【課題】ＳｉＯ_２またはＳｉＯＮよりなる被エッチング層に対して、所定の角度で交わる２つの壁面を有する溝部を形成する。
【解決手段】ＳｉＯ_２またはＳｉＯＮよりなり上面を有する被エッチング層をテーパエッチングする方法である。この方法は、被エッチング層の上面の上に、開口部５２ａを有するエッチングマスク５２を形成する工程と、被エッチング層に、所定の角度で交わる２つの壁面を有する溝部が形成されるように、反応性イオンエッチングによって、被エッチング層のうち開口部５２ａから露出する部分をテーパエッチングする工程とを備えている。エッチングマスク５２は、Ａｌ元素を含む材料によって構成されている。テーパエッチングする工程は、被エッチング層のエッチングに寄与する主成分ガスとＮ_２とを含むエッチングガスを用いる。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の潤滑層の材料として有用な新規な潤滑剤組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも１種類の下記一般式（１）で表される化合物を含有する潤滑剤組成物である。式中、Ｘは置換されていてもよい環状基を表し；Ｙは少なくとも一つの極性基を有し、且つ芳香族性環状基を有しない、２価以上の連結基を表し；ｐ１は１〜４の整数を表し、ｐ２、ｐ３およびｐ４はそれぞれ０〜４の整数を表し、ｑは０〜３０の整数を表し、ｎは１〜１０の整数を表し、ｓは１〜４の整数を表し、ｔは２〜１０の整数を表す。
（もっと読む）

【課題】ニッケル−クロムシード層を使用して成長されたギャップ層上に蒸着される書き込みヘッドに使用される高磁気モーメント材料の方法と装置を提供する。
【解決手段】ニッケル−クロムシード層は、高磁気モーメント材料が軟磁気特性を有し書き込みヘッドにおける主磁極またはシールド層のいずれかとして使用されるように非磁性ギャップ層と高磁気モーメント材料の両方に対し正しい結晶方位を与える。また、書き込みヘッドのエアベアリング面（ＡＢＳ）上に露出されてよいニッケル−クロムシード層は、ＡＢＳに見られる他の材料と同様なエッチング速度を有し、これにより後の処理中の磁極先端突起を回避する。 （もっと読む）

【課題】不均等なサイドギャップを有する磁気記録ヘッドおよびその作製方法を提供する。
【解決手段】一実施形態において、磁気ヘッドには、ダウントラック方向に対してリーディング側およびトレーリング側を有する主磁極と、主磁極に隣接してクロストラック方向に配置されるサイドギャップ層と、サイドギャップ層に隣接してクロストラック方向に配置されるサイドシールド層と、を含む。ダウントラック方向は主磁極に対する媒体の移動方向であり、クロストラック方向はダウントラック方向に垂直であり、サイドギャップ層は、ダウントラック方向の溝をその中に有し、その中に配置される主磁極を有することを特徴とし、サイドシールドは、ダウントラック方向に形成される溝をその中に有し、その中に配置されるサイドギャップ層を有することを特徴とし、サイドギャップは形状が不均等であり、主磁極の位置に対するサイドシールドの位置は自己整列される。 （もっと読む）

【課題】高磁界強度を発生しながらかつ直線性の良い遷移線を形成し、かつスキューに伴う隣接トラックの記録情報劣化を抑制することを可能とする。
【解決手段】垂直磁気記録ヘッドにおいて、主磁極のダウントラック方向の膜厚が、浮上面から遠ざかるにつれて増加し、主磁極の浮上面に露出する部分（浮上面部分）の膜厚方向の中心位置が、浮上面から後退した部分（後退部分）において最大の膜厚を有する部分の膜厚方向の中心位置に対して、トレーリング側に位置するように構成する。好ましくは、浮上面部分のダウントラック方向の膜厚を後退部分の膜厚に比べて１/２以下とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、磁極トレイリングステップを製作することができる磁気ヘッドの製作方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
磁気書き込みヘッドの作製、特に磁極および後部磁極段の作製のための方法。最初に、書き込み磁極を基板上にパターニングしてもよい。次に、書き込み磁極の側壁部に沿って側部ギャップ材料をパターニングしてもよい。次に、マスキング層を堆積およびパターニングして、書き込み磁極の一部を露出させてもよい。書き込み磁極の露出部分に磁極トレイリングステップを形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】電解鍍金法を用いて記録磁極を形成する際に空隙の形成を防止することが可能な記録磁極の形成方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録ヘッドの記録磁極を形成するために、まず、基体の上にモールド形成層を形成したのち、そのモールド形成層に開口部を形成する。続いて、開口部にシード層を形成したのち、そのシード層の上に補助層を形成する。続いて、開口部にシード層および補助層が形成された基体を電解鍍金液に浸漬させたのち、その電解鍍金液に電流または電圧を供給して活性化させて、補助層を除去する。最後に、補助層を除去するために用いられた電解鍍金液中において、電解鍍金法を用いて開口部に磁性材料の鍍金膜を成長させる。 （もっと読む）

【課題】トランスデューサおよびトランスデューサの製造方法を開示する。
【解決手段】トランスデューサは、後縁と、前縁と、後縁および前縁の間に延びる１対の対向する側壁とを含むように成形される、基板上に形成された磁性材料を含む。保護材料の層は、成形された磁性材料の１対の側壁の各々と接触して位置決めされる。埋め戻し材料は、成形された磁性材料の１対の側壁の各々の上の保護材料を取囲む。 （もっと読む）

【課題】再生ヘッド構造の突出量を増加させることが可能な磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】磁気ヘッドは、再生ヘッド構造１００および記録ヘッド構造２００を備えており、その再生ヘッド構造１００では、絶縁層２の上に下部再生シールド層３が形成されている。ＡＢＳ３０−３０から後退するように絶縁層２に設けられた窪み６２に、非磁性埋込層３が形成されており、その非磁性埋込層３の上面３ａは、絶縁層２の上面２ａと同一面内にある。 （もっと読む）

【課題】 量産に適した、コンタミの少ない、組成制御された、ち密で、欠陥、粒界の極めて少ない、深さ方向に構造制御された、良好な絶縁特性を持つ絶縁膜の提供。
【解決手段】 Ｏ、Ｎ及びＦから選ばれた少なくとも１種を含む気体状分子を該基板表面に供給し、吸着させた後排気する第１の工程の後に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔａ、又はＴｉを含む気体状分子を基板表面に供給し、吸着させた後排気する第２の工程を行い、その後にＡｒを導入した後排気する第３の工程を行い、前記第１〜第３の工程を１つのサイクルとして、このサイクルを複数回行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁性膜の成膜時の表面粗さを低減し、上部磁極等を高精度に形成することを可能にする磁性積層膜およびその製造方法、ならびに磁性積層膜を用いた磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】FeとCoを含む磁性膜１０ａ、１０ｂを成膜する工程と、該磁性膜１０ａ、１０ｂの表面に平滑化処理を施す工程と、平滑化処理が施された磁性膜の表面に、不連続膜となる膜厚に磁性材１２ａあるいは絶縁材を成膜する工程とを繰り返して、磁性膜を複数層に積層することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トラック幅を精度よく規定し、且つ記録特性を向上させる。
【解決手段】磁極層１６を収容する収容部は、収容溝を有する収容層と、収容溝内において収容層と磁極層１６との間に配置された非磁性膜１４を有している。磁極層１６は、トラック幅規定部１６Ａと幅広部１６Ｂとを有している。トラック幅規定部１６Ａは、第１の側面Ｓ１と第２の側面Ｓ２を有し、幅広部１６Ｂは、第１の側面Ｓ１に続く第３の側面Ｓ３と、第２の側面Ｓ２に続く第４の側面Ｓ４を有している。収容層は、収容溝を形成する第１の壁面ＷＳ１と第２の壁面ＷＳ２を有している。第３の側面Ｓ３と第１の壁面Ｗ１との間隔は、第１の側面Ｓ１と第１の壁面Ｗ１との間隔よりも小さく、第４の側面Ｓ４と第２の壁面Ｗ２との間隔は、第２の側面Ｓ２と第２の壁面Ｗ２との間隔よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】 薄膜コイルのコイル巻回体の間隔を狭くし、コイル巾を狭くし、磁路長を短くして性能を改善した薄膜磁気ヘッドおよびそれを容易かつ正確に製造する方法を提供する。
【解決手段】 下部ポールおよび上部ポールとを磁極部分ではライトギャップ膜を介して対向させ、バックギャップで橋絡部を介して結合し、下部ポールおよび上部ポールの間に配設された部分を有する薄膜コイルを、第１の薄膜コイル半部と、この第１の薄膜コイル半部の順次のコイル巻回体の間に層間絶縁膜を介して自己整合的に形成され、一部分が、ＣＶＤまたはスパッタリングで形成された第１の導電膜および電解メッキで形成された第２の導電膜を含む２層構造を有するコイル巻回体を有する第２の薄膜コイル半部とで構成する。 （もっと読む）

【課題】磁性薄膜の選択的なエッチングを可能にして生産性を向上させた磁気デバイスの製造方法及び磁気デバイスの製造装置を提供するものである。
【解決手段】基板Ｓ上に、鉄、コバルト、ニッケルからなる群から選択される少なくとも一種の元素を含有した磁性層５１と、磁性層５１のエッチング領域５１Ｅを露出するマスクパターン５２を形成する。そして、エッチング領域５１Ｅに対応する磁性層５１を核にして内包片５１ａを内包したＣＮＴを成長させた後、同ＣＮＴを基板Ｓ上から除去させた。 （もっと読む）

【課題】スロートハイトを正確に決め、コイルが発生する熱によってシールドの媒体対向面側の端部が突出することを抑制し、且つ広範囲隣接トラック消去の発生を抑制する。
【解決手段】シールド１３は、第１層１３Ａ１、第２層１３Ａ２、第３層１３Ｂ、第１の連結部１３Ｃおよび第２の連結部１３Ｄを有している。第１層１３Ａ１は、媒体対向面において磁極層１２の端面に対して記録媒体の進行方向の前側に配置された第１の面、磁極層１２に対向する第２の面、および第２の面とは反対側の第３の面を有している。第２層１３Ａ２は第３の面に接している。第３層１３Ｂは、磁極層１２を第１層１３Ａ１との間で挟む位置に配置されている。第１の連結部１３Ｃは、磁極層１２に接触せずに第１層１３Ａ１と第３層１３Ｂとを連結する。第２の連結部１３Ｄは、第１の連結部１３Ｃよりも媒体対向面から遠い位置において磁極層１２と第３層１３Ｂとを連結する。 （もっと読む）

【課題】従来のスパッタ法では困難であった数十〜数百Åの極薄で磁気ヘッドのギャップ層やトンネル接合型ＧＭＲに好都合な化合物絶縁膜を形成する方法を提案する
【解決手段】基板に数十Å程度のメタル膜を堆積させる工程と、該メタル膜内部まで化合物絶縁膜とする化合物工程とを交互に繰り返し、前記基板に１００Å程度の化合物絶縁膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体の耐食性を有する軟磁性下地層、及び磁気記録ヘッドの軟磁性薄膜を成膜する。
【解決手段】基板１０１と、該基板１０１上に成膜される下地層１０４と、該下地層１０４上に成膜される磁気データ記録層１０６とを有する磁気記録媒体であって、前記下地層１０４は、少なくとも一つの軟強磁性元素、及びクロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、炭素（Ｃ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、マンガン（Ｍｎ）、窒素（Ｎ）、チタン（Ｔｉ）、ニオブ（Ｎｂ）、ケイ素（Ｓｉ）、タンタル（Ｔａ）、アルミニウム（Ａｌ）の元素群から選択した少なくとも一つの腐食防止元素を含んだ軟磁性合金からなるものである。 （もっと読む）

【課題】最終的にエッチングに依存せずとも、使用される露光機及びレジストの分解能よりも小さな幅を有するパターン膜を形成することができるパターン膜の形成方法を提供する。
【解決手段】基板の素子形成面に下地層を形成し、この下地層上に、幅Ｗ_１の空間を挟んで互いに対向する端面を有する第１のフレーム層を形成し、この第１のフレーム層上に、幅Ｗ_１と同じ方向であって幅Ｗ_１よりも大きな幅Ｗ_２の空間を挟んで互いに対向する端面を有する第２のフレーム層を、幅Ｗ_２の空間が幅Ｗ_１の空間の直上に位置するように形成し、次いで、幅Ｗ_１の空間及び幅Ｗ_２の空間の少なくとも一部を埋めるように、幅Ｗ_１と同じ方向であって幅Ｗ_１よりも小さな最小幅Ｗ_３を有するトレンチを備えたトレンチ形成膜を成膜し、その後、このトレンチの少なくとも一部を埋めるようにパターン膜を成膜する、微小な幅を有するパターン膜の形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】正確な厚さと正確な逆台形断面を有するめっき磁性膜からなる磁極を有する磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に逆台形断面の磁性膜６からなる磁極部１０を形成し、ＣＭＰ研摩のストッパ膜７で被覆する。次いで、埋込み層９で埋め込み、磁極部１０上面のストッパ膜７が表出するまで埋込み層９を除去する粗研摩工程と、次いで、表出したストッパ膜７を除去した後、磁極部１０及び埋込み層９を所定の厚さまで平坦に除去する仕上げ研摩工程とを行う。粗研摩は、磁極部１０上面のストッパ膜７により停止し、正確に磁極部１０の厚さに研摩される。仕上げ研摩では、その正確な厚さを基準として除去すべき研摩量を定めるので精密に目的とする厚さに仕上げることができる。 （もっと読む）

【課題】書込みコイル、整形層、戻り磁極からなどの、外来磁界からの磁気遮蔽を提供する新規なシールド構造を有する垂直磁気記録システムで使用される磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】シールド構造３３０は、整形層３１６の下側表面または前縁表面とほぼ同一平面である、下側表面または前縁表面を有するように作成される。シールド構造３３０の全てまたは一部は整形層３１６ほど厚くないので、整形層３１６と同じ高さまでは（後縁方向に）延びない上面を有する。シールド３３０を整形層３１６よりも低い高さまでしか延びないようにすることで、書込み磁極３０２からの漏れ磁束が低減されて、磁気性能が改善され、さらに、書込み磁極３０２の製造中など、製造の利点も提供される。製造の利点は、書込み磁極３０２のイオンミリングの間、例えばアルミナの保護層でシールド３３０が覆われるようにする利点を包含する。 （もっと読む）