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Fターム[5D112FB19]の内容

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【課題】 ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供すべく、最適な基板の凹凸寸法と保護膜層の厚さとの関係を明らかにする。
【解決手段】 段差h(nm)の凹凸を有する非磁性基板の表面に磁性層と保護膜層を形成したものであって、該凹凸パターンの凸部におけるカーボン保護膜層厚さの最大値をa、凹部におけるカーボン保護膜層厚さの最小値をbとしたときに、これらa,b,hの関係が下記式
4.0≦b−a≦19.8・・・・・・・(1)
4.5≦b≦25・・・・・・・・・・・(2)
4.0≦h≦20.0・・・・・・・・・(3)
を満足する磁気記録媒体、及びこの磁気記録媒体を組み込んだ磁気記録再生装置。 (もっと読む)


【課題】室温で下地層、磁性層を形成した、安定して高い性能と高い信頼性を有する、安価な高密度磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】支持体の少なくとも一方の面に、真空成膜法により少なくとも金属または合金からなる下地層、強磁性金属粒子と非磁性酸化物からなるグラニュラ磁性層を形成した磁気記録媒体であって、該媒体の表面抵抗率が1Ω/□以上100Ω/□以下の範囲であることを特徴とする磁気記録媒体。上記磁気記録媒体の製造方法であって、真空成膜装置内において、真空度≦1×10-4Paおよび水の分圧≦7×10-5Paを満たした後、所望の圧力まで希ガスを導入し、支持体上に上記下地層、およびグラニュラ磁性層を形成する方法。 (もっと読む)


【課題】均一な保磁力分布が得られ、高記録密度化が可能な磁気ディスク、その製造方法および磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】下地層の形成工程において、絶縁性の基板11を基板ホルダ40に設けられた導電性材料からなる支持スプリング43により支持して下地層を形成する。次いで、記録層の形成工程において、下地層を形成した際の支持状態で可動電極45を絶縁性基板の端面11aに接触させ、スパッタ法によりバイアス電圧を供給して記録層を形成する。下地層は基板11の端面にも形成されるので、可動電極45と下地層との電気的な導通が良好となる。さらに、下地層の形成の際に、基板表面に形成される下地層と支持スプリング43との接触部の一部とが下地層材料により架橋され、支持スプリング43と下地層は電気的に導通状態となる。可動電極45および支持スプリング43を介してバイアス電圧が下地層に給電される。 (もっと読む)


【課題】 高密度記録した場合には、微小な記録磁区を安定して形成することが難しいという課題を有していた。
【解決手段】 ディスク基板11上に、少なくとも記録層15を備え、記録層15が、水素と結合し、希土類金属と局在して安定した結合状態を有する構成の光磁気記録媒体とその製造方法を提供する。これによって、記録層15の磁気異方性を大きく、安定した膜構造を形成できることより、マーク長を小さくした場合にも記録磁区を安定化させることができ、再生信号振幅を低下させることなく、記録密度を大幅に向上できる。 (もっと読む)


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