【課題】エポキシシリカハイブリッド体を用いた反応性シリコーン組成物であって、従来のシリコーン化合物よりも安定性に優れる反応性シリコーン組成物の提供。
【解決手段】エポキシ基および／または酸無水物基を有するアルコキシシランを６０モル％以上含む加水分解性ケイ素含有基含有化合物に、加水分解縮合をさせ、生成したアルコールをエポキシ基含有化合物の存在下で留去させて得られる、エポキシ基および／または酸無水物基を有する反応性シリコーン組成物。 （もっと読む）

本発明は、ＶＣＭＸのようなエチレン性不飽和のエポキシドとＭＤＤ’Ｍ（ここに、Ｍ＝Ｒ₃ＳｉＯ_1/2、Ｄ＝Ｒ₂ＳｉＯ_2/2、Ｄ’＝ＲＨ＝ＳｉＯ_2/2であり、Ｒ＝アルキルである。）型の水素化ＰＯＳとの間の白金触媒ヒドロシリル化方法に従うエポキシ化ＰＯＳの製造方法に関する。
本発明の目的は、最終生成物の粘度を最適化された態様で制御するのを可能ならしめる、即ち、反応混合物の部分的又は全体的なゲル化を生じさせるような複素環の開環による陽イオン重合の寄生反応を制限するのを可能ならしめる、不均質触媒作用によるエポキシ化ＰＯＳシリコーンの合成方法を提案することである。
この目的は、ヒドロシリル化を少なくとも１種の無機非求核性塩基（ＮａＨＣＯ₃）及び随意の水の存在下に実施することを特徴とする本発明によって達成される。 （もっと読む）

本発明は、反応性≡ＳｉＨ単位と≡ＳｉＯＨ単位との間の脱水素縮合によって架橋することができ且つイリジウム触媒錯体を使用するシリコーン組成物に関する。この触媒錯体は、
・一方の、次の式（Ｉ）：
（ＩｒΣΣ'₂）_n
｛ここで、
Ａ）ｎは１又は２であり、
ｎが１であるならば、Σは３電子ラジカル配位子ＬＸであり、
ｎが２であるならば、Σは、２個のイリジウム原子と共に３電子配位子ＬＸのように挙動する１電子ラジカル配位子Ｘであり、
Ｂ）Σ'は同一又は異なっていて（好ましくは、同一）、それぞれ２電子配位子Ｌを表わす。｝
のイリジウム錯体と、
・他方の、Ｒ₂Ｓ、Ｒ₂Ｏ、ＮＲ₃、カルベン及び有機燐化合物から選ばれる配位子Σ_d
とを一緒に反応させることによって得ることができる。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種の架橋性線状ポリオルガノポリシロキサンＰＯＳ、無機充填剤及び架橋触媒を含み、湿分の不在下において貯蔵安定性であり、水の存在下で架橋してエラストマーになる１成分型ポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）組成物であって、
前記ＰＯＳが非ヒドロキシル化官能化末端、特にアルコキシ、オキシム、アシル及び／又はエノキシタイプ、好ましくはアルコキシタイプの末端を有すること、
該組成物がヒドロキシル化末端を有するＰＯＳを本質的に含まないこと、並びに
前記触媒がバナジウム化合物であること
を特徴とする、前記組成物に関する。本発明はまた、硬化架橋したエラストマー状マスチックにも関する。 （もっと読む）