【課題】 正確な露光転写を行うことを可能にする荷電粒子線露光装置の制御方法を提供する。
【解決手段】 干渉計４は、反射鏡３までの距離を測定する。干渉計４の測定値は、数値フィルタからなるノッチフィルタ１０とローパスフィルタ５を通って、高周波ノイズと固有振動数を有するノイズを除去され、補正出力値計算装置６に入力される。補正出力値計算装置は、干渉計４によって測定されたウエハステージ２の位置とウエハステージ２の目標位置との差に応じて、ビーム位置補正コイル８に流す電流の補正量を計算する。そして、その計算結果をＤ／Ａ変換器７に出力する。このようにしてＤ／Ａ変換された補正量に対応する電流がビーム位置補正コイル８の励磁電流に加えられる。それにより、荷電粒子線９の偏向量が変化し、ウエハステージ２の位置ずれ分だけずれた位置に入射し、ウエハ１の目標とする位置に、レチクルのパターン像が露光転写される。 （もっと読む）

【課題】 簡単に、ウエハ上での像の位置、形状、焦点位置の変化を補償することができる露光調整方法を提供する。
【解決手段】 荷電粒子線を使用してレチクルに形成されたパターンをウエハ等の感応基板上に露光転写する分割露光転写方式の荷電粒子線露光装置において、レチクルの撓みによる露光位置の光軸方向のずれに起因して発生するウエハ上での像の位置、形状、焦点位置の変化を補償するために投影光学系に加える補正量を、レチクル面の位置ごとに固有のデータとしてテーブル化しておき、露光転写時に、露光されるレチクルの位置に応じて、対応するテーブル化された補正量に基づいて、投影光学系を調整する。 （もっと読む）

【課題】 電子ビームをウエハ上で走査し、位置合わせマークを検出する電子線露光装置において、位置合わせマーク近傍の素子のパターンを高精度に作成するための電子ビームの適切な走査条件を決定する電子線露光装置を得ること。
【解決手段】 電子ビームをウエハ上で走査し、位置合わせマークを検出する電子線露光装置は、位置合わせマークから素子用パターンまでの距離と、前記位置合わせマークを検出するために照射される電子ビームの照射量と、前記素子用パターンの寸法精度との間の関係を表す第１のデータテーブルを記憶する記憶手段を備える。本装置は、前記第１のデータテーブルを参照し、所望の寸法精度を満足する電子ビームの照射量を求める照射量決定手段を備える。本装置は、前記照射量決定手段で求められた照射量に基づいて電子ビームの走査条件を決定する。 （もっと読む）

【課題】 描画装置により半導体デバイス製品のパターン形成を行う際に、下地パターンと重ね合わせ描画を行うためのアライメントマーク検出精度を向上させる。
【解決手段】 アライメントマーク検出シミュレーションによりデバイス製品・工程ごと、およびマークの検出条件ごと、さらにマークがプロセス誤差を持つ場合についてテンプレート波形を作成する。あるデバイス製品・工程において重ねあわせ描画を行う際に、取得されたアライメント検出波形に対し、上記で作成された複数のテンプレート波形によるマッチング処理をそれぞれ行い、その中から相関係数最大となったテンプレートでの検出結果をアライメントマーク検出位置とする。 （もっと読む）

【課題】被処理基板の全ての領域に、マスクをダイバイダイアライメント方式でアライメントすることができ、高精度なアライメントおよびパターン転写を実現することができる露光装置および露光方法、並びに当該露光装置および露光方法に使用するマスクおよび半導体装置を提供する。
【解決手段】マスクＭの各相補露光領域にアライメント用のマスクマークＭＭが形成されている。マスクマークＭＭは、ｘ方向およびｙ方向に繰り返し配列されたパターンＰを含み、ｘ方向あるいはｙ方向のいずれかにおいて、マーク中心位置を検出し得るようにパターンＰの間隔が不規則に規定されている。また、ウエハＷ側には、マスクマークＭＭを挟むように２つのウエハマークＷＭが配置されており、各ウエハマークＷＭは、マスクマークＭＭと同様のパターン配列をもつ。 （もっと読む）

【課題】高精度な描画位置補正を行なうことのできる電子ビーム描画装置、偏向アンプ、電子ビーム描画方法、半導体装置の製造方法、及び電子ビーム描画プログラムを提供すること。
【解決手段】少なくとも１段の偏向アンプ及び偏向器（５，９）と、描画時のショット数を記憶する第１の記憶手段（３１）と、ショット数と前記偏向アンプの出力電圧との関係を示す補正テーブルを記憶する第２の記憶手段（３２）と、前記第２の記憶手段に記憶された補正テーブルと、前記第１の記憶手段に記憶されたショット数に基づいて、前記偏向アンプの出力を調整する調整手段（３３，３４）と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】偏向制御動作異常による電子ビームのショット位置ずれをリアルタイムで検出し、描画の信頼性向上を行なう。
【解決手段】８極偏向の偏向電圧それぞれをアナログ演算増幅器にて所定の演算式に従って演算を行い、この演算結果をコンパレータ等の比較器にて比較することによって偏向電圧に異常があったかどうかをリアルタイムにて検知する。 （もっと読む）

【課題】
マルチビーム方式の電子ビーム描画装置において、高精度な電子ビーム調整を行うことが出来る電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】
電子源１１０から放出された電子ビーム１１１を、コンデンサレンズ１１２を通して平行ビームとなし、アパーチャ−アレイ１１３により複数のポイントビームに分離せしめ、個別にアライメント用偏向が可能なマルチアライナーアレイ１２９と、個別にオンオフ用偏向が可能なブランカーアレイ１１５とブランキング絞り１１９とを通して、前記複数のポイントビームを個々に試料１２４上に結像せしめる電子光学系を備えた電子ビーム描画装置において、前記マルチアライナーアレイ１２９によって前記ブランキング絞り１１９位置での電子ビームの位置を個々に調整するよう構成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
マルチビーム方式におけるクーロン効果の影響を低減し、高速・高精度な描画を可能にする電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】
複数の電子ビームが所定の間隔で配列されたマルチビームを用いて試料上に所望とする図形パターンを描画する電子ビーム描画装置において、マルチビームの間隔より大きな距離の電子ビーム偏向を行う際に、焦点位置またはマルチビームの間隔もしくは位置の補正データの少なくとも１つを再設定するよう構成する。再設定の際に、マルチビームの間隔より大きな距離の電子ビーム偏向により描画される領域の平均的な照射電流量もしくは総照射電流量、または描画図形の密度や面積のデータをもとに再設定値を計算することが有効である。 （もっと読む）

【課題】電子カラムをモーショニングさせ、試料の動きを最小化することによって、従来の装置に比べ、装置を小型化することを目的とし、さらに、電子カラムを多重化し、モーショニングを可能にして使用することにより、短時間に多くの電子ビームで多くの単位表面積をスキャンして時間的にも有利な装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電子ビームを放出する電子カラムと前記電子ビームが照射される試料間に相対運動を与えるモーショニング装置を提供する。このモーショニング装置は、試料に電子ビームを放出するマルチマイクロカラム；前記マイクロカラムを支持する支持部；および前記支持部を動かして前記マイクロカラムを移動させる駆動手段；前記試料を低真空または高真空に維持するための真空室；を含む。 （もっと読む）

【課題】 ２枚以上の絞りの荷電粒子光学的な相対位置を精度良く測定し、補正できるようにする。
【解決手段】 複数枚の絞りとしてアパーチャアレイ３とレンズアレイ４を有し、前記複数枚の絞りのうち、アパーチャアレイ３とレンズアレイ４の荷電粒子光学的な相対位置を、露光に使用する開口群１９，２１以外の標的として測定用開口を用いて測定する測定手段を設ける。前記標的は、前記絞り内に配置された、測定用開口２０，２２及びファラデーカップ１７である。 （もっと読む）

【課題】 分割露光転写方式の荷電粒子線露光装置において、簡単な手法により、照明光学系からのレチクルへの照明光のランディング角を調整する方法を提供する。
【解決手段】 偏向器の偏向量を増減させて、増減させた偏向量と、散乱線吸収開口により吸収された荷電粒子線の電流量の関係を示すと、図２に示したようなグラフが得られる。（ａ）は、レチクルを通過した荷電粒子線が、散乱線吸収開口の位置で光軸と交わっているときのもので、偏向器に新たに加えた偏向量がゼロの位置に対して左右対称になる。この性質を利用して、（ａ）の状態が得られるように、照明光学系を調整すれば、照明光のレチクルへのランディング角をゼロとし、垂直入射させることができる。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを使用して連続して同時に試料上の複数のダイに露光を行う際に、個々のダイ上に前工程で形成されたパターンに応じて露光を行う電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法および電子ビーム露光システムを提供する。
【解決手段】電子ビーム１５を発生する電子ビーム源１４と、電子ビームの経路中に配置され開口を有する複数のマスクｍｉｊを備え、マスクｍｉｊの開口を通過した電子ビーム１５で、試料３０の表面に前記開口に対応するパターンを露光する電子ビーム露光装置１０を、試料３０に形成されたパターンにあわせて、マスクｍｉｊの露光位置を補正する露光位置補正手段８０を備えて構成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、振動に起因する描画の誤差による基材の良品不良製品を識別することの可能な描画システム、情報処理装置、電子ビーム描画装置、基材の検査方法、その方法を実行するためのプログラム、プログラムを記録した記録媒体、描画方法、及び基材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の描画システムは、ビームにより基材に対して描画を行う描画装置（３）と、描画装置による振動ないしは外部からの振動を計測する振動計測装置（５００）と、振動計測装置にて計測された振動と、前記基材に対するドーズ量に応じた前記振動による描画位置ずれの影響度に基づいて、前記基材の描画の品質を判定するように制御する品質判定制御装置（６００）と、含む。 （もっと読む）