説明

Fターム[5D034BA19]の内容

磁気ヘッド−磁束感知ヘッド (4,232) | ヘッドの構成要素 (2,317) | ヘッドの表面構造 (51)

Fターム[5D034BA19]に分類される特許

1 - 20 / 51


【課題】垂直にオフセットされた異方性膜を有する磁気抵抗ヘッド及びそれを用いたハードディスクドライブを提供する。
【解決手段】一実施形態では、磁気ヘッドは、下部シールド層と、下部シールド層の上側に配置されたセンサー積層体であって、自由層を含むセンサー積層体と、下部シールド層の上側及びセンサー積層体のトラック幅方向の両面上に配置された層状硬質バイアス磁石と、硬質バイアス磁石及びセンサー積層体の上側に配置された上部シールド層とを含む。硬質バイアス磁石は、下部シールド層の上側に配置され、センサー積層体のトラック幅方向の両面と位置合わせされた垂直異方性膜であって、磁場をその形成面に対して垂直な方向に指向させる垂直異方性膜と、垂直異方性膜の上側に配置された面内異方性膜であって、磁場をその形成面の方向に指向させる面内異方性膜とを含む。 (もっと読む)


【課題】CPP構造磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、素子高さ方向の磁気抵抗効果センサ膜ジャンクション端部のエッチングダメージの影響を低減し、また、上部シールド層と下部シールド層の間の絶縁耐圧の劣化や、シールド起因の再生特性の変動を小さく抑え、さらに静電容量を小さく保つ。
【解決手段】ピニング層13の下面の素子高さ方向長さが第1の強磁性層14の下面の素子高さ方向長さよりも長く、ピニング層13の素子高さ方向端部が磁気抵抗効果センサ膜下面を延長した面に対してなす角度が、第2の強磁性層16の素子高さ方向端部が磁気抵抗効果センサ膜下面を延長した面に対してなす角度よりも小さく、素子高さ方向リフィル膜18の上面の高さが磁気抵抗効果センサ膜の上面と同じか、それよりも高い磁気抵抗効果型ヘッドとする。 (もっと読む)


【課題】十分な磁界強度を維持しながらサイドフリンジ磁界を減少させることが可能な垂直磁気記録ヘッドを提供する。
【解決手段】PMRヘッド30は、基体31の上に、誘電体層49によって周囲が取り囲まれた主記録磁極35の狭幅部分351と、誘電体層49を介して狭幅部分351をトラック幅方向(X軸方向)に挟んで対応する一対のサイドシールド37と、狭幅部分351の上方に配置され、一対のサイドシールド37の上面同士を繋ぐトレーリングシールド38とを備える。狭幅部分351の上面35bの延長線上における狭幅部分351とサイドシールド37の内壁37sとの第1のサイドギャップ間隔aは、狭幅部分351の下面35aの延長線上における狭幅部分351とサイドシールド37の内壁37sとの第2のサイドギャップ間隔bよりも狭くなっている。これにより、サイドフリンジ磁界が減少し、オーバーライト性能が向上する。 (もっと読む)


【課題】磁気抵抗効果センサ膜ジャンクション端部の酸化に起因する膜質の劣化を防止し、ヘッド抵抗が低く、高出力、高信号雑音比のCPP構造磁気抵抗効果型ヘッドを提供する。
【解決手段】下部シールド層11と上部シールド層21との間に磁気抵抗効果センサ膜20、両脇にトラック幅方向絶縁層22を介して縦バイアス印加層23、素子高さ方向絶縁層が配置されるCPP構造磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、反応性ガスである酸素ガス濃度の制御を行いながら反応性スパッタリング法を用いて作製し、その、磁気抵抗効果センサ膜20と接する側において、絶縁層の化学量論的組成の酸素含有量よりも、酸素含有量が少なくし、絶縁層の酸素含有量が最も少ない位置が、絶縁層が磁気抵抗効果センサ膜20と接する位置よりも膜厚が厚い位置で、かつ、絶縁層の膜厚の半分よりも磁気抵抗効果センサ膜20側にあるように構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、磁気ノイズが低く、高いSN比を有する磁気再生ヘッドおよび高密度の磁気記録再生装置を提供することにある。
【解決手段】磁気再生ヘッドにおいて、第一の非磁性導電体101から固定層105を介して第二の非磁性導電体103へ電流を流しながら、第一の非磁性導電体101と第一の自由層102との間の電圧と、第二の非磁性導電体103と第二の自由層104との間の電圧との差分から記録媒体1704の漏洩磁気を検出する。 (もっと読む)


【課題】ハードマスク層の除去に伴う膜厚方向の段差や突起の発生を回避し、高密度記録に対応可能な狭ギャップ幅化を可能にする磁気再生ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気再生ヘッド1の製造方法は、下部シールド層11上に、磁気抵抗効果膜12、第1のRIEストッパ兼上部シールド層13、パターニングされたハードマスク層14を形成し、さらに絶縁膜16、磁区制御膜17、第2のRIEストッパ兼上部シールド層18、CMPストッパ層19を積層し、ハードマスク層14を露出させた後、ハードマスク層14及びCMPストッパ層19を除去して、反応性イオンエッチングプロセスにより選択的に第1のRIEストッパ兼上部シールド層13と第2のRIEストッパ兼上部シールド層18との間にある磁区制御膜17を除去し、さらに絶縁膜16を除去した後、上部シールド層20を積層する。 (もっと読む)


【課題】浮上面加工時にトンネル接合素子とシャント抵抗素子の素子形状を調整できるようトンネル接合素子とシャント抵抗素子を形成する製造方法と、該製造方法により製造される磁気ヘッド、及び該磁気ヘッドを用いた情報記憶装置を提供する。
【解決手段】磁気ヘッドの製造方法は、電気的に並列に接続されたトンネル接合素子とシャント抵抗素子が、浮上面加工した際に浮上面に露出するように形成する素子形成工程と、トンネル接合素子とシャント抵抗素子を同時に研磨することにより浮上面を形成する浮上面形成工程とを有する。従って、トンネル接合素子とシャント抵抗素子を同一加工面に露出することができ、従来の研磨工程においても両素子を加工することができる。 (もっと読む)


【課題】加工時劣化を抑制するとともに,二素子出力をバランス化した差動型再生磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。
【解決手段】磁気抵抗効果膜を加工するイオンミリング工程において,トラック幅側面形状が変曲点を持ち基板下部方向へ拡幅するハーフテーパーを形成する。そのために,トラック幅Tw,高さhのマスクパターンを用い,磁気抵抗効果膜の全膜厚をt,基板側から最初の磁気検知膜中心までの膜厚をt1,最初の磁気検知膜中心から次の磁気検知膜中心までの膜厚をGLとしたときに,イオン入射角θが,tanθ≦0.3×Tw×(GL+t1)/(GL×(t+h))を満たし,加工量が2×(t−t1−GL)以上であるイオンミリングを行う。 (もっと読む)


【課題】電位出力を高くすることが可能な磁気センサーを提供することを目的とする。
【解決手段】磁気センサー100Aは、チャンネル層5と、チャンネル層5の第一の部分上に設けられ、外部磁界を検出する磁化自由層6と、チャンネル層5の第一の部分とは異なる第二の部分上に設けられた上部内側磁化固定層18Aと、チャンネル層5を間に挟んで上部内側磁化固定層18Aと対向する下部内側磁化固定層12と、を備え、上部内側磁化固定層18A及び下部内側磁化固定層12の磁化の向きが互いに平行または反平行となるように固定されている。 (もっと読む)


【課題】磁気抵抗効果膜のギャップ長が短く、且つ当該磁気抵抗効果膜とハード膜の先端部とが膜厚方向において段差の無い形状を備えて、磁気抵抗効果膜に印加される磁気バイアスを低下させることなく、高記録密度化、再生出力特性の安定化が可能な磁気再生ヘッドを提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気再生ヘッド1は、基体上に形成された磁気抵抗効果膜13のコア幅方向の両側に絶縁層16を介してハード膜17を備える磁気再生ヘッドであって、ハード膜17における磁気抵抗効果膜13寄りの先端部に、膜厚方向の厚さが絞られた絞り部17Aを有し、絞り部17Aの上面と磁気抵抗効果膜13の上面とが同一平面内に形成される。 (もっと読む)


【課題】上部金属層を段差無く形成し、ギャップ長を短くして、再生出力の安定化、再生感度の向上が可能な磁気ヘッドの再生素子の製造方法、該素子を備える情報記憶装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る磁気ヘッドの再生素子の製造方法は、基体上に下部金属層を形成し、下部金属層上に磁気抵抗効果膜を形成し、磁気抵抗効果膜上に軟磁性シールド層を形成し、軟磁性シールド層上にマスクを形成し、磁気抵抗効果膜を所望のコア幅にパターニングし、磁気抵抗効果膜上のマスクを残存させたまま磁区制御膜を積層し、磁区制御膜上にエッチングストッパ層を形成し、マスク上に形成されたエッチングストッパ層と磁区制御膜とを除去して磁気抵抗効果膜上のマスクを露出させ、磁気抵抗効果膜上のマスクの一部、軟磁性シールド層の両脇のエッチングストッパ層と磁区制御膜とを除去し、上部金属層を形成する工程を備える。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、磁気抵抗効果素子の製造方法に関し、より詳細には磁気抵抗効果素子の形成過程においてハード膜成膜後のリフトオフを行った後にイオンミリングを行い、磁気抵抗効果素子の最上層近辺のハード膜先端部分を加工することによりハードバイアスの効率を高めた磁気抵抗効果素子を製造する方法に関するものである。
【解決手段】 本発明の磁気抵抗効果素子製造方法は、生成した磁気抵抗効果膜の上にレジストパターンを形成して磁気抵抗効果膜をイオンミリングにより加工するイオンミリング工程と、磁気抵抗効果膜に絶縁膜、ハード膜およびハード保護膜の順に成膜するハード膜成膜工程と、レジストパターンをリフトオフするリフトオフ工程と、リフトオフ後にイオンミリングを行い、磁気抵抗効果膜の最上層の近辺に堆積したハード膜を加工するハード膜加工工程と、を備えるよう構成する。 (もっと読む)


【課題】積層方向の高さを低くして小型化を達成することにより、分解能を向上することが可能な磁気センサーを提供することを目的とする。
【解決手段】磁気センサー100aにおいて、非磁性導電層5と、非磁性導電層5の第一の部分上に設けられた磁化自由層6と、非磁性導電層5の第一の部分とは異なる第二の部分上に設けられた磁化固定層7と、非磁性導電層5及び磁化自由層6を間に挟んで対向する上部第一磁気シールド層11及び下部第一磁気シールド層1と、非磁性導電層5及び磁化固定層7を間に挟んで対向する上部第二磁気シールド層12及び下部第二磁気シールド層2と、下部第二磁気シールド層2と非磁性導電層5との間に設けられた電気絶縁層3と、を備え、下部第一磁気シールド層1は下部第二磁気シールド層2よりも非磁性導電層5に近く配置されている。 (もっと読む)


【課題】平坦化研磨後に比較的に高い寸法精度で平坦化面を後退させることができる磁気抵抗効果素子の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気抵抗効果膜の素材層にエッチング処理を施し、エッチングマスク66に基づき磁気抵抗効果膜の素材層から磁気抵抗効果膜45を削り出す。絶縁膜67、磁区制御膜の素材層68、第1研磨ストッパ層69、および、第1研磨ストッパ層69の素材とは異なる素材を含む第2研磨ストッパ層71を順次積層する。第2研磨ストッパ層71の表面から平坦化研磨処理を施す。平坦面からエッチング処理を施す。第1研磨ストッパ層69が露出した時点でエッチング処理を終了する。平坦面73の後退は高い精度で制御されることができる。 (もっと読む)


【課題】MRヘッドの製造におけるラッピングガイドを改善する。
【解決手段】少なくとも一つの読取ヘッドMRE1、2と電子ラッピングガイドELG5とを有する統合ラッピングガイドILG10であって、一実施形態において、ELG5が読取ヘッドMRE1、2の高さからオフセットしており、MRE1、2とELG5との間の抵抗をラッピング処理中に測定できる。ラッピング処理の初期段階中、ELG5はILG抵抗の変化を支配し、磁気抵抗MRヘッドの列の傾きと曲がりを可能にする長い範囲のストライプの高さ制御を提供する。ラッピング処理の後半の段階中、MRE1、2は、ILG抵抗のバラツキを支配し、短い範囲の均一な読取ヘッド抵抗制御を提供する。この実施形態において、長い範囲のストライプ高さ制御と短い範囲の均一な読取ヘッド抵抗制御との間の移り変わりは円滑であり、読取ヘッド製造処理に著しい利益をもたらす。 (もっと読む)


【課題】スピンバルブ型MR再生ヘッドを使用する接触摺動型システムにおいて、素子の腐食、ヘッド磨耗およびスメアを防止することにより十分なヘッド寿命を確保しつつ優れた電磁変換特性および走行安定性を得ることができる磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体。磁気記録媒体に記録された信号を、スピンバルブ層を有する磁気抵抗効果型磁気ヘッドを用いて再生する磁気信号再生システムにおいて使用され、磁性層表面の原子間力顕微鏡で測定した高さ10nm以上の突起数が50〜2500個/10000μm2の範囲であり、磁性層表面の潤滑剤量は、表面潤滑剤指数で表すと、0.5〜5.0の範囲であり、かつ磁性層の表面研磨剤占有率は2〜20%の範囲である。 (もっと読む)


【課題】TMR型の磁気抵抗効果膜において、反強磁性層による固定磁化層に対するピン止め作用を損なうことなく、リードヘッドの狭ギャップ化を図ることを可能とし、磁気ディスク装置の高密度化を可能とする磁気抵抗効果膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】トンネルバリア層17を挟む配置に設けられた磁化固定層16および自由磁性層18と、前記磁化固定層16の磁化方向を固定する反強磁性層15とを備え、該反強磁性層15の下層に、該反強磁性層15を一方向異方性が向上する面配向方向に配向させる下部シールド層13aが設けられ、該下部シールド層13aの下層に、該下部シールド層13aを前記反強磁性層15の面配向方向と同一の面配向方向に配向させるシード層12aが設けられている。 (もっと読む)


【課題】磁気記録密度向上に伴い、塵埃が磁気ディスク装置の信頼性に及ぼす影響は増大している。特に塵埃が磁気ヘッドスライダの再生素子の特性劣化に及ぼす影響は顕著になっている。
【解決手段】磁気ヘッドスライダ1は、スライダ1aと、薄膜ヘッド部分1bとから構成される。薄膜ヘッド部分1bは、薄膜層4、磁気再生素子3、磁気記録素子2およびこれらの素子の間及び上部に形成されたアルミナ等の絶縁膜などから構成される。薄膜層4は、アルミナからなる第1の絶縁膜13の上に設けられ、下部磁気シールド膜30と同じ材料のNiFe合金か、磁区制御膜38と同じ材料のCoPt系合金であり、第1の絶縁膜13よりも低い硬度を有する。薄膜層4の端部は、浮上面9に露出しており、トラック幅方向の幅W2は、MR膜34の幅と磁区制御膜38の幅を合わせた幅W1よりも広くなっている。 (もっと読む)


【課題】製造された薄膜磁気ヘッドのスメアを除去することができるスメアの除去方法が提供される。
【解決手段】このスメアの除去方法は、感磁部であるMR効果積層体を間に挟む2つの電極層を有するデータ読み出し用のMR効果素子を備えた薄膜磁気ヘッドにおいて、この2つの電極層間に、MR効果素子の破壊電圧未満のストレス電圧を印加して、スメアを焼き切るものである。この方法においては、MR効果素子の電気抵抗又は出力電圧を測定しながらストレス電圧を印加し、この電気抵抗又は出力電圧の値が、スメアの存在しない正常な場合の電気抵抗又は出力電圧の値から規定される上限規定値に増大しながら達するまで、ストレス電圧の値を増加させることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】記録媒体に対向する面の角部に磁束が集中しないシールド層及び補助磁極を有し、エッジライトの問題が生じにくい磁気ヘッドを提供する。
【解決手段】記録媒体の情報を記録する記録ヘッド及び記録媒体の情報を再生する再生ヘッドのうち少なくとも一方を備えた磁気ヘッドにおいて、前記記録ヘッド及び前記再生ヘッドのうち少なくとも一方が、前記記録媒体に対向する第1の面及び第2の面、並びに前記記録媒体に対向しない第3の面を有するシールド層を備え、前記シールド層の第1の面と第2の面とがなす外角が鋭角であり、前記シールド層の前記第1の面と第3の面とがなす外角が鈍角であることを特徴とする磁気ヘッド。 (もっと読む)


1 - 20 / 51