【課題】荷電粒子ビームリソグラフィシステム、及びターゲットの荷電粒子ビーム露光のために最適化されたターゲット位置決め装置を使用する動作方法を提供する。
【解決手段】ターゲット３上に荷電粒子ビーム２を投影するための真空チャンバ５０に配置され、荷電粒子ビーム２を偏向方向に偏向させるための偏向手段を有する荷電粒子光学カラム４と、ターゲット３を保持するためのキャリア及び偏向方向とは異なる第１の方向に沿ってキャリアを保持し移動させるためのステージ５２を有するターゲット位置決め装置５と、を具備し、このターゲット位置決め装置５は、荷電粒子光学カラム４に対する第１の方向にステージ５２を移動させるための第１のアクチュエータ５３を有し、キャリアは、ステージ５２に移動可能に配置されており、ターゲット位置決め装置５は、第１の相対位置にステージ５２に対してキャリアを保持するための保持手段を有する。 （もっと読む）

【課題】光学鏡筒に対する磁場遮蔽とフットプリントとの両立に有利な描画装置を提供する。
【解決手段】この描画装置１は、荷電粒子線で基板５に描画を行う描画装置であり、基板５に対して荷電粒子線を射出する光学鏡筒３と、基板５を保持し、光学鏡筒３の軸に対して少なくとも垂直な方向に可動とするステージ６と、検出器１３と、ステージ６の側面に対向するように検出器１３を支持する支持部１４とを含み、ステージ６の位置を計測するための検出部と、ステージ６に設けられ、ステージ６の上面に対向する光学鏡筒３の開口を磁場から遮蔽する磁気遮蔽部１２とを備える。ここで、磁気遮蔽部１２は、軸の方向にて検出部とは重ならないような配置でステージ６に備えられている。 （もっと読む）

【課題】試料の表面に生じている電荷分布をミクロンオーダーの高分解能で測定することを可能とする。
【解決手段】表面電荷分布を有する試料を荷電粒子ビームで走査し、試料の表面電荷分布を測定する表面電荷分布測定方法。装置の構成に基づいて試料の表面電荷分布モデルを設定するモデル設定工程と、起点の時点から次点の時点までの時間間隔を設定して荷電粒子ビームの軌道を算出する軌道計算工程と、試料の表面電荷分布の実測値を求める実測工程と、軌道計算工程において算出された電子軌道計算データを、実測工程における実測値と照合する照合工程と、照合工程において電子軌道計算データと実測値との誤差が所定の範囲内であれば表面電荷分布モデルを実際の表面電荷分布として採用する判定工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マスクの進行方向からの位置ずれを抑制することのできるステージを備えた荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】ステージは、マスクＭの裏面を支持する３つのピンＰ１、Ｐ２、Ｐ３を有し、これら３つのピンＰ１、Ｐ２、Ｐ３は、マスクＭの重心を通りステージの進行方向と平行な直線に対して対称に配置されている。また、３つのピンＰ１、Ｐ２、Ｐ３のうち少なくとも鏡像関係にある２つのピンＰ１、Ｐ２を構成する材料の剛性は、設計上同じである。３つのピンＰ１、Ｐ２、Ｐ３は、マスクＭの周縁部を支持することが好ましい。ステージは、マスクＭに描画するパターンの密度に応じて可変速で連続移動することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子線装置の位置決め方法及び装置に関し、周期的な揺らぎを減少させることができる電子線位置決め方法及びその機能を具備する電子線装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電子線を発生させる電子源１と、当該電子線を加速、減速、収束及び偏向させる光学系と、当該電子線を走査し、またはブランキング制御するための制御系と、前記電子線が照射される材料７を保持するためのステージ６と、該ステージ６の位置を計測するためのステージ測長系１６ａと、前記材料７から放出される電子線を検出する電子検出部１８と、該電子検出部１８から得られた検出信号を処理するための信号処理系１９とからなる電子線装置において、前記ステージ測長系１６ａからの補正信号に振幅と位相を調整可能な周期信号を加算するように構成される。 （もっと読む）

【課題】ディスク媒体に同心円状に形成されたトラックのパターンを、回転ステージの回転同期軸振れの影響を受けることなく、適正に検査できるようにする。
【解決手段】本発明のパターン検査装置１は、レジスト膜への電子ビーム照射によりパターン描画されているとともにパターン描画が周方向への回転動作を利用して行われたディスク媒体４のトラックのパターンを検査するものであって、ディスク媒体４が載せられる回転ステージ１４と、この回転ステージ１４に載せられたディスク媒体４に対して電子ビームを照射する照射光学系２と、この照射光学系２による電子ビームの照射によって回転ステージ１４上のディスク媒体４から発生する電子を検出する電子検出器３とを備え、回転ステージ１４は、ディスク媒体４にパターン描画するときに当該ディスク媒体を回転動作させるために用いた回転ステージと同一の回転ステージで構成されている。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度位置決めを実現できるステージ装置，それを用いた荷電粒子線装置及び縮小投影露光装置，およびステージ制御方法を提供することにある。
【解決手段】ステージ装置は、ステージ１０を駆動するモータ３０と、モータにより駆動されるステージの位置が最終目標位置となるような前記アクチュエータの駆動量を算出するステージ制御演算器１００を有する。ステージ制御演算器１００は、ステージの目標位置とステージの位置の差分に基づいて、ＰＩＤ制御する補償演算器１２０を有する。また、ステージの特性を同定するモデル同定器１３０と、モデル同定器によって得られた情報を基に、補償演算器におけるステージ制御用補償パラメータを演算する制御ゲイン演算器１４０を備える。 （もっと読む）

【課題】支持および位置決め構造体を提供する。
【解決手段】本発明は、テーブル上のターゲットを支持および位置決めするための支持および位置決め構造体を備えた荷電粒子システムに関し、支持および位置決め構造体は、第一の部材と、第二の部材と、第二の部材に対して第一の部材を移動させる少なくとも一つのモーターを備えており、前記少なくとも一つのモーターによって発生される電磁場から少なくとも一本の荷電粒子ビームをシールドするシールドが存在し、支持および位置決め構造体は、第一の部材と、第一の部材とテーブルとターゲットの重量を少なくとも部分的に支えるための第二の部材を機械的に結合しているスプリングをさらに備えている。
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【目的】基板に載置する前に毎回アライメントを行なって基板に対して高精度な位置に基板カバーを載置する基板カバー着脱機構を提供することを目的とする。
【構成】基板カバー着脱機構５０は、基板１０１を裏面側から支持する基板支持ピン４０と、基板カバー１０を支持し、支持した状態で基板カバー１０の昇降を行ない、昇降することで基板１０１への基板カバー１０の着脱を行なう昇降機構３０と、昇降機構３０により支持される位置とは異なる位置で基板カバー１０を支持し、昇降機構３０による基板カバー１０の支持がなされていない状態で基板カバー１０のアライメントを行なうアライメント支持部材２０，２２，２４と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】サーボ制御により生じる機械振動成分を除去することなく、レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を最大限除去することが可能な荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】試料が載置されるステージの位置の測定にレーザ干渉計を用いる。レーザ干渉計の測定信号に含まれる非線形誤差成分を除去するフィルタ部のカットオフ周波数を、ステージ移動制御部による制御後のステージ位置を目標位置に近づけるサーボ制御が行われる周期Ｔｓの逆数（１／Ｔｓ）に設定する。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバー内の真空を実現する方法および設備を提供する。
【解決手段】本発明は、真空チャンバー（４００）内の真空を実現する方法に関する。真空チャンバーは、複数の真空チャンバーによって共有されるポンプシステム（３００）に接続される。方法は、各真空チャンバーを別々にポンプ吸引することを有している。本発明はさらに、ポンプシステムに接続された複数の真空チャンバーの設備に関する。この設備では、ポンプシステムは、各真空チャンバーを別々にポンプ吸引するように用意される。
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複数の荷電粒子リソグラフィ装置を具備する構成体であって、各荷電粒子リソグラフィ装置は、真空チャンバ（４００）を有する。この構成体は、複数のリソグラフィ装置にウェーハを運搬するための共通のロボット（３０５）と、夫々の真空チャンバ（４００）の前面に配置された、各荷電粒子リソグラフィ装置のためのウェーハロードユニット（３０３）とをさらに具備する。複数のリソグラフィ装置は、これらリソグラフィ装置の前面が、各装置にウェーハを運搬するための共通のロボット（３０５）の通路を収容している通路（３１０）を面している状態で、列をなして配置され、各リソグラフィ装置の後面は、アクセス通路（３０６）に面し、各真空チャンバの後壁には、夫々のリソグラフィ装置へのアクセスのためのアクセスドアが設けられている。
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【課題】基板への帯電が抑制可能となっているか否かを描画前に確認できる基板カバーを提供する。
【解決手段】基板カバーは、マスク基板の周縁領域に対応した形状の導電部と、導電部に設けられ、接地可能な電極が導電部から露出する複数の電極部とを有する。電極部１０５ａは、導電部および他の電極部１０５ｂ、１０５ｃと絶縁されており、電極部１０５ａと他の電極部１０５ｂ、１０５ｃとの間に電圧を印加することにより、これらの電極がマスク基板に導通していることを検出できる。電極部は、基板カバー自体を支持する機能も有するため、導電部の荷重が略等分布となるように３箇所に配置されていることが好ましい。 （もっと読む）

【目的】高精度な位置補正を行なうことが可能な較正用基板を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の荷電粒子ビーム描画装置の較正用基板１０は、基板１２と、基板１２上に配置された導電膜１４と、導電膜１４上に選択的に配置され、導電膜１４よりも反射率の大きい導電膜１６と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、電子の帯電やコントラストの低下を回避することができる。その結果、かかる較正用基板を用いて高精度な位置補正を行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの描画が高速、高精度に、かつ近接効果補正が簡易に行え、基板全体で一定のドーズ量で描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に、電子ビームEBを基板10の半径方向または半径方向と直交する方向に微小往復振動させるとともに、その振動方向と直交する方向に偏向してエレメントの形状を塗りつぶすように走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を描画する際に、エレメント配置の疎密程度に応じ、密配置部のエレメント描画では、前記偏向速度を疎配置部の同一エレメント描画での偏向速度より速く設定してドーズ量を調整し、近接効果補正を行う。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、停止時のドリフトが小さいステージ機構およびそれを備えた電子顕微鏡装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
上記課題を解決するために、本発明では、２以上の伸縮或いは揺動が可能な駆動素子を有し、当該２つの駆動素子の協働によりステージを移動させる試料ステージを提供する。２つの駆動素子の協働により、当該２つの駆動素子の動作を組合わせることによる種々の制御が可能となり、結果として、ステージの移動のみならず、停止時のドリフトの抑制が可能なステージ機構の提供が可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明はビーム位置ドリフト抑制方法に関し、ビーム位置ドリフトを速く収束させることを目的としている。
【解決手段】描画時又は装置較正時に発生するビーム位置ドリフトの収束値ｄ_cを、過去のビーム位置ドリフト対ビーム電流の関係から決定する手段と、ビーム電流ｉ（ｔ）を、ビーム位置ドリフトの収束値ｄ_c、ビーム位置ドリフトの測定値ｄ_m、ゲイン定数ｇ及び単位ビーム電流当たりのビーム位置ドリフト収束値ｃの関数として、
ｉ（ｔ）＝｛（１＋ｇ）・ｄ_c−ｇ・ｄ_m（ｔ）｝／ｃ
として求める手段と、前記ビーム電流ｉ（ｔ）のゲイン定数ｇをｇ＞０としてｄ_mとｄ_cに関して、εを判断基準となる正の数として、ｄ_mがｄ_cに近づき、
│ｄ_m−ｄ_c│＜ε
となるかどうかをチェックする手段と、を具備し、│ｄ_m−ｄ_c│＜εとなったら、制御を停止し、較正又は描画を行なうように構成する。 （もっと読む）

【課題】高い精度を有し、安価に構成することが可能である、真空ステージ装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー１内に、ステージ１１と、このステージ１１を回転させるエアースピンドル４と、このエアースピンドル４が収納されたボックス２０とを有し、ステージ１１を一軸方向に移動させる、断面円形状のスライド軸３が真空チャンバー１の内部から外部に延びて配置され、スライド軸３がボックス２０から両側に真空チャンバー１の外部へ一直線上に延びた単位構成が１個のみ設けられている真空ステージ装置を構成する。そして、この真空ステージ装置のスライド軸３に対して、その回転を規制すると共に、床面に対して静圧で浮上する構成を有している回転規制機構４０を設ける。 （もっと読む）

【課題】基板が載置された基板トレイの変位を精度よく計測する。
【解決手段】基板Ｗを保持する基板トレイ４０の側面に、例えば鏡面加工を施すことにより平滑な反射面を形成する。これにより、光源６２からのレーザ光ＬＢ１ｘ，ＬＢ２ｘ，ＬＢ１ｙ，ＬＢ２ｙに対する高い反射率が確保され、精度よくＸＹ面内における基板トレイ４０の位置を計測することが可能となる。また、この計測結果を用いて、電子線を偏向させることにより、位置変動に起因する照射位置のずれ（変動）を抑制し、基板Ｗの表面に精度よくパターンを描画することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】外部から真空チャンバ内に引き込まれた移動体に外力を作用させることなく、真空チャンバと移動体との間を気密する。
【解決手段】
ガイド部材５１の一側及び他側と、スライダ６０のバランスプレート６０ｂの一側と他側とに、伸縮可能で相互に外径の異なる第１ベローズ６１及び第２ベローズ６２の一側と他側をそれぞれ固定することで、ガイド部材５１の内部を第１ベローズ６１と第２ベローズ６２とに囲まれる空間Ｖ２、Ｖ３と、その他の空間Ｖ１の相互に気密された３つの空間Ｖ１〜Ｖ３に分割する。そして、空間Ｖ１の内部圧力を調圧ユニット８０によって調圧することで、中空シャフト５２Ａの位置に応じて作用する第１ベローズ６１と第２ベローズ６２の復元力の合力と、空間Ｖ１,Ｖ２相互間の差圧等によって移動体に作用する外力をキャンセルする。 （もっと読む）