜として使用するのに適した、適当な均一な厚さを有するシリコーン系膜が形成可能であり、かつ誘電率特性、膜強度に優れた膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される化合物またはその重合物を含む膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法
【化１】


一般式（I）中、
Ｒ¹およびＲ²は各々独立に水素原子または置換基を表し、複数個存在するＲ¹およびＲ²のうち少なくとも１つは一般式（II）で表される基を表す。
ｍは４〜３０の整数を表す。
（Ｒ³）₃−Ｓｉ−Ｏ− (II)
一般式（II）中、Ｒ³は水素原子または置換基を表す。
複数個存在するＲ¹〜Ｒ³のうち、少なくとも１つは重合性基を表す。
ただし、Ｒ¹〜Ｒ³は水酸基および加水分解性基を表さない。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適し、均一な厚さに形成可能で、しかも誘電率特性、膜強度に優れた絶縁膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】式（I）で表される化合物、および、ビニル基またはエチニル基を分子内に計２個以上有する化合物、または、それらの重合物を含む膜形成用組成物、絶縁膜、およびその製造方法。


式（I）中、Ｒ¹，Ｒ²はそれぞれ独立にＨまたは置換基、複数個のＲ¹，Ｒ²両者の置換基のうち１つは（Ｒ³）₃−Ｓｉ−Ｏ−で表される基。ｍは４〜３０を表す。Ｒ³はＨまたは置換基。複数個のＲ¹〜Ｒ³のうち、少なくとも２つはＨを表す。Ｒ¹〜Ｒ³は水酸基および加水分解性基を表さない。 （もっと読む）

【課題】生成物中に残留しない触媒を用いて、生成物の後加工または使用の場合に望ましくない効果をまねくことのない、櫛状にトリオルガノシロキシ基で官能化された線状オルガノポリシロキサンの選択的な合成を可能にする方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）のトリオルガノシロキシ基を有するオルガノポリシロキサンを製造する方法の場合に（ａ）第１の工程で一般式（ＩＩ）のＳｉＨ基を有するオルガノポリシロキサン（Ａ）を周期律表の第ＶＩＩＩ副族の金属およびその化合物の群から選択された触媒（Ｂ）の存在下および場合によっては助触媒（Ｋ）の存在下で水と反応させ、一般式（ＩＩＩ）のＳｉ−ＯＨを有する中間生成物に変え、（ｂ）第２の工程でこうして得られたＳｉＯＨ基を有する中間生成物をＳｉＯＨ基に対して反応性の基を有するシラン（Ｄ）と反応させる。 （もっと読む）

本発明は、電子材料、光学材料、コーティング材料、シーリング材料または触媒担持体として有用であり、さらに高分子材料の難燃性、耐熱性、耐候性、耐光性、電気絶縁性、表面特性、硬度、力学的強度、または耐薬品性などの各種物性を向上させるための添加剤としても利用できる新規な有機ケイ素化合物およびポリシロキサンを提供する。即ち本発明は、式（１）で示される有機ケイ素化合物、および該有機ケイ素化合物を単量体として含有するポリシロキサンである。

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