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Fターム[5D033DA31]の内容

磁気ヘッド−薄膜磁気ヘッド等 (5,645) | 製造 (1,065) | 製造方法 (483)

Fターム[5D033DA31]に分類される特許

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【課題】磁気ヘッドにおいて、簡単かつ迅速な処理で再生素子の磁極高さと記録素子の磁極高さをいずれも精度良く形成できるようにする。
【解決手段】再生素子7と記録素子8とを有する磁気ヘッド2が複数形成されたバー14を、複数の治具側光学マーカー12を有する加工治具15に取り付ける。バー14が取り付けられた加工治具15の、複数の治具側光学マーカー12の位置を検出し、かつ、バー14に設けられた複数のバー側光学マーカー11の位置を検出する。検出した治具側光学マーカー12とバー側光学マーカー11との相対位置関係に基づいて、バー14のみの変形を求め、バー14のみの変形が許容範囲外である場合にはバー14を取り外して再度取り付け直す。その後、加工治具15に取り付けられたバー14に加工を施してから個々の磁気ヘッド2ごとに切り離す。 (もっと読む)


【課題】高記録磁界強度を有し、磁界勾配の高い垂直磁気記録ヘッドを提供する。
【解決手段】主磁極1とシールド32を磁気的に分離する非磁性層6の膜厚を変化させ、それに追従するシールド形状にすることにより、高い磁界勾配と高記録磁界を実現する。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い磁気ヘッドを効率良く製造できるようにする。
【解決手段】磁気ヘッドの主磁極を形成する際には、基板1上にめっき下地層31を形成する。めっき下地層31上に磁性膜32と、マスク層33〜35からなるハードマスクと、フォトレジスト膜37を積層し、これらを用いて磁性膜32をエッチングする。この後、フォトレジスト膜41を形成し、開口部42を設けた後にリフロー処理によりテーパーをつける。テーパー形状を有する開口部を用いて犠牲層45をめっき法により析出させ、フォトレジスト膜41を除去した後、イオンビームを斜めに照射して犠牲層45と磁性膜32とを加工する。 (もっと読む)


【課題】フォトレジスト膜の溝の壁面の傾斜角度を容易にかつ精度よく制御できるフォトマスク及びそれを用いた磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】フォトマスク10は、透明基板11の一方の面側に半透明膜12を備えた構造を有している。半透明膜12には、磁気ヘッドの主磁極に対応する幅で開口部12aが設けられている。開口部12aの幅は、露光時に使用する光の波長よりも短い幅とする。また、主磁極の側面の傾斜角度に応じて半透明膜12の光透過率を決定する。 (もっと読む)


【課題】浮上面を高精度の平坦面に形成することが可能な磁気ヘッドスライダの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気ヘッドスライダの製造方法は、基板11上に所定の薄膜を順次積層して磁気ヘッド1を形成する素子部形成工程と、前記基板11を、前記磁気ヘッド1を有する磁気ヘッドスライダ10毎もしくは複数の該磁気ヘッドスライダ10が一列に連なったロウバー4毎に切断する切断工程と、前記磁気ヘッドスライダ10の浮上面5側を、研磨プロセスによって浮上面形成予定位置の手前まで研磨する第1の研磨工程と、前記磁気ヘッドスライダ10の浮上面5側をドライエッチングするエッチング工程と、前記磁気ヘッドスライダ10の浮上面5側を研磨プロセスによって浮上面形成予定位置まで研磨する第2の研磨工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】ネックハイトやサイドシールドハイト等のハイト値を高精度に制御することを可能にする磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】ウエハ基板にリード素子を形成した後、記録ヘッドを形成する際に設定するハイトのオフセット値を設定するに必要なリード素子のコア幅、ハイト方向の辺長及びRAを計測するデータ取得工程と、前記データ取得工程により得られた測定データに基づき、ウエハ段階においてABS面位置を予測し、その予測位置に基づいて前記ハイトのオフセット値を計算する工程と、該計算により求められたオフセット値に基づいて記録ヘッドをパターン形成する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】磁気ヘッドの製造工程において、ウエハ段階においてネックハイトを高精度に予測することを可能とし、製品精度及び製品の歩留まりを向上させる磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】ウエハ基板に主磁極10を形成した後、該主磁極10のフレアポイントFを挟む配置に一対のネックハイトモニター(NHモニター)30a、30bを形成する工程と、前記NHモニター30a、30bの中心位置Cと前記フレアポイントFとの相対的距離(ΔNH)を計測する工程と、前記相対的距離(ΔNH)の計測結果をもとに、前記主磁極10のネックハイトを予測する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】十分な磁界強度を維持しながらサイドフリンジ磁界を減少させることが可能な垂直磁気記録ヘッドを提供する。
【解決手段】PMRヘッド30は、基体31の上に、誘電体層49によって周囲が取り囲まれた主記録磁極35の狭幅部分351と、誘電体層49を介して狭幅部分351をトラック幅方向(X軸方向)に挟んで対応する一対のサイドシールド37と、狭幅部分351の上方に配置され、一対のサイドシールド37の上面同士を繋ぐトレーリングシールド38とを備える。狭幅部分351の上面35bの延長線上における狭幅部分351とサイドシールド37の内壁37sとの第1のサイドギャップ間隔aは、狭幅部分351の下面35aの延長線上における狭幅部分351とサイドシールド37の内壁37sとの第2のサイドギャップ間隔bよりも狭くなっている。これにより、サイドフリンジ磁界が減少し、オーバーライト性能が向上する。 (もっと読む)


【課題】主磁極の絞り部形状を高精度に形成することが可能な磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、基板11上に薄膜を順次積層して形成した基体6上に、磁気シールド18および補助磁極19を形成する工程と、前記磁気シールド18および前記補助磁極19が被覆されるように、絶縁層36を形成する工程と、少なくとも前記磁気シールド18と前記補助磁極19との間に位置する絶縁層36を、該絶縁層36の上面が該磁気シールド18および該補助磁極19の上面よりも低くなるまでウェットエッチングする工程と、前記磁気シールド18、前記補助磁極19および前記絶縁層36上に、鍍金ベース20を介して主磁極21を形成する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】主磁極を従来よりも微細にすることができる磁性材料の加工方法を提供する。
【解決手段】基板1の上方に、磁性材料を有する磁性体層31を形成し、磁性体層31の上に、塩化された状態での沸点が磁性材料の塩化物の沸点に比べて高い金属を含むマスク35を形成し、塩素系ガスとの化学反応を含むドライエッチング法によりマスク35から露出している領域の磁性体層31をエッチングする工程により、磁気ヘッドの磁極を形成する工程を含む。 (もっと読む)


【課題】主磁極と光導波路とがコア幅方向において相互に位置ずれを生じないように形成することが可能な磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、基板上に薄膜を順次積層して形成した基体上に、光導波路層17を形成する工程と、前記光導波路層17の上に、絶縁層34を形成する工程と、前記絶縁層34の上に、鍍金下地層18を形成する工程と、前記鍍金下地層18の上に、逆台形状に主磁極19を形成する工程と、前記主磁極19を基準として前記鍍金下地層18の所定領域を除去した後、該主磁極19および該鍍金下地層18をマスクとするドライエッチングによって、前記絶縁層34および前記光導波路層17を所定形状に形成する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録のライトヘッドの実効コア幅に影響を与える各部の諸寸法の許容範囲を広くしても、実効コア幅の予測寸法を確度高く求めることにより、最終的な実効コア幅が所定の規格値内に入るように、実効コア幅の予測値を製造工程の早い段階で把握して垂直磁気記録ヘッドの加工を行うことにより、後工程における製造歩留りを向上させることを目的とする。
【解決手段】垂直磁気記録用ライトヘッドの予測実効コア幅を求める方法として、ヘッドの光学的コア幅、ネックハイト、主磁極長、主磁極テーパ角、スロートハイト等を既定として数値を求め、実効コア幅の実測値を目的変数、既定箇所の測定値を独立変数とした重回帰式を用いて求められた目的変数の値を予測実効コア幅とみなし、予測実効コア幅が所定の値になるように測定要素の加工寸法を調整して行う。 (もっと読む)


【課題】サイドイレーズを効果的に抑制することができる磁気ヘッド及びその製造方法、並びにその磁気ヘッドを備えた磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】リーディング側に形成されたかさ上げ部24と、該かさ上げ部24に積層された磁性材からなる主体部25とによって形成され、ABS面における端面形状が逆台形状に形成された主磁極10と、該主磁極10の側方に、主磁極の側面から離間して配置されたサイドシールド28を備える。 (もっと読む)


【課題】リフトオフパターンを設けてリード素子を形成する工程において、リフトオフパターンを容易に除去することを可能とし、磁気ヘッドの製造工程を効率化する。
【解決手段】基板上に形成した磁気抵抗効果膜上にリード素子12のパターンにしたがってマスクパターン130を形成する工程と、前記マスクパターン130をマスクとして、前記リード素子12のパターンに前記磁気抵抗効果膜層をパターン形成する工程と、前記マスクパターン130が被着された状態において、絶縁膜14あるいは磁性膜16を成膜する成膜工程と、研磨パッド20に水22を供給して研磨する方法を利用して、前記マスクパターン130を除去する研磨工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】パターン幅の狭い、逆台形状の主磁極を形成することが可能な磁気記録ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気記録ヘッドの製造方法は、基体上に、媒体対向面側端面が逆台形状の溝を有するレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層の第1のアッシング処理を行う工程と、前記溝のコア幅方向の寸法が小さくなるように、前記レジスト層のシュリンク処理を行う工程と、前記溝内に記録用の磁極となる磁性材料層を形成する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】磁気ヘッドを高精度で製造する。
【解決手段】磁気ヘッド製造方法において、主磁極223の形成面上に、磁性材料からなり、主磁極223の元となる突条244を形成し(ステップS11からステップS13)、上記の磁性材料よりもミリングレートが高い非磁性材料からなり、突条244のよりも低い中間層245を形成し(ステップS14)、上記の磁性材料よりもミリングレートが低い非磁性材料からなる非磁性層246を形成し(ステップS15)、中間層245と非磁性層246とを突条244の両側面に沿った部分を残して除去することで、突条244の底部側を除く上面側の部分をイオンミリングから保護する主磁極幅保護体229を形成し(ステップS16からステップS19)、その後、突条244に対し、イオンミリングを斜め方向に施して主磁極223を得る(ステップS20)。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスクに対する高密度記録を実現する。
【解決手段】主磁極2のネックハイト部2aをマスクとして、SiO2膜46、52及びTa25膜144のネックハイト部2aと重ならない部分を除去し、SiO2膜46のうち除去されなかった部分を芯部として光照射ヘッドを作成するので、芯部の位置及び形状をネックハイト部に合わせることが可能である。したがって、レーザ光が照射される部分と同一範囲に、ネックハイト部から磁場を印加することができるので、保磁力の高い磁気ディスク(熱アシストを必要とする磁気ディスク)に対する情報の記録を高精度で行うことが可能であり、高密度記録の実現が可能である。 (もっと読む)


【課題】磁気ヘッドを高精度で製造する。
【解決手段】磁気ヘッド製造方法において、主磁極223の形成面上に、磁性材料からなり、主磁極223の元となる、断面が長方形状の突条244を形成し(ステップS11からステップS13)、上記の磁性材料よりもイオンミリングによるミリングレートが低い非磁性材料からなり、突条244の上部を覆うことでその部分をイオンミリングから保護する主磁極幅保護体228を形成し(ステップS14からステップS19)、その後、突条244を、イオンミリングによって斜めに切削して主磁極223を得る(ステップS20)。 (もっと読む)


【課題】主磁極の製造ばらつきを抑制する。
【解決手段】ウエハに埋め込み形成されたハードマスク52の+X方向の端部が、ウエハ90の+X方向の端部に位置するようにウエハを切削した後、ABS面とハードマスク52との位置関係(距離h)を考慮して本体部56を+X方向から切削することにより、ハードマスクが接している部分にネックハイト部2aを形成する。また、ネックハイト部2aの+X端部がABS面と一致するようにネックハイト部を切削する。このように、ハードマスクを用いることで、ネックハイト部を精度良く形成することができるとともに、ABS面を考慮して本体部を切削してネックハイト部を形成し、かつABS面に合わせてネックハイト部の長さを調整することで、ネックハイト部を所望の長さに調整することができる。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録ヘッドの製造において、主磁極のフレアポイントハイトのばらつきによる歩留まりの低下を防止するために、フレアポイントハイトを測定する必要がある。
【解決手段】ヘッドスライダ製造プロセスにおいて、主磁極36のフレアポイントハイトの推定を次のような手順で行う。(1)磁界センサにより磁界強度を測定し、磁界強度が最大となる点を主磁極中心とする。(2)前記中心点から、Z方向に沿って測定点を動かし、磁界強度の測定値がある基準値となるよう位置決めをする。(3)位置決めした位置を中心にZ方向に測定点を±数十nm程度移動させ、測定点のZ方向変位に対する磁界強度の測定値の減衰率(変化率)を算出し、測定値で規格化して、測定値そのものに対してプロットする。別途、用意していたフレアポイントハイトのわかっているサンプルのデータベースと比較し、変化率の規格値から当該サンプルのフレアポイントハイトを推定する。 (もっと読む)


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