【課題】導電性・絶縁性試料を問わず試料に損傷を与えることなくナノメートルオーダー精度での加工を実現することができ、かつ従来手法に比べ効率に優れ、加工時間の短縮・簡便化を図ることができる試料の微細加工方法を提供する。
【解決手段】超高真空下において、試料多層膜構造を有する試料の被加工部に、高電界を形成すると共に、レーザー光１３を照射して、光励起電界蒸発を行わせることによりその原子構造に損傷を与えることなく微細加工する。このとき、高電界を形成するための電極１１ａとして、レーザー光の行路となるピンホール１２が設けられた電極を用いることが好ましい。光ファイバーを通してパルスレーザー光を照射することが好ましい。また、レーザー光として、パルスレーザー光を用いることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＴフィルム等の汎用高分子基板を用いた場合でも、基板上に優れた導電性と光透過性とを有する導電性膜を、簡易かつ安価に、そして生産性良く製造することができる、導電性膜の製造方法、及び、導電性膜を提供する。
【解決手段】導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を用いて基板上に導電性膜を製造する方法であって、該製造方法は、有機溶媒分散体を基板に塗工し、パターンを有する導電性膜を形成する工程と、赤外線を照射する工程とをこの順に行うことによって基板上にパターンを有する導電性膜を形成することを特徴とする導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】短時間で減圧室を大気圧に昇圧することを可能としながらも、設備コストを大きく低減することができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】減圧下で処理ガスを被処理物に接触させ、被処理物を表面処理する表面処理装置１であって、開閉自在な扉体３を備えた減圧室２と、前記減圧室２に接続された排気管１０と、排気管１０に備えた真空バルブ機構６１を介して接続され、減圧室２を所定圧力に減圧する減圧機構６０と、減圧室２に圧縮エアを供給して減圧室２を昇圧する昇圧機構１１とを備えている。昇圧機構１１は、エアコンプレッサから供給される圧縮エアを調圧する調圧機構１２と、調圧されたエアを蓄積するエアタンク１３と、エアタンク１３と排気管１０とを接続する圧縮エア供給管１４と、圧縮エア供給管１４を開閉するバルブ機構１５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】金属を含む母材表面にＣ（炭素）を直接注入して金属炭化物表面層を形成する方法、並びにその金属炭化物表面層を提供する。
【解決手段】１種類以上の金属４，５を主とする母材表面を溶融し、この母材表面に溶融池Ｘ１を形成する工程と、溶融池Ｘ１において、溶融した母材表面に存在する金属４，５に炭素３１を直接反応させる工程と、炭素３１が反応した溶融池Ｘ１を冷却により硬化させて金属炭化物表面層６１を形成する工程と経ることで、母材４の表面に金属炭化物表面層６の形成する。
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【課題】プラズマ電子銃を用いた電子ビーム照射装置は、比較的大きな面積をシングルパルスで同時に照射するから、優れた表面改質結果が得られ、研削、放電加工の後工程に利用される。しかし、電子ビームパルスの深部貫入性と電子飛程により改質表面に現出する噴口（crater）の生成を防止するのは難しかった。そこでこの発明は前記噴口（crater）生成を抑制する電子ビームパルスの照射方法を提供する。
【解決手段】前記プラズマ電子銃を用いた電子ビームパルスの先頭部が高い加速電圧で短い時間幅であり、この先頭部に連続して続く後続部の電子ビームパルスが、低い加速電圧で長い時間幅であるような階段状のエネルギ波形に制御されて照射されるようにする。 （もっと読む）