【課題】後方散乱された電子が再突入しても、高コントラストが得られるような平面型画像表示装置を提供すること。
【解決手段】マルチ電子放出素子を有するリアプレートとゲッタ材を有するメタルバックで被覆した蛍光体を有するフェースプレートとを対向配置し、８ｋｖから１５ｋｖまでの加速電圧を用いる平面型画像表示装置の蛍光体として、電流輝度特性をＬ＝ｋＩγ（Ｌは輝度、Ｉは照射電流、ｋは定数を示す）として表したときに、γ≧０．９である蛍光体を用いる。 （もっと読む）

【課題】発光装置（５２、８０、１１０、１２８又は１３０）は、プレート上に形成された発光領域（６６）を有しており、フラットパネル陽極線管ディスプレイに適している。
【解決手段】発光領域は、複数の発光粒子（７２）を有している。発光粒子のそれぞれの外表面の一部は、一種類以上のコーティング（７４、８２、８４、１１２及び１１４）で等角に覆われている。このコーティングは、光反射性、ゲッタリング、強度促進、及びコントラスト促進機能を種々供している。 （もっと読む）

【課題】容易かつ安価に所望する色調に調整することができ、表示された文字等の輪郭が不明瞭になったり、文字等の周囲がぼやけた状態になったりしない実用性の高い蛍光表示管の色変換用カラーフィルムを提供する。
【解決手段】平均粒径０．４８１μｍの牡丹色顔料５重量％、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合・アクリル系樹脂２５重量％、シクロヘキサノン４０重量％、芳香族炭化水素系溶剤５重量％、ケトン系溶剤１５重量％、多価アルコール系溶剤５重量％、補助剤５重量％を混合することによって、実施例１の光透過性のインキを調製した。そして、調整されたインキを、厚さ０．３ｍｍのポリカーボネートフィルムにスクリーン印刷した後、８０℃で３０分乾燥を行い、フィルム上に、３μｍの光透過性着色印刷層を積層することによって、色変換用のカラーフィルムを得た。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ精度よくスペーサ保持部を形成し得る平面型表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】カソードパネルＣＰの周縁部とアノードパネルＡＰの周縁部とが接合されており、カソードパネルＣＰとアノードパネルＡＰとによって挟まれた空間が真空に保持されている平面型表示装置であって、アノードパネルＡＰには、蛍光体層２２を囲むように、光吸収材料層１１０から成る格子状の光吸収部１００が設けられており、光吸収部１００には、スペーサ４０を保持するための凹状のスペーサ保持部１０１が設けられており、スペーサ保持部１０１の底部１０２には、光吸収材料層１１０が残されている。光吸収部１００の凹状のスペーサ保持部１０１が設けられた部分が、光吸収部１００としての機能を失うことがない。スペーサ保持部１０１は、光吸収部１００と一体を成すものとして形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 蛍光体上での電子束の電子密度を大として表示画像の輝度向上、精細度向上を実現した画像表示装置を提供する。
【解決手段】 電子源ＥＬＳを、下部電極ｄの上に積層されて電子束を放出する電子放出領域となるトンネル絶縁層ＩＮＳ３と、走査信号配線ｓに接続してトンネル絶縁層ＩＮＳ３を含む絶縁層ＩＮＳ１を被覆する上部電極ＡＥＤとから構成し、電子放出領域を含む電子源ＥＬＳのそれぞれの前面パネルと対面する面に、当該前面パネル方向に向かって電子束の断面を縮小する凹面形状部を有するものとした。 （もっと読む）

【課題】非発光部に対応して金属部材を形成することにより，蛍光膜をアキングから安全に保護し，発光効率を向上させ，明るさを均一に維持できる電子放出表示装置を提供する。
【解決手段】少なくとも１つの電子放出素子が形成された第１基板と，第１基板に対向し，電子放出素子から放出される電子の衝突によって画像を形成する発光部と非発光部が形成された第２基板と，発光部上に形成される金属薄膜と，非発光部に対応して形成される金属部材を含むこととを特徴とする電子放出表示装置に関する。本発明によれば，非発光部に対応する位置に金属部材を形成することにより，蛍光膜と金属薄膜の間の移隔空間の減らし，アキングから保護することができる。また，上向に傾きになった形態の金属部材を備えて，放出電子を更に効率的に集属させて，発光効率を向上させ，明るさを均一に維持することができる。 （もっと読む）

【課題】電子放出素子を使用した画像表示装置において、ハレーションを抑制することで色ずれを低減して色純度の良い画像を形成するとともに、高輝度で高コントラストの画像を形成する。
【解決手段】加速電極７の厚さは、発光部材６の中央部９に対応する部分の厚さをＴ１、発光部材６の端部１０に対応する部分の厚さをＴ２としたとき、Ｔ１＜Ｔ２の関係となっている。このため、発光部材６に再入射した散乱電子のうち、発光部材６の端部１０に再入射したものは、加速電極７を透過したときのエネルギ損失が大きくなり、ハレーション輝度は低下し、発光部材６全体としてもハレーション輝度は低下する。また、加速電極７における発光部材６の中央部９に対応する厚さＴ１の部分は、厚さが薄いままであるため、電子放出素子４から放出された電子が発光部材６に入射する際にもっている電子エネルギは高い値を維持しており、輝点輝度は低下しない。 （もっと読む）

【課題】 環境負荷が小さく、薄層で高遮光性を有し、かつ観察者側から見た時に反射率の低いＦＥＤとこのＦＥＤに用いられる遮光膜付基板を提供すること。
【解決手段】 基板と、該基板の少なくとも一方の側の、少なくとも一部に遮光膜を有す、フィールドエミッションディスプレイ用遮光膜付基板であって、該遮光膜が、金属微粒子を含有する樹脂層を含み、該遮光膜の５５５ｎｍにおける厚さ１μｍあたりの光学濃度（ＯＤ）が３から２０であるフィールドエミッションディスプレイ用遮光膜付基板とこの基板を用いたフィールドエミッションディスプレイ （もっと読む）

【課題】散乱電子に起因する不要発光および電子ビームの軌道ずれを抑制し、表示品位の向上した画像表示装置を提供する。
【解決手段】 蛍光面が形成された第１基板１０と、複数の電子放出源１８が設けられた第２基板１２とが対向して配置されている。第１および第２基板間には、第１および第２基板に作用する大気圧荷重を支持する複数のスペーサ３０と、板状の支持基板２４とが設けられている。支持基板は、第１基板に対向した第１表面２４ａ、第２基板に対向した第２表面２４ｂ、および、それぞれ電子放出源に対向した複数の電子ビーム通過孔２６を有している。電子ビーム通過孔は、支持基板の第１表面２４ａに開口した第１開口２６ａと、支持基板の第２表面２４ｂに開口した第２開口２６ｂと、第１および第２開口間に位置しているとともに第１開口よりも小さな径に形成され電子ビームを透過する有効孔２６ｃと、を有している。 （もっと読む）

【課題】 炭素ナノチューブエミッタを備える電界放出ディスプレイ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ＣＮＴエミッタの周りに形成されたゲート積層物が前記ＣＮＴエミッタの周りのエミッタ電極を覆うマスク層、前記マスク層上に順次に形成されたゲート絶縁膜、ゲート電極、第１シリコン酸化膜（ＳｉＯ_Ｘ）（Ｘ＜２）及びフォーカスゲート電極を含み、非晶質シリコンよりなる前記マスク層は、前記ＣＮＴエミッタより高く備わったことを特徴とするＣＮＴ ＦＥＤ及びその製造方法である。前記第１シリコン酸化膜は、２μｍ以上、望ましくは３〜１５μｍの厚さを有する。前記第１シリコン酸化膜及び／または前記ゲート絶縁膜を製造する過程でシラン（ＳｉＨ_４）のフロー率は５０〜７００ｓｃｃｍに保持し、窒酸（Ｎ_２Ｏ）のフロー率は７００〜４,５００ｓｃｃｍに保持する。 （もっと読む）

【課題】 蛍光体層の帯電を防止でき、蛍光体層の発光強度を増大させるとともに、コントラストを向上させる。
【解決手段】 光透過性のフェースプレート２の内面に形成された蛍光体層８と、フェースプレート２の内面に蛍光体層８を各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂに区画して形成されたブラックマトリクス膜６と、蛍光体層８に対向して配置され、且つ蛍光体層８に電子線１３を出射する電子線源１２と、フェースプレート２の画像表示側から見たブラックマトリクス膜６の面積占有率を６０％乃至９５％の範囲に設定することにより、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂとブラックマトリクス膜６との接触面積を増大させることで、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂの電子線１３の照射に起因する帯電が抑制される。また、好ましくは、ブラックマトリクス膜６の表面に金属層７を積層させることにより、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂと金属層７との接触面積をより増大させることで、各色蛍光体層８ｒ，８ｇ，８ｂの電子線１３の照射に起因する帯電がさらに抑制される。 （もっと読む）

【課題】 アノード基板の隔壁間に蛍光膜を形成する工程が改善された蛍光膜構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 隔壁によって区分される内部空間を有する基板を備える段階と、前記隔壁及び前記内部空間上に犠牲層を形成し、前記基板上面を平坦化する段階と、前記犠牲層上に蛍光体を形成する段階と、前記犠牲層を除去し、前記蛍光体を前記内部空間に位置させる段階と、を含むことを特徴とする蛍光膜構造体の製造方法。 （もっと読む）