【課題】イオン照射対象物品のイオン照射対象部分に全体的に均一に、効率よくイオン照射処理を施すことができる寿命の長いイオン照射装置を提供する。
【解決手段】電子源20A を物品Ｗのイオン照射対象部分の全体に臨むように設け、電子源20A におけるフィラメント2a、2a’、2a”は、電子源20A の全体にわたり不連続に複数段に分散並列配置する。フィラメントは、互いに逆向きの電流が流れるように平行又は略平行に接近する対部分をフィラメントの各端部寄りに含むように屈曲配置し、或いは、少なくとも一組の互いに隣り合うフィラメントについて、互いに逆向きの電流が流れるように相互に平行又は略平行に接近して対向する部分からなる対部分をフィラメントの両端部寄りに含ませる。かかる電子源から放出させた電子をチャンバ１内へ導入したガスに衝突させてプラズマを生成し、該プラズマ中のイオンを物品Ｗに照射する。 （もっと読む）

所望のフィラメントの成長、あるいはフィラメントのエッチングを行うために、アークチャンバ内の適切な温度制御によってアークチャンバのイオン源内にある前記フィラメントの成長／エッチングを可能にする反応性洗浄試薬を利用する、イオン注入システムまたはその構成要素の洗浄。また、イオン注入装置の領域または注入装置の構成要素を洗浄するために、インサイチュまたはエクスサイチュ洗浄構成で、周囲温度、高温、またはプラズマ条件下で、ＸｅＦｘ、ＷＦｘ、ＡｓＦｘ、ＰＦｘ、およびＴａＦｘ（ここで、ｘは、化学量論的に適切な値または値の範囲を有する）などの反応性ガスを使用することが記載される。特定の反応性洗浄剤のうち、ＢｒＦ_３が、インサイチュまたはエクスサイチュ洗浄構成で、イオン注入システムまたはその構成要素を洗浄するのに有用と記載される。また、フォアラインからイオン化関連堆積物の少なくとも一部を除去するために、イオン注入システムのフォアラインを洗浄する方法であって、前記フォアラインを洗浄ガスと接触させるステップを含み、前記洗浄ガスが前記堆積物との化学的反応性を有する方法が記載される。また、カソードをガス混合物と接触させるステップを含む、イオン注入システムの性能を改善し、寿命を延ばす方法が記載される。
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【課題】高温でもクランプ力の低下が少なく、クランプ力の再生も容易で、フィラメントの保持や位置調整の作業性が良いフィラメント保持構造を提供する。
【解決手段】フィラメント保持構造は、溝を挟んで板厚方向に二つに分かれている部分の両方の相対応する位置に、フィラメント５０を通すフィラメント穴９６、支点部材１１０を通す支点部材穴９８を有しているフィラメント導体９０と、それの溝内に位置している部分１０２に、フィラメントを通すフィラメント穴、支点部材を通す支点部材穴を有しているフィラメントクランパー１００と、上記穴に通された支点部材と、ボルト１１２及びナット１１４とを備える。フィラメント導体９０及びフィラメントクランパーのフィラメント穴にフィラメントを通し、ボルト及びナットでフィラメントクランパーを締め付けて、フィラメントにせん断方向に力を加えてフィラメント導体９０に保持する。 （もっと読む）

【課題】従来の製造プロセスからの大幅な工程変更を伴うことなく、安定したデバイス特性が得られる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】まず、フィラメントにより材料ガスをイオン化して半導体基板に注入する工程を有する。また、イオンを発生させるアークチャンバにフッ化ホウ素を導入する工程Aと、その後にフィラメントにより上記フッ化ホウ素をイオン化する工程Bと、その後に、上記イオン化されたフッ化ホウ素により上記フィラメントを被覆する工程Cとを有する。これらの工程で、フィラメントがフッ化物膜で被覆されるので、フィラメントの消耗を防止し、安定してイオンを発生させることが可能になる。 （もっと読む）

【課題】組み立ての際、及び運転時におけるフィラメント１０１及びカソード１０２のギャップの調節を容易にすることである。
【解決手段】フィラメント１０１によってカソード１０２を加熱し、当該カソード１０２から熱電子を放出して、原料ガスをプラズマ化することによりイオンを発生するイオン源１００であって、前記カソード１０２が固定されるイオン源本体２と、前記フィラメント１０１を保持するとともに、前記イオン源本体２に設けられるフィラメント保持体３と、前記フィラメント保持体３及び前記イオン源本体２の間に介在して設けられ、前記カソード１０２及び前記フィラメント１０１の距離を組み立て後に調節可能にする調節する調節機構４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ生成容器内のＹ方向におけるプラズマ密度を部分的に制御可能にして、リボン状イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くすることや、所定の不均一な分布を実現可能にしたイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源１０ｂは、Ｙ方向の寸法がＸ方向の寸法よりも大きいリボン状のイオンビーム２を発生させる。このイオン源１０ｂは、Ｙ方向に伸びたイオン引出し口１４を有するプラズマ生成容器１２と、プラズマ生成容器１２内のＸ方向の一方側にＹ方向に沿って複数段に配置された複数の陰極２０と、プラズマ生成容器１２内のＸ方向の他方側に陰極２０に対向させて配置された反射電極３２と、プラズマ生成容器１２内に、しかも複数の陰極２０を含む領域に、Ｘ方向に沿う磁界５０を発生させる電磁石４０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】投入電力の増大を抑制しつつ、寿命を向上可能なイオンドーピング装置用フィラメントおよびその製造方法、さらに当該イオンドーピング装置用フィラメントを備えたイオンドーピング装置を提供する。
【解決手段】フィラメント１１は、導電性を有するタングステン線からなり、当該タングステン線が直線状に延在する２つの直線部１２と、複数の直線部１２のうち、互いに隣接する直線部１２の端部を接続する接続部１３とを備えている。そして、直線部１２には、接続部１３よりもタングステン線が延びる方向に垂直な断面における断面積であるフィラメント断面積が大きい大径部１４が形成されている、 （もっと読む）

【課題】 十分なビーム強度が得られる多価イオン源を提供すると共に、その多価イオンビームを制御し、照射位置を制御して、効率よく精確に照射することができる多価イオンビーム照射方法及び装置を提供すること。
【解決手段】 多価イオンを発生させる多価イオン源と、その多価イオン源から導出された多価イオンビームを試料に向けて誘導するビームガイドと、試料を保持する試料保持部とを少なくとも備える多価イオンビーム照射装置において、試料に対向するビームガイド端部と試料保持部とを、支持すると共に並進移動させて位置調整する基盤ステージと、試料保持部に対してビームガイド端部を相対的に、２次元で並進移動させて位置調整するＸＹステージと、試料保持部のみを独立に、ＸＹステージの移動方向と略垂直なＺ方向へ並進移動させて位置調整するＺ並進移動機構とを有する照射位置制御部を設ける。 （もっと読む）

【課題】交換作業時間のさらなる短縮化を通じて装置稼働率を向上させることができ、作業手順が簡単で間違いの発生を少なくすることができる物品交換機構および物品交換方法を提供する。
【解決手段】本発明の物品交換機構１は、開口部５を有する真空容器４と、物品３を支持し且つ開口部５を気密に開閉可能な２つの交換ユニット１２と、真空容器に着脱可能であり、それぞれ、交換ユニット１２と解除可能に連結して、交換ユニット１２を移動させる２つのユニット支持機構１３と、２つの交換ユニット１２を内部に収容する状態で真空容器４に着脱可能な交換用容器１０と、２つのユニット支持機構１３の各々と解除可能に連結して２つのユニット支持機構１３を動作させる複数の操作部材１８と、交換用容器１０の内部を真空状態にする真空機構２３と、交換用容器１０の内部を所定圧力まで戻す復圧機構２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】複数のフィラメントを同時に交換することにより、フィラメント交換の作業時間を短縮でき、イオン注入装置の稼働率を向上できるイオン源及びそのフィラメント交換方法を提供する。
【解決手段】本発明のイオン源１は、プラズマ生成容器４に隣接して設けられた真空ボックス５と、真空ボックス５内に設けられ先端部で複数のフィラメント３をそれぞれ支持する複数の支持アーム７と、真空ボックス５とプラズマ生成容器４との間に配置され両者間を気密に仕切る開閉可能なゲートバルブ６と、真空ボックス５内を真空状態とするための真空機構９と、を備える。真空ボックス５には大気開放するための蓋部材８が設けられている。ゲートバルブ６は支持アーム７及びフィラメント３が通過可能な開口部１４を有している。支持アーム７は、先端に設けられたフィラメント３を、開状態のゲートバルブの開口部１４を通過させて真空ボックス５とプラズマ生成容器４との間を移動させるように真空ボックス５に設けられている。 （もっと読む）

【課題】フィラメントの変形を抑制できるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】内部にプラズマ生成用のガスが導入され、内部にプラズマを発生させるプラズマ容器３と、プラズマ容器の内部に位置し、その一端部９ａと他端部９ｂの間に電圧が印加されることで熱電子を放出するフィラメント９と、フィラメントから放出された熱電子がガスの分子に衝突することで発生したプラズマに電場を印加して、該プラズマからイオンを引き出す引出し電極１７と、を備え、このイオンを所望の対象物１に注入する。フィラメントがその一端部から他端部まで延びる途中部分においてフィラメントを支持する支持部材２３ａ，２３ｂ，２３ｃをさらに備える。 （もっと読む）

【課題】フィラメントの切断により運用寿命が決まるイオン源において、従来比、運用寿命が長いイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源１０は、チャンバ１２と、チャンバ１２の内壁面から突出し、通電することにより内部空間３４に熱電子を放出するフィラメント１４ａ，１４ｂと、フィラメント１４ａ、１４ｂのそれぞれに熱電子を供給するフィラメント電源３０ａ，３０ｂと、フィラメント１４ａ，１４ｂのＯＮ／ＯＦＦの制御を行う制御ユニット４０と、を有する。制御ユニット４０は、プラズマ立ち上げ時、フィラメント１４ａから熱電子を放出させ、プラズマ立ち上げ後、熱電子の放出を行うフィラメントをフィラメント１４ｂに切り替えて、プラズマの生成を維持するように、フィラメント電源３０ａ，３０ｂのＯＮ／ＯＦＦを制御する。 （もっと読む）

【課題】 基板に対する注入位置での長手方向（Ｙ方向）のイオンビーム電流密度分布の均一性を向上させることができるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】 このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、イオン源１００内でＹ方向に走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。制御装置９０は、モニタ８０からの測定データに基づいて電源１１４を制御することによって、モニタ８０で測定したビーム電流密度が大きいモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を大きくし、測定したビーム電流密度が小さいモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を小さくして、モニタ８０で測定されるＹ方向のビーム電流密度分布を均一化する機能を有している。 （もっと読む）

【課題】 幅が広く、ビーム電流が大きく、かつ幅方向におけるビーム電流分布の均一性の良いイオンビームを発生させることができ、しかもカソードの寿命を長くすることができるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源２ａは、Ｘ方向に伸びたイオン引出し口８を有するプラズマ生成容器６と、当該容器６内にＸ方向に沿う磁界１６を発生させる磁石１４と、プラズマ生成容器６のＸ方向の両側に配置されていて、当該容器６内におけるプラズマ１０の生成およびプラズマ１０全体の密度の増減に用いられる傍熱型カソード２０と、プラズマ生成容器６内にＸ方向に沿って並設されていて、当該容器６内におけるプラズマ１０の生成およびプラズマ１０の密度分布の制御に用いられる複数のフィラメントカソード３２とを備えている。 （もっと読む）

電極組立品は、１つまたは複数の出口を有するシールドによって囲繞された電極材料のコイルと、前記シールドから出る前に前記コイルの軸Ｘ−Ｘに沿って誘導される遮蔽ガスの供給とを備える。 （もっと読む）

【課題】イオン源において、短時間でアーク放電を行い、かつ、フィラメントの溶断を防止するイオン源を提供する。
【解決手段】ガスが供給されてプラズマを生成する、内部空間を備えたチャンバ１２と、チャンバ１２と電気絶縁され、内部空間のチャンバ内壁面から突出し、内部空間に熱電子を供給するフィラメント１４と、フィラメント１４と同じ種類のフィラメントの溶断時の溶断電流を記録保持するメモリ４４ｂと、溶断電流の５０〜８０％の電流をフィラメント電流の立ち上げ時に流す電流制御部４０と、溶断電流の５０〜８０％の電流をフィラメントに流したときの抵抗値を求める計測部４２と、求めた抵抗値からフィラメントの摩耗状態を判定する判定部４４ｃと、を有する。 （もっと読む）

【課題】 基板位置での２次元のイオンビーム電流分布の均一性を向上させることができる装置を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、イオンビーム４を発生するイオン源２と、イオン源２内で２次元で走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇと、それ用の電源１４と、基板相当位置におけるイオンビーム４の２次元のビーム電流分布を測定するイオンビームモニタ１０と、制御装置１２とを備えている。制御装置１２は、モニタ１０からの測定データに基づいて電源１４を制御することによって、モニタ１０で測定したビーム電流が多いモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を相対的に大きくし、測定したビーム電流が少ないモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を小さくして、モニタ１０で測定される２次元のビーム電流分布を均一化する機能を有している。 （もっと読む）

【課題】 カソードの着脱が容易であり、しかもカソードからカソードホルダーへの伝熱損失を低減してカソードの加熱効率を高めることができるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源は、前部２２、後部２４および両者をつなぐ連結部２６、２７を有しておりかつ後部２４が二つの張出し部２４ａを有しているカソード２０と、先端部が鉛直方向Ｇの下に向くように配置されていてその先端部付近内に、カソードの後部２４が通る貫通穴３４を有する棚部３２を備えている筒状のカソードホルダー３０と、カソードの後部２４に対応した形状をしていて後部２４が通る貫通穴４４を有しているロック板４０とを備えている。そして、カソードの後部２４を、カソードホルダーの貫通穴３４およびカソードホルダー内に入れたロック板の貫通穴４４に通し、カソード２０とロック板４０を相対的に回転させてカソードの後部２４とロック板４０とを係合させて、ロック板４０を介してカソード２０を棚部３２で支持している。 （もっと読む）

【課題】フィラメントを備えるイオンドーピング装置を用いて多条件のドーピングを行っても、フィラメントの劣化を抑えつつ、ドーピングすることを課題とする。
【解決手段】イオンドーピング終了後、材料ガスを止めるとともに水素または希ガスを流し、水素または希ガスを流し続けた後、フィラメントの電流を低下させ、フィラメントの温度が降下することにより、フィラメントの温度が降下する際にフィラメント周囲に材料ガスが水素または希ガスで置換されているようにする。 （もっと読む）

【課題】 傍熱陰極型イオン源において、プラズマ生成効率の向上、ガスの利用効率の向上およびイオン源の長寿命化を可能にする。
【解決手段】 プラズマ生成容器４のカソード用開口２０内に筒状のカソードホルダー２２を、その先端がプラズマ生成容器４の内壁面５よりも外側に位置するように挿入し、カソードホルダー２２内にカソード２６を、その前面２８が内壁面５よりも外側に位置するように保持している。カソードホルダー２２内に、カソード２６との間に空間をあけてその側面を取り囲む筒状の第１熱シールド３６を設けており、その先端は内壁面５よりも外側に位置している。カソード２６の後方にフィラメント３８が設けられており、カソードホルダー２２とプラズマ生成容器４との間は電気絶縁物４０で塞がれている。 （もっと読む）