【課題】本発明はＸ線分析方法及び装置に関し、ステージ走査でも良好なドリフト補正を行うことができるＸ線分析方法及び装置を提供する。
【解決手段】試料上の面分析領域の内部を複数のブロックに分けて、ブロック内での各ラインのステージ走査に基づく特性Ｘ線の測定が第１ブロックから各ブロック毎に順次行うようにされており、各ブロックにおいて最初に走査が行われるラインについてのステージ走査の開始前に、試料の電子線走査画像を取得し、第２ブロック以降における特性Ｘ線の測定開始時においては、当該ブロックにおいて取得された電子線走査画像と、その直前のブロックにおいて取得された電子線走査画像との照合を行って、ステージのドリフト量を求め、該ドリフト量に基づいて電子線のビームシフトを行うことにより、試料上での電子線の照射位置を補正してから当該ブロック内での特性Ｘ線測定を開始するように構成する。 （もっと読む）

【課題】粒子ビームを用いて試料の構造に関する情報を得るための検査方法において、試料から放出された電子およびｘ線から試料に関する情報を得ることができる検出方法および検査装置を提案する。
【解決手段】検査方法は、試料に粒子ビームを集束するステップと、試料に隣接して配置した少なくとも１つの検出器を作動するステップと、少なくとも１つの検出器によって生成した検出信号を異なった強度間隔に割り当てるステップと、強度間隔に割り当てた検出信号に基づいて、検出器に入射した電子に関連した少なくとも１つの第１信号成分を決定するステップと、強度間隔に割り当てた検出信号に基づいて、検出器に入射したＸ線に関連した少なくとも１つの第２信号成分を決定するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】 電子線照射により試料から発生するＸ線を検出する分析方法において、試料が電子線照射により損傷を受ける前に測定を自動的に停止させる。
【解決手段】 電子線照射により試料から発生したＸ線、二次電子等をそれぞれＸ線検出器２４、電子検出器２３で検出し経過時間情報、座標位置とともに時系列的に組み合わせた時系列データとして記憶部３４に格納する。測定しながら、測定開始から一定の時間間隔で記憶部３４からＸ線信号を抽出しＸ線スペクトルを再生する。スペクトル全体又は任意に指定したエネルギー範囲のＸ線強度の時間経過に伴う変動をモニタし、異常を検知したら手動又は自動的に測定を中止する。 （もっと読む）

【課題】元素像を生成する機能を有する電子顕微鏡において、高Ｓ／Ｎかつ高空間分解能の弾性散乱電子像や特性Ｘ線による元素像や電子線エネルギー分光による元素像を測定できるようにする。
【解決手段】分析対象試料を透過した弾性散乱電子の検出と同時に連続して、特性Ｘ線信号と電子線エネルギー損失スペクトルの測定、あるいは観察元素のコアロスを含む複数のエネルギーフィルタ信号を測定し、連続観察した弾性散乱電子像を基にした位置ずれを補正しながら、特性Ｘ線や電子線エネルギー分光による元素像を積算する。 （もっと読む）

【課題】分析対象である特定位置に電子線を長時間照射することによって生じる熱の発生やチャージアップ現象を防止し、それによって試料から発せられた電子線に基づいた表面像を精度よく作成することができる試料分析装置を提供する。
【解決手段】試料の所定領域に、電子線を照射する電子線照射装置と、電子線が照射された試料から発生した第１のエネルギ線を検出し、試料の分析を行う第１の分析部と、電子線が照射された試料から発生した第２のエネルギ線を検出し、試料の分析を行う第２の分析部と、を備えた試料分析装置において、第２の分析部が、第２のエネルギ線を検出するための検出部が前記試料の所定領域内に含まれる特定位置に対して電子線が照射されたときのみ、試料から発生した第２のエネルギ線を検出するようにし、さらに、前記第２の分析部が、その検出値を蓄積し、その蓄積された検出値から前記試料の分析を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成の装置によって試料表面の情報を得ることができる試料表面の測定方法及び分析装置並びに電子ビーム装置を提供する。
【解決手段】 試料表面６ａに電子ビーム５を照射し、これに応じて試料表面６ａから発生する特性Ｘ線７を分光し、分光後の当該特性Ｘ線７の強度を測定する電子ビーム装置を用いた試料表面の測定方法であって、Ｚ方向に沿って所定間隔に設定された各Ｚ方向位置において試料６をＸ−Ｙ平面に沿って移動させるとともに試料表面６ａに電子ビーム５を照射し、このときの特性Ｘ線７の分光測定条件を固定して特性Ｘ線７の強度を測定し、これにより試料６の各Ｚ方向位置におけるＸ−Ｙ平面での特性Ｘ線強度のマップデータを取得し、当該マップデータに基づいて試料表面６ａの形状を求めることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 隣接する元素マッピング像のオーバーラップ部分に濃淡のパターンが存在しない場合でも精度の高い合成を可能とする。
【解決手段】 隣接する２枚のマッピング像のオーバーラップ部分に属する画素のＸ線スペクトルの形状を所定の判定条件の下で比較し、形状が一致しているとみなせる場合には両マッピング像上にそれぞれその画素位置像を投影する。位置ずれの最大範囲を考慮して１画素ずつスペクトル形状を比較してゆき、最終的に両マッピング像上に形成された投影像を重ね合わせるように両マッピング像を合成する。これにより、オーバーラップ部分に濃淡パターンが存在するか否かに拘わらず、任意の元素のマッピング像の合成が高い精度で行える。 （もっと読む）