【課題】電子ビーム装置において正確な絞り位置調整を行う。
【解決手段】電子銃111から試料に照射する電子ビームを通過させるための複数の絞り穴を備える絞り板113と、電子ビームの通過経路で前記絞り板を駆動する絞り駆動部170と、前記絞り板により遮断される前記電子ビームを電流として検出する電流検出部160と、前記電子ビームの照射と前記絞り駆動部による前記絞り板の駆動状態を制御する制御部101と、を備えた電子ビーム装置で電子ビームを絞る際に、電子ビームの通過経路中で複数の絞り穴が設けられた絞り板113を所定方向に移動させつつ、電流検出部160で検出される電流により絞り板113の駆動位置を算出する。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム応用装置では，複数の電子ビーム検出器および電磁波発生手段をもつことにより性能向上が図れるが，空間的制約により同時に配置することが困難である。
【解決手段】
電子ビーム検出器（１０２，１０５）と電磁波発生手段（１０２，１０４，１０８，１０９）を両立した構成１００により，電子ビーム応用装置内部に多数の電子ビーム検出器及び電磁波発生手段を配置することができ，電磁波発生手段による試料表面の電位の制御やコンタミネーションの除去により，長期間安定した像観察が可能になる。 （もっと読む）

【課題】複雑な調整機構を用いることなく安定したビームの照射を図ること。
【解決手段】針状のチップ１と、チップ１にガスを供給するイオン源用ガスノズル２とイオン源用ガス供給源３からなるガス供給部と、チップ１との間で電圧を印加し、チップ１の表面に吸着したガスをイオン化してイオンを引き出す引出電極４と、イオンを試料１３に向けて加速させるカソード電極５からなるイオン銃部１９を備え、イオン銃部１９より試料１３側に位置し、イオン銃部１９から放出されたイオンビーム１１の照射方向を調整するガンアライメント電極９と、試料１３にイオンビーム１１を集束させる集束レンズ電極６と対物レンズ電極８からなるレンズ系を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】複雑な調整機構を用いることなく安定したビームの照射を図ること。
【解決手段】針状のチップ１と、チップ１にガスを供給するイオン源用ガスノズル２とイオン源用ガス供給源３からなるガス供給部と、チップ１との間で電圧を印加し、チップ１の表面に吸着したガスをイオン化してイオンを引き出す引出電極４と、イオンを試料１３に向けて加速させるカソード電極５からなるイオン銃部１９を備え、イオン銃部１９とレンズ系の間に配置された第二のアパーチャ１０と、試料１３にイオンビーム１１を集束させる集束レンズ電極６と対物レンズ電極８からなるレンズ系を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子線照射装置の電子線安定化方法及び装置に関し、フィールドエミッション形電子銃を用いた場合でも照射電流を安定化することができる電子線照射装置の電子線安定化方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電流を検出可能な絞りを複数用意し、これら複数の絞りの絞り検出電流と、対応する電子線照射電流との関係をテーブルとしてメモリ２１に記憶させておいて、電子線照射電流が小さい領域では、前記複数の絞り検出電流を加算したものを絞り検出電流とし、電子線照射電流が大きい領域では、前記複数の絞りのうち、特定の絞りの検出電流をそれぞれ検出電流として用いて、電子線照射電流のフィードバック制御を行なうように構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明が解決しようとする課題は、ＦＩＢ鏡筒とＳＥＭ鏡筒を備えたシステムにおいて、ＦＩＢ加工を実行している過程をリアルタイムでＳＥＭ観察する際に、ＦＩＢ照射によって放出される二次電子がＳＥＭ検出信号のノイズとならないようなシステムを提供することにある。
【解決手段】本発明はＦＩＢ鏡筒と、ＳＥＭ鏡筒を備えた複合装置において、ＦＩＢ用のアパーチャに加工形状のスリットを備えることにより、集束したイオンビームの走査ではなく試料面にパターンを転写することによりイオンビーム加工するようにした。 （もっと読む）

【課題】 ２次元分布を考慮して中心座標を決定する方法を提供する。
【解決手段】 電子線の偏向量を（Ｘ_ｉ，Ｙ_ｊ）（ｉ＝１〜128，ｊ＝１〜128）とし、そのときにブランキングアパーチャ１２に流れる電流をＩ（Ｘ_ｉ，Ｙ_ｊ）とする。まず、Ｉ（Ｘ_ｉ，Ｙ_ｊ）を、以下に示すようにＹ軸方向に積算してＢ（Ｘ_ｉ）を求める。このようにして求まったＢ（Ｘ_ｉ）を図に示す。Ｂ（Ｘ_ｉ）の差分をとり、差分データのゼロクロスポイントを求めると、Ｉ（Ｘ_ｉ，Ｙ_ｊ）のＸ方向中心値が求まる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームの軌道の調整作業を容易化して調整精度を向上させることができる軌道位置ずれ検出装置，組成分析装置及び荷電粒子ビームの軌道調整方法を提供すること。また，エネルギー分解能や散乱粒子の取得効率を容易に変更することができる組成分析装置を提供すること。
【解決手段】絞り部３１と超音波モータ３２と駆動軸３３とを備えて構成された開口状態変更装置３０により，基準ビーム軸上の所定の位置に配置され荷電粒子ビームを通過させる開口部３１ａの開口径（開口状態）を変更可能とする。
また，上記開口部３１ａを通過した或いは該開口部３１ａから外れた上記荷電粒子ビームの強度を測定し，該荷電粒子ビームの強度に基づいて上記荷電粒子ビームの軌道と上記基準ビーム軸との位置ずれの有無を検出する。 （もっと読む）

【目的】 成形アパーチャの劣化を抑制しながら必要な電子ビームの強度分布を維持する電子ビーム装置を提供することを目的とする。
【構成】 電子ビーム２００を発生する電子銃２０１と、大きさの異なる複数の開口部が形成され、前記電子ビーム２００を受けて前記複数の開口部のいずれかを通過させ、残りの電子ビーム２００の通過を制限するＣＬ−ＡＰ２１０と、前記ＣＬ−ＡＰ２１０の開口部を通過した電子ビーム２００を所望の形状に成形する第１の成形アパーチャ２０３及び第２の成形アパーチャ２０６と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）