【課題】大面積化した被処理基板に対するプラズマ処理の成膜品質を向上させること。
【解決手段】内部圧力を調整可能に設けられたチャンバー１０と、チャンバー１０内に被処理基板１１を保持するように設けられ、接地されている基板電極３と、チャンバー１０内に基板電極１１に対向して間隔を空けて設けられ、高周波電源２６の給電を受けて放電する対向電極２１と、を備えたプラズマ処理装置において、対向電極２１の長尺方向に複４カ所の給電点２４を設け、各給電点２４に給電するケーブル２５の長さＬを、高周波電源２６の周波数とケーブル２５の構造で決まるケーブル２５の高周波電力の波長をλとしたとき、Ｌ＝ｎλ／２（ｎは正の整数、ｎ≠０）で表される略同一長さに設定するとともに、４カ所の給電点２４を位相の異なる二つの給電系統Ｅ１，Ｅ２に分割し、互いに隣接する各給電点２４の位相が異なるように配置した。 （もっと読む）

【課題】 磁気発生手段が小型であって安価になり低価格のプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 永久磁石装置６が与える磁場の元で媒質ガスを励起してプラズマ化し、このプラズマを被処理体の表面処理に用いるプラズマ処理装置であって、永久磁石装置６は、一方の永久磁石１５を磁性体製の一方の磁石保持ケース１３に吸着収容した一方の磁気ユニット１１と、他方の永久磁石１５―１を磁性体製の他方の磁石保持ケース１３に吸着収容した他方の磁気ユニット１２とを有し、一方の磁石保持ケース１３と他方の磁石保持ケース１３とを、それぞれの合せ目１３ａにおいて磁気保持回路（磁気誘導回路）を構成するように磁気吸着させて枠体Ａを構成し、一方の永久磁石１５と他方の永久磁石１５―１との磁極間において磁界を発生することで磁場を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】 大面積基板のエッチングや薄膜形成等の表面処理を行うのに有用な従来の誘導結合型プラズマ発生装置では、真空容器の外側に高周波アンテナを設けているため、放電室の径が大きくなるにつれ真空容器の絶縁体の厚みを大幅に増大させなければならなかった。
【解決手段】 プラズマ発生装置の真空容器１７の内部にアンテナ全体を入れ、アンテナは複数個の線状導体１８ａ〜１８ｆで構成して、アンテナから放射される誘導電界の全てを有効利用できるようにするとともに、アンテナのインダクタンスを小さくして異常放電の発生を抑制し、高密度プラズマの安定化を図っている。また各線状導体の端部を独立の導入端子で真空容器の内壁に支持して外側で並列接続し、アンテナ配置の自由度を高めている。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理装置において、ガス分散板に形成された複数のガス穴の拡大を均一化させることによって、プロセス特性の均一性を向上させる。また、各ガス穴の拡大を平均化することによって、プロセス特性の均一性を所定の誤差範囲内に維持できる期間を長期化させ、ガス分散板の寿命を延長させる。
【解決手段】 プラズマ処理装置の構成を、減圧自在な処理室１と、複数の開孔９を有するガス分散板３と、ガス分散板３の複数の開孔９を通して処理室１にプロセスガスを供給するガス供給路２と、処理室１で発生するガスを処理室１から排出するガス排出路７と、ガス分散板３と対向して設けられ、処理室１の内部にプロセスガスのプラズマ放電を発生させるコイル４とを含み、ガス分散板３の複数の開孔９とコイル４との相対位置が移動自在である構成とする。 （もっと読む）

連続したプラズマ強化プロセスにおいてウェブ材料を処理するための装置を提供する。当該装置は真空チャンバ（１）を含み、真空チャンバ（１）は、チャンバ（１）内に配置されチャンバ（１）内で一定の減圧を維持するための手段（２）を備え、当該装置はさらに、ウェブ（４）を支持しかつ搬送するための回転ドラム（３）と、ドラム（３）によって支持および搬送されるウェブ（４）に面するマグネトロン手段と、ドラムとマグネトロン手段との間におけるプラズマが維持される空間（１０）にプロセスガスまたはプロセスガス混合物を供給するためのガス供給手段とを含む。マグネトロン手段は、互いに平行に並んで配置される長方形のマグネトロン面を備えた複数の独立したマグネトロン電極（６）を含む。各マグネトロン電極（６）は、それ自体の電源手段（７）によって交流電圧が個々に供給される。ドラム（３）は電気的に接地されるか、浮遊するかまたは負にバイアスがかけられる。当該装置は、プラズマ強化化学気相成長プロセスで可撓性のあるウェブ（４）をコーティングするのに特に好適であり、たとえばそのバリア特性を向上させるために酸化珪素でポリマー膜のウェブをコーティングするのに好適である。当該装置は極めて一定の品質を有する信頼性の高いコーティングで作られ、単純な態様で実行可能なメンテナンスを少ししか必要としない。
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【要約書】
プラズマを形成するための反応空間を有した反応チャンバの上部に配置されかつ外部のＲＦ電源からＲＦ（高周波）電力を供給されて反応空間内に電場を形成する適応型プラズマソースが提供される。この適応型プラズマソースは、１つの導電性ブッシングと少なくとも２個の単位コイルを具備する。ブッシングはＲＦ電源に連結されかつ反応チャンバの上部中心部に配置されている。少なくとも２個の単位コイルは、ブッシングから分枝され、ブッシングを螺旋状に取り巻き、そしてａ×（ｂ／ｍ）に等しい巻回数を有しており、ただし、ａ及びｂは正の整数、ｍは単位コイルの個数である。 （もっと読む）

【課題】高品質のガラス膜を形成し、信頼性の高い光ファイバプリフォームを形成する方法および装置を提供する。添加物密度の均一な光ファイバプリフォームを提供する方法および装置を提供する。
【解決手段】ガラス管１００内に、プラズマ領域ＰＲを形成し、前記ガラス管を前記プラズマ領域に対して相対的に往復運動させることにより、プラズマ誘起ＣＶＤ法により、前記ガラス管内面にガラス膜を成膜する工程を含む光ファイバプリフォームの製造方法において、前記プラズマ領域に磁界を印加し、プラズマを封じこめつつ、成膜する。 （もっと読む）