【課題】 硫黄やアミン等の硬化阻害を受け難く、白金触媒を不要とした安価な加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）水酸基及び／又は加水分解性基が結合した珪素原子を１分子中に少なくとも２個有するジオルガノポリシロキサンと、（Ｂ）金属錯体とを含む加熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物である。 （もっと読む）

【課題】有機修飾シロキサンの調製方法の提供。
【解決手段】シロキサンを末端不飽和エステルでヒドロシリル化することにより、有機エステルで修飾されたシロキサンを調製する方法、触媒として、加水分解酵素群からの、リパーゼ、エステラーゼ、またはプロテアーゼ、好ましくはリパーゼ、より好ましくはカンジダ アンタークチカ（Ｃａｎｄｉｄａ ａｎｔａｒｃｔｉｃａ）由来のリパーゼＢである酵素が使用され、末端不飽和エステルを調製する方法。 （もっと読む）

【課題】硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを提供すること。
【解決手段】上記課題は、不飽和エラストマーと反応できる、化学的に保護された硫黄基を含む、硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを含んでなる組成物により解決する。特定の条件下で、硫黄基は、不飽和エラストマーと反応してもよい。前記硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンが更にフィラー表面とカップリングできる官能基を含むことが好ましい。本発明は、硫黄官能線状ポリオルガノシロキサンを製造・使用する方法に関する実施形態を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】透明性、耐光性、耐熱性に優れ、長期間使用してもクラックや剥離を生じることなく半導体発光デバイスを封止し、蛍光体を保持することのできる、新規な半導体発光デバイス用部材を提供する。
【解決手段】Ｍ^m+Ｘ_nＹ¹_m-nで表わされる化合物を加水分解・重縮合して得られる重縮合物を乾燥して、固体Ｓｉ−ＮＭＲにおいて、全ケイ素に対する、Ｄⁿ化合物のケイ素のモル比が３０％以上であり、３量体及び４量体のＤ²環状物の合計モル比が０．１％以上１５％以下であり、ケイ素含有率が２０重量％以上である半導体発光デバイス用部材を作製する。
（ただし、Ｍはケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタンを表わし、Ｘは加水分解性基を表わし、Ｙ¹は１価の有機基を表わし、ｍはＭの価数を表わす１以上の整数を表わし、ｎはＸ基の数を表わす１以上の整数を表わす。但し、ｍ≧ｎ。） （もっと読む）

【課題】半導体素子などにおける層間絶縁膜として使用するのに適した、面状が良好なシリコーン系膜が形成可能な、しかも誘電率特性、膜強度に優れた膜を形成できる組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ケイ素含有化合物の加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれか、有機溶媒、ＳＰ値１２以上の溶媒を含有する膜形成用組成物であって、ＳＰ値１２以上の溶媒の量が該膜形成用組成物中０．１質量％以上２０質量％未満の範囲であることを特徴とする膜形成用組成物、該組成物から形成される絶縁膜、および、その製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】より高い配向秩序を有する有機半導体膜を、より簡便且つ効率よく形成できる有機半導体装置形成用基板、この基板を用いる有機半導体装置、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成されたゲート電極と、該ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、該ゲート絶縁膜上に形成された有機薄膜とを有する有機半導体装置製造用基板であって、前記有機薄膜が、式（１）：Ｒ_ｎ−Ｓｉ−Ｘ_４−ｎ（式中、Ｒは置換基を有していてもよいＣ１〜２０の炭化水素基等を、Ｘは水酸基等を、ｎは１〜３の整数を表す。）で示されるシラン系界面活性剤、及び該シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機薄膜形成用溶液から形成された有機薄膜であることを特徴とする有機半導体装置製造用基板、この基板に、ソース電極、ドレイン電極、半導体膜および保護膜を有する有機半導体装置、並びにこの有機半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐紫外線性、光透過性に優れ、厚膜形成可能なシロキサン系縮合物、これを含有するポリシロキサン組成物を提供すること。
【解決手段】本発明に係るシロキサン系縮合物は、特定の重量平均分子量を有する２官能のポリシロキサンと、特定の重量平均分子量を有する多官能のシロキサンポリマーとを有機溶媒中で脱アルコール反応させることにより製造することができる。 （もっと読む）

【課題】煩雑な操作を必要とすることなく、安全性に優れ、しかも安価に所望のポリシランを製造する方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）：
（Ｒ¹）₂Ｓｉ（Ｘ¹）₂ （１）
で表わされるジハロシラン化合物、一般式（２）：
Ｒ²Ｓｉ（Ｘ²）₃ （２）
で表わされるトリハロシラン化合物、または一般式（３）：
Ｓｉ（Ｘ³）₄ （３）
で表わされるテトラハロシラン化合物よりなる群から選択される１種または２種以上に、溶媒中、アルカリ金属塩および一般式（４）：
【化１】


で表わされる金属錯体の存在下でマグネシウムを作用させることを特徴とするポリシラン類の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 溶剤に対する溶解性に優れていて容易に薄膜を形成することができ、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料として有用な新規なケイ素含有重合体およびその製造方法を提供すること、また、発光特性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子が得られる有機エレクトロルミネッセンス素子用重合体組成物および有機エレクトロルミネッセンス素子を提供すること。
【解決手段】 ケイ素含有重合体は、特定の繰り返し単位よりなり、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料として用いられることを特徴とし、また、有機エレクトロルミネッセンス素子用重合体組成物は、上記ケイ素含有重合体よりなる重合体成分と三重項発光性金属錯体化合物よりなる錯体成分とを含有してなることを特徴とし、更に、有機エレクトロルミネッセンス素子は、上記の有機エレクトロルミネッセンス素子用重合体組成物により形成された発光層を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、任意の形状に賦形可能で、工業的に生産が容易な光、熱重合性のフラーレンを提供する。
【解決手段】 下記の一般式（１）で示されることを特徴とする重合性フラーレン。Ｃｎ［（ＳｉＲ^１Ｒ^２Ｏ）_ｍ（ＳｉＲ^３Ｒ^４Ｏ）_ｊＳｉＲ^５Ｒ^６−Ｘ−ＯＣ（Ｏ）−ＣＲ^７＝ＣＨ_２］ｋ （１）（ここで、Ｒ^１〜Ｒ^６はそれぞれ独立に水素または炭素数１から１２のアルキル基、アリールアルキル基、アリール基を表し、Ｘは炭素数３から１２のアルキレン基を、Ｒ^７は水素または炭素数１から１２のアルキル基を表し、Ｃ_ｎは炭素数ｎのフラーレンを表す。また、ｎは６０以上の正数を、ｍ、ｊは重合度を表わし１から１００の正数を、ｋは１から１１の正数を表す。） （もっと読む）

【課題】生成物中に残留しない触媒を用いて、生成物の後加工または使用の場合に望ましくない効果をまねくことのない、櫛状にトリオルガノシロキシ基で官能化された線状オルガノポリシロキサンの選択的な合成を可能にする方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）のトリオルガノシロキシ基を有するオルガノポリシロキサンを製造する方法の場合に（ａ）第１の工程で一般式（ＩＩ）のＳｉＨ基を有するオルガノポリシロキサン（Ａ）を周期律表の第ＶＩＩＩ副族の金属およびその化合物の群から選択された触媒（Ｂ）の存在下および場合によっては助触媒（Ｋ）の存在下で水と反応させ、一般式（ＩＩＩ）のＳｉ−ＯＨを有する中間生成物に変え、（ｂ）第２の工程でこうして得られたＳｉＯＨ基を有する中間生成物をＳｉＯＨ基に対して反応性の基を有するシラン（Ｄ）と反応させる。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率の絶縁材料を形成できる化合物、該化合物を含有する絶縁材料形成用組成物、該組成物より得られる絶縁材料を提供する。
【解決手段】下記一般式(１)で表される化合物、その加水分解物および／または縮合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｒ₁〜Ｒ₈は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。ただし、Ｒ₁〜Ｒ₈で表される基のうち少なくとも１つは、置換基として下記一般式（２）で表わされる基を有するアルキル基、アリール基、アルコキシ基又はシリルオキシ基を表わす。
【化２】


一般式（Ｓ２）中、Ｘは加水分解性基を表し、Ｒ₉はアルキル基、アリール基又はヘテ
ロ環基を表す。ｍは１〜３の整数を表わす。 （もっと読む）

【課題】シリコーンのもつ優れた耐熱性、耐候性に加えて高い透明性と衝撃吸収性を付与し、広範囲な用途に使用可能な材料を提供する。
【解決手段】（ａ）アルコキシ基含有３官能シリコーンオリゴマーの少なくとも１種、（ｂ）シラノール基含有２官能シリコーンオリゴマーの少なくとも１種、（ｃ）Ｍ（ＯＲ^４）p（Ｒ^５ＣＯＣＨＣＯＲ^６）〔式中、Ｍはジルコニウム、チタニウム、アルミニウムを示し、Ｒ^４およびＲ^５は同一または異なって、炭素数１〜６の１価炭化水素基を示し、Ｒ^６はＲ^４およびＲ^５と同様の炭素数１〜６の１価炭化水素基の他、炭素数１〜１６のアルコキシ基を示し、ｐおよびｑは０〜４の整数で（ｐ＋ｑ）＝（Ｍの原子価）である。〕で表される有機金属化合物、および（ｄ）水を主成分とするポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

本発明は、フィラーを含む一成分重縮合ポリオルガノシロキサン組成物に関する。本発明は、湿気の不存在下で貯蔵安定的であり、水の存在下で架橋してエラストマーになる一成分ポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）組成物に関し、少なくとも１種の架橋可能な直鎖ポリオルガノシロキサンＰＯＳ、フィラーおよび架橋触媒を含み、ＰＯＳがアルコキシ、オキシム、アシルおよび／又はエノキシ、好ましくはアルコキシ末端を有し、組成物には、基本的には末端にヒドロキシル化ＰＯＳがなく、触媒がバナジウム組成物およびチタン組成物を含む。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られ、Ｓｉ原子１モルに対する、Ｓｉ原子に結合しているＨ、Ｆ、Ｂ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ及びＣ原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が０．９０〜０．２０である樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）成分：非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有する。 （もっと読む）

【化１】


式（Ｉ）のヒドロカルビルシリル不飽和カルボン酸エステルの製造方法が記載されており、ここでｎは０〜１０００のジヒドロカルビルシロキサン単位の数を表す。この方法は式（ＩＩ）の不飽和カルボン酸と式（ＩＩＩ）のヒドロカルビルシリル化合物との反応を包含し、該反応は親珪素性触媒の存在下で行われる。
（もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：下記一般式（８）；
ＳｉＸ_４ …（８）
（式中、Ｘは加水分解性基を示す。）
で表される化合物、一般式（８）で表される化合物の多量体、及び／又は一般式（８）で表される化合物の部分縮合物を必須成分として加水分解縮合して得られる樹脂を含むシロキサン樹脂、
（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び
（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有してなるものである。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られる樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有してなり、上記化合物が、テトラアルコキシシラン及びトリアルコキシシランを含むものである。 （もっと読む）

【化１】


式（ＩＩ）のカルボン酸と式（ＩＩＩ）のヒドロカルビルシリル化合物との反応による式（Ｉ）のヒドロカルビルシリルカルボン酸エステルの製造方法が記載されており、ここでｎは０〜１０００のジヒドロカルビルシロキサン単位の数を表す。反応は親珪素性触媒の存在下で行われる。
（もっと読む）

本発明は、アクリル機能性樹脂に関する。特に、本発明は、光開始剤を用いて紫外線に暴露させることにより、またはフリーラジカル発生剤を用いて、もしくは用いずに、加熱によって、硬化可能であるポリ[オルガノ-コ-（メタ）アクリルオキシヒドロカルビレン]シルセスキオキサン樹脂に関する。該樹脂組成物は、室温における高い貯蔵安定性を有し、且つ、平坦化層、層間絶縁膜、保護層、ガス透過性層、ネガ型フォトレジスト、反射防止コーティング、及び絶縁保護コーティング、並びにＩＣ実装用として有用な膜を造成する。 （もっと読む）