【課題】 汚れを支持体から取り除くことができる感光体ドラムの製造方法を提供する。
【解決手段】 支持体１２の上端を洗浄液の液面Ｗよりも上方に残して浸漬させる。支持体１２の外周面から分離した汚れ５０の一部は下降流Ｂに逆らって上昇し、横流れＡに乗り洗浄槽１８外へ導かれ、残りの汚れ５０は、下降流Ｂに乗って洗浄槽１８の底部から洗浄槽１８外へ導かれる。分離した汚れ５０は、支持体１２の下端から支持体１２の内部に洗浄液が流入するため支持体１２の内部に留められる。さらに、支持体１２の内部に満たされた洗浄液と共に内部に留められた汚れが洗浄液の液面Ｗの上方に吐出されないような速度で支持体１２を洗浄液の液面Ｗに沈める。支持体１２全体が洗浄液に浸漬されると、今度は、支持体１２の内部に洗浄液の下降流Ｂが形成され、以後、下降流Ｂとほぼ同じ速度で、あるいは、下降流Ｂよりも遅い速度で支持体１２を洗浄液中に沈めていく。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】
分岐エステル及び有機溶質を具えるステンレススチールクリーニング組成物であるクリーニング組成物。このクリーニング組成物の使用及び使用方法も、本発明の範囲に含まれる。 （もっと読む）

アニオンＮ−置換フッ素化スルホンアミド界面活性剤ならびにクリーニング溶液および酸エッチング溶液中での該界面活性剤の使用が記載されている。クリーニング溶液およびエッチング溶液は、例えば、酸化シリコン含有基材のクリーニングおよびエッチングにおいて多様な基材と合わせて用いられる。 （もっと読む）

マイクロエレクトロニックデバイス構造およびプロセス装置から望ましくない物質を除去するために、たとえば超臨界二酸化炭素などの超臨界流体を用いる組成物および方法。フラックスおよびはんだプリフォーム表面膜を除去するための有用性を有する、このようなタイプの一組成物には、たとえば超臨界ＣＯ_２などの超臨界流体、およびたとえばキシレンなどの有機共溶媒が含まれる。半導体基板から金属、金属酸化物、金属含有エッチング後残渣およびＣＭＰ粒子を除去するための有用性を有する、このようなタイプの別の組成物には、超臨界流体および少なくとも１つのβ−ジケトンが含まれる。

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【課題】 機械的強度が強くて、単位面積当たりの静電容量の高い陽極箔を製造することができるアルミ電解コンデンサ用陽極箔の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 アルミニウム箔を電解エッチングしてピットを生成させる前段エッチング工程と、前記前段エッチング工程により形成されたピットを拡大する後段エッチング工程とからなるアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法であって、前段エッチング工程と後段エッチング工程の間に、アルミニウム箔の表面の皮膜を溶解させる酸性水溶液に浸漬する第１の中間処理工程と、アルミニウム箔の表面に皮膜を生成させる水溶液に浸漬する第２の中間処理工程を設けた製造方法としたものである。 （もっと読む）