【課題】溶射効率のよい溶射用粉末を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、セラミックス粒子を含む溶射用粉末であって、セラミックス粒子のフラクタル次元の値が１．０８以下であることを特徴とする溶射用粉末である。セラミックス粒子は造粒−焼結粒子であることが好ましく、セラミックス粒子の平均アスペクト比は１．３０以下であることが好ましい。また、溶射用粉末が追加セラミックス粒子を含んでもよく、追加セラミックス粒子のフラクタル次元の値が１．０８以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】優れたろう付け性能を実現し得るフラックスからなる溶射皮膜を、良好なる密着性及び溶射効率をもって形成することが可能な、ろう付け用アルミニウム材の有利な製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミニウム材１０として、表面粗さ（Ｒａ）が２μｍ以下とされたものを用い、このアルミニウム材１０を１００〜６００℃の温度に保持した状態下において、フレーム溶射法にて、その表面１２に、フッ化物系フラックス粉末４０を溶射して、かかるフラックスからなる溶射皮膜１６を形成せしめた。 （もっと読む）

【課題】高強度を保持して空隙率を良好に向上させるとともに、部品点数を削減し且つ経済的に得ることを可能にする。
【解決手段】アノード側セパレータ３４は、アノード側給電体５４を一体化する。アノード側給電体５４は、第１流路５６を形成する流路層５４ａと、前記流路層５４ａ上に設けられ、前記流路層５４ａよりも細孔に設定される中間層５４ｂと、前記中間層５４ｂ上に設けられ、前記中間層５４ｂよりも細孔に設定されるとともに、固体高分子電解質膜３８に接する膜支持層５４ｃとを有する。流路層５４ａ、中間層５４ｂ及び膜支持層５４ｃは、減圧プラズマ溶射によりアノード側セパレータ３４に、順次、成形される。 （もっと読む）

【課題】Fe-Mo二元系平衡状態図ではみられない準安定相ではあるが、Fe₇Mo₆と組成が同じであり、かつFeやMoと同じく体心立方構造を持つことで、高靭性かつ塑性変形しやいなどの加工性の改善が期待される新規なFe-Mo二元系合金、および該合金を含有する合金被膜を提供する。
【解決手段】組成がFe：54〜61原子%、Mo：46〜39原子%であり、金属相が体心立方構造を持つFe-Mo二元系固溶体単相からなるFe-Mo二元系合金。この合金を、組成がFe：54〜61原子%、Mo：46〜39原子%であるFe₇Mo₆合金粉末をその融点以上に加熱し、ついでその融解粒子を基板表面に溶射することにより製造する。 （もっと読む）

【課題】粒径の小さい溶射材料を使用しても、溶射装置の内部に溶射材料が付着することや、付着した溶射材料がスピッティングを起こすことがない溶射装置を提供する。
【解決手段】溶射材料供給部１０４は、溶射材料供給部１０４から燃焼ガス中に供給した溶射材料が、溶融する前に噴射口１０３ａから溶射装置１００の外へ噴射されるような位置に配置される。これにより、溶射材料が溶射装置内部に付着しやすい溶融状態となる前に噴射されるため、溶射装置内への付着やスピッティングを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】高い耐久性を有し、表面に凹凸が少なく、表面の平滑性に優れた溶射皮膜を備え、キャビティを有する射出成形用の金型において用いられ、キャビティを構成する面を形成する入れ子を提供する。
【解決手段】入れ子１１は、キャビティを有する射出成形用の金型において用いられ、キャビティを構成する面を形成し、（ａ）金属製ブロック２２、（ｂ）金属製ブロック２２の少なくとも１表面に形成された、厚さ０．０３ｍｍ乃至１ｍｍの金属下地層２３、及び、（ｃ）金属下地層２３上に形成された、セラミックスから成る溶射皮膜２４から構成されており、溶射皮膜２４は厚さ方向に変化した気孔率を有し、該気孔率は、溶射皮膜２４の表面に近い側ほど、低い値である。 （もっと読む）

【課題】自己の耐焼付性・耐摩耗性に優れると共に相手攻撃性が低く、低コストなピストンリング用溶射皮膜を提供する。
【解決手段】MoとNiCr合金と炭化クロムからなる造粒焼結粉とMo造粒焼結粉とNiCr合金粉を混合し、溶射原料粉として形成した溶射皮膜はMoとNiCr合金からなる領域AとMoとNiCr合金と炭化クロムからなるサーメット領域Bが混在した組織でなるHVOF溶射皮膜は耐焼付性及び自己耐摩耗性に優れると共に相手材を摩耗させることが少ない。この溶射皮膜を外周摺動面に有するピストンリングも同様な摺動特性を得ることが出来る。 （もっと読む）

本方法は、燃焼流と被覆すべき基板または部品との間の相対運動が、コーティング領域の表面の６０％を超える連続コーティング領域間でオーバーラップを生ずるスピードで起こる高周波パルスデトネーション技術を用いて、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＣｅＯ_２、Ｓｃ_２Ｏ_３、ＭｎＯ、および／またはそれらの複合混合物等のセラミック酸化物のコーティングを得ることを可能にする。この方法は、単一パスで３０ミクロンを超える厚さのセラミックコーティングを生成することを可能にする。 （もっと読む）

【課題】ミクロンスケールのコーティング並びにナノスケールのコーティングの両方におけるコーティング組成物と比較して向上した特性によって特徴付けられるコーティング組成物を提供する。
【解決手段】分離した（ｄｉｓｃｒｅｅｔ）ミクロンスケール粒子及びナノスケール粒子の分離した（ｄｉｓｃｒｅｅｔ）アグロメレートを含む供給組成物の溶射により形成されるコーティング。 （もっと読む）

【課題】粉体の供給が容易で、均一なカーボン膜を作成するための溶射により適したフラーレン粒体、及びその製造方法、並びにこのフラーレン粒体を原料として用い、溶射法により成膜することを特徴とするカーボン膜、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】フラーレンの粒体は、粒径の下限が５０μｍ以上、上限が８００μｍ以下であり、かつ充填密度が０．７ｇ／ｃｍ^３以上であることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、耐食、耐摩耗部品に、特にガスフレーム溶射を用いて基板に溶射皮膜を形成するためのＮｉ基自溶合金粉末を提供する。
【解決手段】 質量％で、Ｃ：０．４〜０．９％、Ｓｉ：３．５〜５％、Ｃｒ：１２〜１７％、Ｍｏ：４超〜８％、Ｃｕ：４％以下、Ｆｅ：５％以下、Ｂ：２．５〜４％、Ｏ：２００ｐｐｍ以下を含み、残部がＮｉおよび不可避不純物であり、かつＯｐｐｍ≧−２０Ｍｏ％＋１００を満たすことを特徴とするＮｉ基自溶合金粉末。また、上記Ｎｉ基自溶合金粉末が粉末分級粒度が４４〜１２５μｍの範囲内であり、平均粒径が８０μｍ以上であること。 （もっと読む）

本発明は、(a)昇華するセラミック成分、(b)昇華しない金属又は半導体物質、並びに(c)バインダーから形成される自由流動性の凝集物を使用する溶射原料組成物に関する。本発明は、前記凝集物の製造方法、及び前記凝集物からセラミック含有複合構造物の製造方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】 耐高温エロージョン摩耗性を向上させるために、硬度、高温下での硬度（高温硬度）、耐摩耗性、耐熱衝撃性（耐熱サイクル特性）、および耐食性に優れる溶射用Ｎｉ基自溶合金粉末を提供する。
【解決手段】 アトマイズ法により作製され、Ｎｉ基自溶合金の粒子内部に、粒径５μｍ以下のクロムカーバイドが均一に析出させられられている溶射用Ｎｉ基自溶合金粉末である。具体的には、前記Ｎｉ基自溶合金の組成は、２．５質量％〜４．５質量％のＣと、２．０質量％〜４．０質量％のＳｉと、３０．０質量％〜４２．０質量％のＣｒと、１．５質量％〜４．０質量％のＢと、０．５質量％〜２．０質量％のＭｏとを含み、残部がＮｉおよび不可避的不純物である。さらに、５．０質量％以下のＦｅを含みうる。 （もっと読む）

【課題】本発明はナノ粒子を用いて表面をコーティングする方法、この方法によって得られるナノ構造コーティング、及びこの方法を実施する装置に関する。
【解決手段】本発明に係る方法は分散かつ安定された前記ナノ粒子のコロイド溶液を熱プラズマジェットに注入する工程と熱プラズマジェットが前記ナノ粒子を前記表面にスプレーする工程とを備えることを特徴とする。本発明に係る装置（１）は、プラズマトーチ（３）と、ナノ粒子のコロイド溶液（７）を含む少なくとも一つの容器（５）と、基材（S）を固定及び移動する装置（９）と、前記プラズマトーチのプラズマジェット（１３）に前記コロイド溶液を注入する装置（１１）とを備える。本発明は、前記方法によって得られるナノ構造コーティングを備えている光学、電子及びエネルギー装置（電池、断熱材）に応用できる。 （もっと読む）

【課題】 高硬度かつ高緻密の皮膜を得ることができ、しかも皮膜の全厚にわたって均一な性状のものを得ることができるコールドスプレー皮膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】 溶射材料の融点または軟化温度よりも低い温度のガスを超音速流にして、前記超音速流に前記溶射材料を投入し、固相状態のまま基材に高速で衝突させて皮膜を形成するコールドスプレー皮膜の形成方法において、粒径５〜５０μｍの皮膜原料粉末と粒径１００〜１０００μｍのピーニング粉末を混合した原料粉末を用いて皮膜を形成することを特徴とするコールドスプレー皮膜の形成方法。 （もっと読む）

本発明のピストンリングは平均粒径が５μｍ以下の炭化クロム粒子と、Ｎｉ−Ｃｒ合金又はＮｉ−Ｃｒ合金及びＮｉのマトリックス金属とからなる溶射皮膜を少なくとも外周摺動面に有し、前記溶射皮膜は平均孔径が１０μｍ以下の気孔を有するとともに気孔率が８体積％以下である。微細な組織を有する均質な溶射皮膜を形成することにより、耐摩耗性、耐焼付性及び耐剥離性に優れ、かつ相手材に対する攻撃性の低いピストンリングが得られる。
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【解決手段】 フィッシャー径が０．６μｍ以下の希土類元素（但し、イットリウムを含む）含有酸化物を造粒して得られた造粒粉末を１，２００〜１，８００℃で焼成することを特徴とする溶射用球状粒子の製造方法。
【効果】 本発明の溶射用球状粒子によれば、十分な破壊強度を有し、溶射時のフレーム（プラズマ）中でも崩壊しない溶射用球状粒子を提供することができる。 （もっと読む）