【課題】ウエハ間での主磁極のコア幅のばらつきを抑制することができる磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】磁性材料層上にハードマスクを形成し、斜め方向からイオンビームを照射するイオンミリングで逆台形状の主磁極を形成する磁気ヘッドの製造方法に関し、イオンミリングの前のハードマスクの幅（底部の幅）Ｗ及び側壁傾斜角αを測定する。そして、磁性材料層をイオンミリングする際のビーム照射角θを、ハードマスクの幅方向のエッチング量（シフト量Ｓ）と、ハードマスクの側壁傾斜角αとに応じて決定する。なお、シフト量Ｓはハードマスクの幅Ｗの実測値から主磁極のコア幅の目標値（設計値）Ｄを減算して得られる。 （もっと読む）

【課題】入射光を効率的に近接場光発生素子に入射させ、効果的に近接場光を発生することのできる光アシスト磁気記録用ヘッドを提供する。
【解決手段】近接場光発生手段として、コア５２及びコアを包囲するクラッドからなる導波路と、金属薄膜７４とを有し、コアは浮上面側の端部に突出する幅の狭い板状部分６１を有し、金属薄膜は板状部分の上方及び側方にコアの浮上面側の端部を覆うように設けた。 （もっと読む）

【課題】記録トラック幅の狭小化に伴い主磁極膜厚を薄膜化した場合でも、記録特性を劣化させることのない垂直記録磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】主磁極１３上に磁界補助磁極２２と非磁性層２３を積層し、磁界補助磁極と非磁性層の浮上面側の側面に非磁性部２４を設ける。浮上面近傍を除く領域において、非磁性部２４及び非磁性層２３により、主磁極とシールド１６の間隔を広げ、磁界ロスを防止して、磁界強度及び磁界勾配を向上する。 （もっと読む）

【課題】ライト素子が磁気ディスク側に突出しても、ライト素子およびリード素子と磁気ディスクとの接触を防止することができる磁気ヘッドを提供すること。
【解決手段】磁気ヘッドのライト素子３の周辺の浮上面近傍に剛性の高い絶縁材料で形成された第１の絶縁部材８−１を配置し、第１の絶縁部材８−１周辺の浮上面近傍の一部に剛性の低い絶縁材料で形成された第２の絶縁部材４を配置する。第２の絶縁部材４上には剛性の高い絶縁材料で形成された表面層８−２が形成される。磁気ヘッドの浮上面が研磨されると、第１の絶縁部材８−１の領域がより研磨され凹部となる。 （もっと読む）

【課題】主磁極の体積を確保しつつも、サイドイレーズを抑制可能な磁気ヘッドスライダを提供する。
【解決手段】本発明の磁気ヘッドスライダは、磁気ディスクと対向する媒体対向面まで延び、媒体対向面側端面２１ａから記録磁界を発する主磁極２１を含む単磁極型記録ヘッド、を有する磁気ヘッドスライダであって、媒体対向面側端面２１ａは、磁性を劣化させる不純物が注入された注入領域２１ｉと、不純物が注入されない非注入領域２１ｎと、に分けられ、非注入領域２１ｎは、リーディング側ＬＤの端部の幅がトレーリング側ＴＲの端部の幅よりも狭い形状を有する。 （もっと読む）

【課題】圧電素子からなるＡＥセンサを磁気ヘッドスライダに組み込むに当り、ＡＥの検出感度よく、駆動電圧が小さく、低ノイズで、磁気ヘッドへの悪影響を抑制するように構成した磁気ヘッドスライダを提供する。
【解決手段】導電性のスライダ基板上の浮上面近傍の媒体対向面側に、薄膜ＡＥセンサ、ヒーター及び薄膜磁気ヘッドを順に一体形成したことを特徴とする薄膜ＡＥセンサ内蔵型薄膜磁気ヘッド。 （もっと読む）

【課題】狭トラック化された記録ヘッドにおいて、高い記録磁界強度と勾配を有し、スキュー時の隣接トラックへの書き込みを抑制する磁気的逃げ角を維持する。
【解決手段】記録媒体に対向する主磁極１ａの浮上面より後退したトレーリング側にトラック幅より張り出した磁性膜５を備えることにより、トレーリング側の磁界強度を強くして主磁極に付与された幾何Bevel角で規定された磁界強度分布の差を大きくし、隣接トラックに対して大きな磁気的逃げ角を発生しながら主磁極の書き込み能力を大きくする。 （もっと読む）

【課題】ヘッドスライダのラッピング工程において、その加工精度を向上する。
【解決手段】（ａ）磁気ヘッド２４が形成されたウエハＷから切断面１ａおよび切断面１ｂを長手方向に含むバー状態のブロック１を切り出す。（ｂ）切断面１ａ上に、切断面１ａのうねりの高さより厚い膜２を形成した後、膜２を平坦化する。（ｃ）切断面１ａ側でブロック１とラップ治具１０とを膜２より薄い接着樹脂３を介して接着する。（ｄ）その後、媒体に対向する面である切断面１ｂをラッピングして、磁気ヘッド２４のハイト方向の寸法出しをする。膜２は、ヤング率が接着樹脂３より高いものである。 （もっと読む）

【課題】コイルが発生する熱によって媒体対向面の一部が突出することを抑制する。
【解決手段】磁気ヘッドは、磁極層１２と、コイル１８と、コイル隣接層１９とを含んでいる。コイル１８は、２つの側面を有する巻線部を含んでいる。コイル隣接層１９は、巻線部の２つの側面全体のうちの少なくとも一部に隣接する。コイル隣接層１９は、２５〜１００℃における線熱膨張係数が５×１０^−６／℃以下で、且つ２５℃における熱伝導率が４０Ｗ／ｍ・Ｋ以上の非磁性材料によって構成されている。 （もっと読む）

【課題】サイドシールドの形成に際して、飽和磁束密度の高い材料を用い、且つ当該材料の腐食による障害発生の防止を可能とすることによって、サイドイレーズ磁界の増加を抑制しつつ、記録磁界を増加させることが可能な磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気ヘッド１は、記録媒体に記録用磁界を印加する主磁極１９と、主磁極１９のクロストラック方向の両側にギャップ層１７を介して配置されるサイドシールド２０と、を備え、各サイドシールド２０は、異種材料を用いて、クロストラック方向に向かって多層となる構造に形成される。 （もっと読む）

【課題】ＲＩＥによる主磁極の腐食発生及び主磁極の膜厚ばらつきの防止が可能な磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】本磁気ヘッドの製造方法は、基体６上に、主磁極１９となる磁性層、ストッパ層１７、下部マスク層、上部マスク層を形成する工程と、上部マスク層をパターニングして第１のマスクを形成する工程と、第１のマスクを用いて下部マスク層をパターニングして第２のマスクを形成する工程と、第２のマスクを用いてドライエッチングによりストッパ層１７と共に前記磁性層を端面が逆台形状となるように形成する工程と、第２のマスクをＲＩＥによって除去する工程と、第２のマスクが除去された積層体の上面を、ＣＯ系ガスを用いるＲＩＥによりドライクリーニングする工程とを備え、ストッパ層１７は、ＣＯ系ガスを用いるＲＩＥに対するエッチング耐性を有する軟磁性材料を用いて形成される。 （もっと読む）

【課題】加熱素子を用いた磁気ヘッド浮上量の低減機能において、記録素子あるいは再生素子を磁気ディスクに最も近づける。
【解決手段】記録素子２１、２３または再生素子２０，２４の間に加熱素子２２が配置された磁気ヘッドにおいて、スライダ浮上面３を加工する研磨工程で加熱素子２２に電力を供給することで、加熱素子２２付近の浮上面３を凹状に加工する。加工時に印加する電力をパルス状にすることで凹状部分３における曲率を大きくすることが可能となる。これによって、実際の動作において、加熱素子２２を加熱した場合に、記録素子２１，２３、あるいは、再生素子２０，２４を最も突出させることが出来る。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドの製造工程で用いられるドライエッチング用マスクを、高精度に形成することが可能な磁気ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、所定形状の第３のマスク層４３が形成された積層体をチャンバ６２内に収容して、第１の反応性イオンエッチングプロセスを実施し、第２のマスク層の所定領域を除去する工程と、チャンバ６２内のガス置換を行う工程と、第２のマスク層４２が形成された積層体に対して第２の反応性イオンエッチングプロセスを実施し、第１のマスク層の所定領域を除去する工程と、積層体をチャンバから取り出して、第１のマスク層４１が形成された積層体に対してイオンミルプロセスを実施し、ストッパ層１７および磁性層１９の所定領域を除去する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い半導体装置を効率良く製造できるようにする。
【解決手段】磁気記録ヘッドの主磁極を製造するときに、絶縁分離層３の上に非磁性体層２９を形成した後に磁性体層３０を積層する。ハードマスク３４ａを使って磁性体層３０をイオンミリングにより加工してから、非磁性体層２９に対してウェットエッチングを行う。ウェットエッチングは、磁性体層３０の下部にある非磁性体層２９が一部侵食されるまで行い、その後にイオンミリングで磁性体層３０の両側部を加工する。非磁性体層２９が除去された部分の磁性体層３０の加工が促進され、両側面を斜めに加工される。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成した金属層あるいは絶縁層の膜厚を制御して効率的にかつ正確に研磨加工を行うことができる研磨加工装置及び研磨加工方法を提供する。
【解決手段】ヘッド本体２１及びリテーナリング２３を備える研磨ヘッド２０と、研磨パッド１０が設けられた定盤１２とを備え、前記リテーナリング２３には、前記研磨パッド１０に接する第１の電極２６が設けられ、前記ヘッド本体２１には、基板４０の裏面と電気的に導通する第２の電極２７が設けられ、前記研磨ヘッド２０により前記基板４０を支持して研磨加工する際に、前記第１の電極２６と前記第２の電極２７との間における、前記基板４０上に該基板４０に電気的に導通して形成された膜厚モニター用の導通部４３と前記基板４０を介する導電率を監視し、該導電率の推移に基づいて研磨加工の終点位置を検知し、前記基板４０上に形成された成膜層４２の膜厚を制御する制御部３２が設けられている。 （もっと読む）

【課題】研磨加工面側が積層構造に形成された研磨対象物を水平に研磨加工する。
【解決手段】研磨加工面１側に抵抗体１３を有する複数のモニター１２を、研磨対象物であるヘッドスライダ１０の周囲に配置したワーク５０を使用する。ワーク５０を研磨加工した際の複数のモニター１２それぞれの抵抗体１３の抵抗値の変化により、ヘッドスライダ１０の研磨加工面の傾きを確認しながらワーク５０を研磨加工する。抵抗体１３は金属層と絶縁層との積層構造を有している。 （もっと読む）

【課題】焦点位置に正確に光を集光することができるように回折格子に入射する光の入射角度を容易に効率良く調整することができる平面光学素子を提供する。
【解決手段】一部の輪郭形状が放物線であるコア層と前記コア層と接するクラッド層とからなる導波路と、照射される光を前記コア層の先端部に向かって進む光として前記コア層の内部に導入する回折格子と、を有し、前記コア層に導入された光が前記先端部にある前記放物線の焦点に収束し、前記先端部から射出する光学素子において、前記コア層を進む光の一部を吸収する若しくは散乱させる遮光部が前記回折格子と前記焦点との間に配置されている。 （もっと読む）

【課題】ヘッド素子部と磁気ディスクとの間の磁気スペーシングを低減し、磁気情報の記録及び／もしくは再生をより高精度に行う。
【解決手段】本発明の一実施形態において、スライダ上のヒータ素子１５からの熱によるヘッド素子部の熱膨張によってスペーシングを調整する。さらに、本形態のヘッド構造において、記録ヘッド１３のリターン磁極１３１及び／もしくは再生ヘッド１１のシールド１１３にくぼみ部が形成されている。さらに、そのくぼみ部に応じて、オーバーコートにくぼみ部が形成されている。このくぼみ部により、リターン磁極あるいはシールドの突出が、磁気スペーシングの制御に及ぼす影響を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】データを正確に記録させることを課題とする。
【解決手段】磁気記録ヘッドは、磁気記憶媒体の円周方向に沿ってスリットが設けられた主磁極と、当該主磁極それぞれを励磁するための複数のコイルとを有し、磁気記憶媒体にデータを記録させる場合に、磁性ドットに対応する主磁極にかかるコイルの電流を強くし、もう一方の主磁極にかかるコイルの電流を弱くすることにより、非対称な磁界を発生させてライトマージンを増加させる。 （もっと読む）

【課題】主磁極のライトコア幅の狭小化を図る。
【解決手段】ハードマスク（Ａｕ）２０と、Ｔａ膜１８とを熱処理（アニール処理）して、ＡｕをＴａ中に拡散させることにより、Ｔａ膜のエッチング耐性を高くする。これにより、アルミナ層１６にパターンを形成するＲＩＥの際に、Ｔａ膜１８がエッチング（サイドエッチング）されるのを抑制することができる。このようにすることで、アルミナ層１６に形成するパターンがハードマスク（Ａｕ）２０に形成された開口パターン２０ａよりも広がるのを抑制することができ、ひいては主磁極４１４のライトコア幅の狭小化を図ることが可能である。 （もっと読む）