【課題】レンズの無効領域が少ない固体撮像素子を容易に製造することができる固体撮像素子の製造方法を提供する。
【解決手段】レンズ２０を構成するレンズ母材層２１を形成する工程と、このレンズ母材層２１上に、レジスト２３よりも熱膨張係数の大きい中間膜２２を形成する工程と、この中間膜２２上に接して、レジスト２３を形成する工程と、その後、熱リフローによりレジスト２３をレンズの形状とする工程と、エッチングにより、レジスト２３のレンズの形状をレンズ母材層２１に転写して、レンズ２０を形成する工程とを有して、受光部の上方にレンズ２０が設けられた固体撮像素子を製造する。 （もっと読む）

【課題】高集積化を図ることができる固体撮像装置及び情報端末装置を提供する。
【解決手段】入射した光を電荷に変換して蓄積する光電変換素子が形成された第１面及び前記第１面と反対側の第２面を有する複数の画素が２次元的に配置され、前記複数の画素の前記第１面によって上面１１が形成され、前記複数の画素の前記第２面によって裏面１２が形成された撮像基板１０と、前記撮像基板１０の前記上面１１側に設けられた遮光部材１３と、を備える。前記複数の画素は、前記遮光部材１３の上方から光が照射された場合に、前記遮光部材１３によって、遮光される画素と、遮光されない画素とに区別され、前記遮光されない画素の前記光電変換素子によって蓄積された前記電荷は、前記遮光される画素の前記第２面に形成されたＡＤ変換回路によってデジタル信号に変換される。 （もっと読む）

【課題】外的ノイズなどに対して安定した動作を実現可能な光電変換装置およびこれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】光電変換装置４０Ａは、基板４１上において、透光性電極５２と、透光性電極５２と基板４１との間に配置された光反射性電極５４と、透光性電極５２と光反射性電極５４とに挟持された光電変換層５３とを有する光電変換素子としてのフォトダイオード５１と、フォトダイオード５１に電気的に接続された３つのトランジスター６１，６２，６３を具備する画素回路と、フォトダイオード５１と３つのトランジスター６１，６２，６３とは、基板上において異なる層に配置されており、光反射性電極５４と同層に配置され、３つトランジスター６１，６２，６３の半導体層６１ａ，６２ａ，６３ａ上に平面的に重なると共に固定電位に接続された遮光膜６５Ａと、を備えた。 （もっと読む）

【課題】１画素内において、複数の光電変換部それぞれで発生する電荷の移動を制御できるように、光電変換部間を分離する分離領域のポテンシャル障壁の高さを変えられるようにした撮像素子を提供する。
【解決手段】複数の画素を有する撮像素子であって、各画素が、前記撮像素子より被写体よりに配置された光学系２０２の異なる射出瞳領域を通過した複数の光束をそれぞれ受光して電荷を蓄積する複数の光電変換部２０３、２０４と、前記複数の光電変換部の間を分離する分離領域３０７と、前記分離領域の電位を、複数の電位のいずれかに選択的に設定する設定手段３０６とを有し、前記複数の光電変換部から、蓄積された電荷に応じた信号を独立に読み出すことを可能とする。 （もっと読む）

【課題】ワイヤグリッド偏光子へのダストの付着を抑制することが可能な固体撮像装置を提供する。
【解決手段】光電変換素子２１と、光電変換素子２１上に設けられたワイヤグリッド偏光子３０と、光電変換素子２１に設けられる導体層２４とワイヤグリッド偏光子３０とを電気的に接続する導体膜３５とを備える固体撮像装置２０を構成する。 （もっと読む）

【課題】偏光画像データを出力する従来のカメラでは、偏光画像データと共に同一被写体を捉える通常のカラー画像データを出力することができなかった。
【解決手段】上記課題を解決すべく、撮像素子は、入射光を電気信号に光電変換する、二次元的に配列された光電変換素子と、少なくとも一部の前記光電変換素子のそれぞれに一対一に対応して設けられたカラーフィルタと、少なくとも一部の前記光電変換素子のそれぞれに一対一に対応して設けられたフォトニック結晶偏光子とを備える。 （もっと読む）

【課題】光線クロストークを防止しながら撮像装置の構成を簡素化する。
【解決手段】撮像装置１００は、光透過性の基板３２と、基板３２の第１面３２１に対向する複数のレンズ４４と、基板３２の第２面３２２に形成されて各レンズ４４の光軸が通過する開口部３６を有する遮光層３４と、第２面３２２に間隔をあけて対向する受光面５６をレンズ４４の光軸が通過するように配置された複数の受光素子５４とを具備する。レンズ４４の有効径Ｄと、開口部３６の直径ａと、受光面５６と遮光層との距離ｈと、受光面５６の直径ｄと、受光面５６とレンズ４４の中心との距離ｓと、各受光素子５４のピッチｐと、基板３２の屈折率ｎとは、ａ＜（ｈ・Ｄ＋ｈ・ｄ−ｓ・ｄ）／ｓおよびｔａｎ^−１｛（ｐ−ａ／２−ｄ／２）／ｈ｝＞ｓｉｎ^−１（１／ｎ）を満たす。 （もっと読む）

【課題】 光を光電変換部に精度よく入射させる。
【解決手段】 複合部材３００は、絶縁膜３１０と、各々が別々の光電変換部３に対応して設けられ、絶縁層３１０に囲まれた、絶縁膜３１０の屈折率よりも高い屈折率を有する複数の高屈折率部材３２０と、複数の高屈折率部材３２０同士を連結するように絶縁膜３１０上に設けられた、絶縁膜３１０の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率膜３３０とを、少なくとも有しており、複数のレンズ部１１０のうちの、互いに隣り合うレンズ部同士が接している。 （もっと読む）

【課題】 撮像素子のマイクロレンズの集光位置をより好ましく調整する。
【解決手段】 撮像素子モジュールは、複数の画素と、各々の画素上に配置されたマイクロレンズと、マイクロレンズの位置を光軸方向に調整するレンズ調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】レンズの反射を抑制することが可能な酸化膜を低温下で形成する。
【解決手段】基板に形成されたレンズの上に、第１元素を含む第１原料、第２元素を含む第２原料、酸化剤および触媒を用いて空気の屈折率より大きく、レンズの屈折率より小さい屈折率を有する下層酸化膜を形成する下層酸化膜形成工程と、下層酸化膜の上に、第１原料、酸化剤および触媒を用いて空気の屈折率より大きく、下層酸化膜の屈折率より小さい屈折率を有する上層酸化膜を形成する上層酸化膜形成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ワイヤグリッド型偏光子技術に基づく、構成、構造が簡素な偏光素子を備えた固体撮像素子を提供する。
【解決手段】固体撮像装置は、光電変換素子６１、及び、光電変換素子６１の光入射側に設けられた偏光素子７０を備えた固体撮像素子４１を複数、有し、偏光方位が異なる２種類以上の偏光素子７０を備え、各偏光素子は、光電変換素子側から、ストライプ状の反射層７１、反射層７１上に形成された絶縁層７２、及び、絶縁層７２上に離間された状態で形成された複数の断片７３’から成る光吸収層７３の積層構造を有する。 （もっと読む）

【課題】撮像素子によって受光される光が少ないといった課題がある。
【解決手段】撮像装置は、被写体が配される被写体領域の一方側に配され、受光面での受光量に応じた電気信号を出力する撮像素子が複数個整列した撮像素子アレイと、前記被写体領域の前記一方側において、前記撮像素子アレイの各々の前記撮像素子に対応して前記受光面側に配され、前記撮像素子の前記受光面の面積よりも小さいピンホールを複数個整列したピンホールアレイと、前記被写体領域の他方側において、前記ピンホールアレイの各々の前記ピンホールに対応して配され、前記ピンホールに集光する集光素子が複数配列した集光素子アレイとを備え、前記被写体および前記ピンホールアレイの少なくともいずれか一方を移動させつつ前記撮像素子アレイにより複数の画像を撮像して出力する。 （もっと読む）

【課題】固体撮像装置に設ける場合の感度低下を抑え、且つ、画素毎の偏光機能を有することが可能な偏光子の構造を提案する。
【解決手段】入射光の光量に応じた信号電荷を生成する受光部１２と、受光部１２以外の領域に形成される遮光層２７と、所定の周期で帯状に配列された反射層２１を含む偏光子２６と、を有し、偏光子２６と遮光層２７とは、同一層上に形成される構成とする。 （もっと読む）

【課題】スミア発生の更なる低減を目的に、層内レンズの形状のばらつきを少なくしつつ、レンズ部を更に深く形成する固体撮像素子の製造方法及び固体撮像素子を提供する。
【解決手段】半導体基板１１に設けられた光電変換部１２と、光電変換部１２の上方に開口が設けられた遮光膜１８とを備える固体撮像素子の製造方法であって、遮光膜１８を形成する工程と、遮光膜１８とを覆うように第１の絶縁膜２２を成膜し、第１の絶縁膜２２のリフローとエッチングを行うことで、第１の絶縁膜２２を遮光膜の側部にのみ残す工程と、さらに光電変換部１２の上方に第１の絶縁膜２２と同種の第２の絶縁膜２４を成膜する工程と、第２の絶縁膜２４の上に屈折率が異なる他の絶縁膜２６を成膜する工程とを有し、他の絶縁膜２６に光電変換部側に突出するレンズ部を形成し、該レンズ部を第２の絶縁膜２４の表面形状に応じた形状とする。 （もっと読む）

【課題】 受光面から層内レンズ下までの距離を短縮し、感度低下をもたらすことなく集光効率を高めた固体撮像装置を製造すること。
【解決手段】 基板の一主面に配された、有効画素領域と、基準信号を作成するためのオプティカルブラック領域とを有する固体撮像装置の製造方法であって、前記基板の一主面上に第１メタル層を形成する第１工程と、前記第１メタル層上に第１絶縁膜を形成する第２工程と、前記第２工程後に、前記オプティカルブラック領域を遮光するための第２メタル層を形成する第３工程と、前記第３工程後に平坦化膜を形成することなくパッシベーション層兼層内レンズ形成膜を形成する第４工程と、前記パッシベーション層兼層内レンズ形成膜を加工して、少なくとも前記有効画素領域に層内レンズを形成し、前記層内レンズ形成後の前記パッシベーション層兼層内レンズ形成膜の残膜によりパッシベーション膜を形成する第５工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】より多くの光を受光領域に取り込むことができる固体撮像装置を提供する。
【解決手段】二次元配列された複数の受光領域１１〜１３を有し、受光領域１１〜１３への入射光を光電変換し、入射光の強度に応じた電気信号を出力する光電変換部１０と、光電変換部１０の上層に設けられる複数の集光レンズ２１からなるレンズ部２０であって、集光レンズ２１の各々が、連続する第１（１１）〜第３（１３）の受光領域１１〜１３の各組に対応して設けられるレンズ部２０と、光電変換部１０とレンズ部２０との間に設けられる分光素子３０であって、分光素子３０が、周期的に屈折率が変化する媒体よりなり、集光レンズ２１を透過した第１の波長帯及び第３の波長帯の光を回折させて、第１の受光領域１１及び第３の受光領域１３に入射させ、集光レンズ２１を透過した第２の波長帯の光を偏向せずに透過して、第２の受光領域１２に入射させる分光素子とを備える。 （もっと読む）

【課題】解像度を向上することを可能にする固体撮像装置を提供する。
【解決手段】固体撮像素子のチップ１３と、固体撮像素子へ光を結像させる結像レンズ１１と、結像レンズ１１とチップ１３との間に配置された、屈折率が１よりも大きい材料とを含み、屈折率が１よりも大きい材料が、平板状の部分１６Ｂと凸な曲面形状の部分１６Ａとを有する光学部品１６を構成し、この光学部品１６の凸な曲面形状の部分１６Ａが、チップ１３の最上層の上に接触していて、凸な曲面形状の部分１６Ａと、チップ１３の最上層との接触幅が８００ｎｍ以内である、固体撮像装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】高い解像性が得られ、高屈折率かつ透過率が高いパターンを形成可能な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、平均粒子径が１ｎｍから１００ｎｍである二酸化チタン粒子（Ａ）、水素原子を除いた原子数が４０〜１００００の範囲であるグラフト鎖を有するグラフト共重合体（Ｂ）、及び溶媒（Ｃ）を含む分散組成物と、重合性化合物（Ｄ）と、重合開始剤（Ｅ）とを含む。 （もっと読む）

ＣＭＯＳ製造プロセスとナノワイヤ製造プロセスとを結合してアクティブピクセル配列としてイメージングデバイスを形成する。配列内のピクセルはナノワイヤを囲む単一または複数のフォトゲートを含む。フォトゲートは、ナノワイヤのポテンシャルプロファイルを制御し、光生成電荷のナノワイヤ内の蓄積と、信号読み出しのための電荷の転送を可能とする。各ピクセルは、リセットトランジスタ、電荷転送スイッチトランジスタ、ソースフォロワー増幅器、およびピクセルセレクトトランジスタを含む読み出し回路を備えても良い。ナノワイヤは一般に、ナノワイヤの先端に衝突する光エネルギーを受けるためにバルク半導体基板上で垂直ロッドとして構成される。ナノワイヤは、光検出器、または光線をバルク基板に導くように設定された導波管、のいずれかとして機能するよう設定しても良い。ここでの実施形態では、ナノワイヤフォトゲートおよび基板フォトゲートの存在によって波長の異なる光を検出することができる。

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