【課題】フレーム周期よりはるかに早い周波数の機械振動や電磁場変動などの外乱ノイズの障害を簡易な方法により抑制する。
【解決手段】２つの走査パターンについて、回転、シフト、或いは重み付け因子を用いて走査位置の調整により、各々がある角度をなすように交差し、複数の交差点群を構成するようにした上で、上記交差点群について、メモリを用いて画像データを重畳積算する。解像度を満たすために交差点以外の座標については内挿／外挿されたデータで埋めることも出来る。前記2つの走査パターンのうちの一の走査パターンに係る線は、前記2つの走査パターンのうちの他の走査パターンに係る線と垂直であることが好ましい。それにより一の走査パターンの1本の線上での複数の走査点の時間的コヒーレンスを利用して、他の走査パターンのラインの位置合わせ及びその逆が可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、上記課題に鑑み、広い領域で高精細な加工ピッチを実現し、広い領域を高精度に観察を行うことができる荷電粒子線装置及び加工・観察方法を提供することを目的とする。
【解決手段】偏向量の緻密な高精細スキャンと偏向量の大きなイメージシフトという２種類以上のＦＩＢ偏向制御を同期させ、従来よりも広い領域を高密度でスキャンする。また、ＦＩＢのイメージシフトを用いて加工された位置にＳＥＭのイメージシフトを追従させる。作製した一つの断面に対し複数枚のＳＥＭ像を取得し、それをつなぎ合わせることによって高精細な画像を作成する。本発明により、従来よりも広い領域を高精細スキャンで加工し、高精細な三次元構築用データを取得することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線の状態が変化しても、容易に光軸の調整を可能とする荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提供する。
【解決手段】本発明は、上記目的を達成するために、光学素子に対して軸調整を行うアライメント偏向器を備えた荷電粒子線装置において、前記光学素子の条件を少なくとも２つに変化する手段と、前記アライメント偏向器の条件を少なくとも２つの状態に変化させたときに、それぞれのアライメント偏向条件にて、前記設定手段によって前記光学素子の条件を変化させたときに得られる２つの画像内のパターン間のずれを検出する手段と、前記少なくとも２つのずれと、前記アライメント偏向器の偏向条件との関係に基づいて、前記アライメント偏向器を調整する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】イメージシフトによる電子線のビーム径増大の影響を抑えた高速かつ高精度な試料の観察、測定を行う方法、及び装置を提供する。
【解決手段】電子線が所定の走査幅よりも小さい領域を走査する場合には、試料上の電子線の照射対象位置が、イメージシフトを制御可能な第一の範囲よりも小さな第二の範囲内にあるときにはイメージシフトを用いた視野移動を行い、前記第二の範囲を超えるときにはステージ移動を行う。このような構成によれば、ビーム径の影響を受けない条件下においてステージ移動に対する相対的なイメージシフトによる視野移動量を増大させることができるため、高速かつ高精度に試料の観察、測定を行うことが可能になる。 （もっと読む）

【課題】各ピクセルの輝度値の信頼性が均一な画像を得ることができ、１フレーム分の画像の取得に要する時間を効果的に短縮することが可能な、電子顕微鏡の制御方法、電子顕微鏡、プログラム及び情報記憶媒体を提供すること。
【解決手段】電子ビームが電子顕微鏡像を構成する所与のピクセルに対応する試料上の位置を照射しているときに連続的に取得された複数の検出信号の平均値ｍを求める処理と、求めた平均値ｍに基づき、検出信号の母集団の期待値μが信頼区間ｍ±ｋに位置する確率γが所定の閾値ｐを超えたか否かを判定する処理とを、確率γが所定の閾値ｐを超えるまで繰り返し、確率γが所定の閾値ｐを超えたと判定された場合に、求めた平均値ｍを当該照射位置に対応する電子顕微鏡像のピクセル値として出力し、且つ電子ビームの走査として電子ビームの照射位置を移動させるための制御を行う。 （もっと読む）

【課題】イメージシフトの際、両立が困難であった、広い偏向領域と高い寸法計測再現性とを両立できる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子源１０１、偏向手段（１０３、１０４、１０５等）、焦点位置変更手段（１０６、１０８）を制御すると共に検出器１１９により検出された電気信号により画像用データを作成する制御演算部１２１と、撮像条件ごとに登録された補正係数を保存する記録部１２０を有する荷電粒子線装置において、制御演算部は、焦点位置を変えながら複数の画像を取得し、画像内のマークの位置ずれ量と、記録部に登録された補正係数にもとづいて、計測用画像を取得する際に、荷電粒子線のランディング角が垂直となるように光学条件を制御する。 （もっと読む）

【課題】傾斜した試料の表面をチルトビームおよび左右視差角像で、焦点を連続的に補正しながら観察する際に、発生する視野ずれを抑制することのできる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】 試料１０表面に一次荷電粒子線の焦点を結ばせる対物レンズ７と一次荷電粒子線をチルトさせる傾斜角制御用偏向器５３の中間に、視野補正用アライナー５４を設置し、傾斜角制御用偏向器５３のチルト角、レンズ条件、対物レンズ７と試料１０までの距離からもとまる補正量にて、一次荷電粒子線のチルト時に発生する視野ずれを、対物レンズ７の焦点補正に連動して補正する。 （もっと読む）

【課題】 観察対象物に加工を施すことなく現状状態そのままでの観察を可能とする走査型電子顕微鏡の提供。
【解決手段】 鏡筒の開口先端部に観察対象物と接触させるシール部材を設け、真空ポンプにより鏡筒内が真空に引かれた場合にシール部材を介して当該鏡筒に観察対象物を吸着させ、鏡筒を観察対象物に直接接触させた状態で密着固定するようにした。すなわち、試料室がないかわりに吸着により観察対象物と鏡筒とが相対的に移動しないように密着固定させる。こうすると、試料室がないにも関わらず、鏡筒内を真空状態に確保することができ、また振動により鏡筒と観察対象物とは相対的に移動しないことから観察時の悪影響が生じない。こうして鏡筒を観察対象物に対し直接マウントすることで、従来では試料室に入りきらない観察対象物であっても加工を施すことなく現状状態そのままで観察を行うことができるようになる。 （もっと読む）

【課題】
走査荷電粒子顕微鏡の評価性能を低下させることなく、スループットの向上化を図る。
【解決手段】
走査荷電粒子顕微鏡を用いて半導体ウェハ上に形成された回路パターンの形状を評価する方法において、複数の評価パターンが走査荷電粒子顕微鏡の１視野内に入るように形成された半導体ウェハを走査荷電粒子顕微鏡を用いて撮像して複数の評価パターンを含む画像を取得し、この取得した複数の評価パターンを含む画像の走査荷電粒子顕微鏡の視野に含まれる複数の評価パターンとは異なるパターンを用いて走査荷電粒子顕微鏡を制御して画像の画質を調整し、この画質が調整された走査荷電粒子顕微鏡を制御して複数の評価パターンを含む視野内でイメージシフトにより複数の評価パターンの画像を順次取得し、このイメージシフトにより順次取得した複数の評価パターンの画像を用いてこの複数の回路パターンの形状を評価するようにした。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線の状態が変化しても、容易に光軸の調整を可能とする荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提供する。
【解決手段】本発明は、上記目的を達成するために、荷電粒子源と、当該荷電粒子源から放出される荷電粒子線を調節する光学素子と、当該光学素子に対して軸調整を行うアライメント偏向器を備えた荷電粒子線装置において、前記光学素子の条件を変化させた際に得られる２つの画像のパターンの重心を検出する手段と、前記２つのパターンの重心のずれを検出する手段と、前記２つのパターンの重心のずれに基づいて、前記アライメント偏向器の偏向量を算出する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームを照射している最中に試料ステージを移動させても観察画像の歪みを生じさせないようにすることのできる観察画像取得手法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る観察画像取得方法では、フレーム間でずれが生じている走査線を特定し、観察画像のうちその走査線以外の部分を、ずれている走査線の位置に合わせるように位置補正する。 （もっと読む）

【課題】所定パターンが繰り返し配列された試料の検査に適用される検査装置において、電子線のドリフト等の理由により、電子線を照射すべき位置と実際に照射された位置とに誤差が生じる。前記検査装置においてはこの誤差を小さくする必要がある。本発明の目的は、電子線の走査位置をリアルタイムに正確に制御することができる検査装置を提供することにある。
【解決手段】所定パターンが所定周期で配列された試料の検査に適用される検査装置において、検出信号から得られるパターンの位置と、既知の前記パターンの位置を含む前記パターンの位置情報とから、一次電子線が照射された位置と当該照射の目標位置とのずれ量を求めることを特徴とする。さらに、前記ずれ量を用いて前記一次電子線の照射位置の補正値を出力することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】補正テーブルを用意しなくても、イメージシフトずれの補正を短時間化および高精度化した荷電粒子線装置および該装置の制御方法を提供する。また、電子ビームの原点である光軸から比較的遠くにある測定点へも正確にイメージシフトさせることができる荷電粒子線装置および該装置の制御方法を提供する。
【解決手段】前記荷電粒子線の原点の走査位置における基準画像の重心、および第ｎ番目の走査位置における第ｎ番目の画像の重心をそれぞれ求め、両者の重心の差分からイメージシフトずれ量を計算する画像処理部と、前記偏向量およびイメージシフトずれ量から、前記第ｎ番目の走査位置に対応するイメージシフトずれ量を補正するための第ｎ番目の補正式を作成し、前記補正式から計算した補正量を前記偏向量に加減する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
複数本の二次電子ビーム調整を、効率良く実施することのできる半導体検査装置および欠陥検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
被検査対象物に複数の照射光を照射する照射光学系と、前記照射光学系により照射され、該被検査対象物から放出される複数の光を検出する検出光学系と、前記検出光学系で検出した複数の光に基づく信号の強度を比較する比較部と、前記比較部で比較された結果に基づき該複数の光の位置と前記検出光学系における該複数の光の検出位置とのずれ量を算出する補正量算出部と、該複数の光に基づく信号を処理して該被検査対象物の検査を行う処理部とを備える演算処理部と、を備え、前記検出光学系は、さらに、前記補正量算出部で算出されたずれ量に基づき前記照射光学系を調整する制御部を有することを特徴とする検査装置である。 （もっと読む）

【課題】マニュアル操作により、表示画像を動かして、試料中の観察・検査対象物の探索を行なう際に、オペレータによる移動方向指定手段の操作を簡易化する。
【解決手段】試料ステージ１８に載置された試料１６に対して電子線１５を走査し、電子線１５が走査された領域から発生する二次的信号１７を検出し、これに基づく走査像を表示する走査電子顕微鏡において、移動方向指定手段１２からの指示に基づいて、電子線１５の走査領域が試料１６上で相対的に移動したときに、該走査領域における電子線１５の垂直走査方向が、移動方向指定手段１２により指定された表示画像の移動方向に応じた該走査領域の試料１６上での相対移動方向と平行な方向と合うように、演算制御手段１０が該走査領域の回転の制御を行なう。 （もっと読む）

【課題】本発明は、種々の要因で対物レンズの光軸等に、ビームが斜めに入射されたときに生ずる諸問題を解決する荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子線の走査領域を試料上で移動する第１の偏向器に対し、第２の偏向器によって、荷電粒子線の第１の偏向器に対する入射位置を調整し、第１の偏向器は、前記入射位置の調整が行われた荷電粒子線を、対物レンズの光軸に沿って前記試料に入射するように偏向する方法、及び装置を提案する。当該方法、及び装置によれば、荷電粒子線を対物レンズの光軸に沿って適正に試料に入射することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】位置ずれ補正に要する走査画像の取得回数を１回で済まし、また、ｙ軸方向の位置ずれ補正およびｘ軸方向の位置ずれ補正に要する演算を１回で済まして、位置ずれ補正に要する時間を短縮する。
【解決手段】荷電粒子ビームを試料上で二次元的に走査して走査画像を形成する走査ビーム照射装置において、試料を支持するステージ上に設けたマークと、このマークを含む走査画像を取得する走査画像取得手段と、走査画像取得手段で取得した走査画像に基づいて位置ずれを補正する位置ずれ補正手段とを備え、走査画像取得手段は、同一のマークを走査画像中に含む２つの異なる走査画像を取得し、この２つの走査画像の取得は同じ走査期間内で行う。２つの走査画像は同一のマークを走査画像中に含むため、２つの走査画像中のマークの位置を比較することによって、走査画像間に位置ずれを求めることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の基板検査装置は、基板の検査エリアの設定を簡単にし、且つ検査エリア設定の自由度を確保して効率良く基板の検査を実行することを目的とする。
【解決手段】半導体ウエハ８０における「左エッジからの距離Ｒ」と「右エッジからの距離Ｒ」とを検査エリアとする設定がされた際、全体制御部は、この設定に基づいて検査室にロードされる半導体ウエハ８０の検査エリアを演算し、この演算結果を補正制御回路に登録する。全体制御部は、演算結果を登録した補正制御回路を用いて検査エリアとしての半導体ウエハ８０の左エッジからの距離Ｒにある領域（５）のチップ８１の斜線で示すセル８２と領域（６）のチップ８１の距離Ｒ内の斜線で示すセル８２、及び半導体ウエハ８０の右エッジからの距離Ｒにある領域（８）のチップ８１の斜線で示すセル８２と領域（７）のチップ８１の距離Ｒ内の斜線で示すセル８２の自動検査を制御する。 （もっと読む）

【課題】マッピング時の長時間を必要としないドリフト補正が可能な走査型電子顕微鏡のドリフト補正方法を実現する。
【解決手段】電子線を開始座標からへＸ方向に走査し（ステップＳ２０１）ドリフト補正用の基準画像を用いてドリフト補正を行う（ステップＳ２０２ａ）。電子線２を−Ｘ方向に走査しドリフト補正を行う（ステップＳ２０２ｂ）。次に、電子線を開始座標から−Ｙ方向に走査し、ドリフト補正を行う。電子線をＹ方向に走査しドリフト補正を行う（ステップＳ２０２ｄ）。以降、同様にして、Ｘ方向、Ｙ方向に電子線を走査し、１ライン毎にドリフト補正を行う。ただし、最終のＹ方向への走査は行なわない。それまでのドリフト補正により補正されているからである。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、数多くの測定点が試料上に存在する場合であっても、ＦＯＶの位置、或いは大きさを容易に設定することが可能な荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置による画像取得条件決定方法の提供を目的とする。
【解決手段】
上記目的を達成するために、以下に、複数の測定点を包含するように、荷電粒子線装置の視野を決定する画像取得条件決定方法であって、視野の４つの辺について、それぞれ測定点が重畳するか否かの判断を行い、当該各辺について測定点が、視野の内側、或いは外側に移動するように視野を移動させ、当該移動後の視野位置を、前記荷電粒子線装置の視野位置を決定することを特徴とする画像取得条件決定方法、及びそれを実現するための装置を提案する。また、前記４つの辺について、それぞれ測定点が重畳するか否かの判断を行い、各辺に前記複数の測定点が重畳しない範囲までＦＯＶの大きさを変化させる方法、及び装置を提案する。 （もっと読む）