説明

Fターム[5D112FB19]の内容

磁気記録媒体の製造 (17,949) | 乾式薄膜製造手段 (812) | 薄膜形成雰囲気、環境 (139)

Fターム[5D112FB19]の下位に属するFターム

Fターム[5D112FB19]に分類される特許

21 - 40 / 44


【課題】大きな保磁力を持ち、トラック幅の狭化を実現でき、しかもSNRが良い垂直磁気記録媒体を製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の垂直磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板上に、柱状の磁性粒子間に非磁性の粒界部を有するグラニュラ構造の磁気記録層と、前記磁気記録層の下に配設され、前記磁気記録層の磁性粒子の配向を制御する下地層と、を具備する垂直磁気記録媒体の製造方法であって、キャリアガスに反応性ガスを混合して行う反応性スパッタリングにより、前記下地層を成膜することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板の両面に、反応性スパッタを用いてグラニュラ構造の磁性層を形成するに際して、スパッタチャンバ内の酸素ラジカル濃度分布の均一性を高め、磁性膜中に取り込まれる酸素濃度を面方向において一様とし、磁気特性、記録再生特性が安定した磁性層を形成することができる磁性層の形成方法と装置を提供する。
【解決手段】反応容器101内に、被成膜基板200を、その面方向が縦方向となるように配置し、スパッタ電極と該スパッタ電極の表面にターゲットが配設されてなる一対の電極ユニットを、各々、ターゲットを被成膜基板200側にして、被成膜基板200の両面と対向するように配置し、アルゴンおよび酸素を含む混合ガスを、一対の電極ユニットの各非成膜基板200側の表面付近に、外周部から中央部に向かって流れるように供給するとともに、排ガスを、前記反応容器101の両端部から排気し、反応性スパッタリングによって磁性層を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、媒体保護層の成膜時に加熱しても、保磁力Hcと信頼性の両方を、より高いレベルで両立させることが可能な垂直磁気記録媒体の製造方法および垂直磁気記録媒体を提供することを目的としている。
【解決手段】ディスク基体110上に少なくとも、柱状に成長した結晶粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラー構造の強磁性層である磁気記録層122bと、水素化カーボンを主成分とする媒体保護層126とを、この順に備える垂直磁気記録媒体100の製造方法において、磁気記録層122bを、粒界部が複数の種類の酸化物を含有するように成膜する磁気記録層成膜工程(ステップS310)と、磁気記録層122bが成膜されたディスク基体110を160〜200℃に加熱した状態で媒体保護層126を成膜する媒体保護層成膜工程(ステップS330)とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】2層構造の磁気記録層122において結晶粒子の粒径を工夫することで、高い保磁力を維持したまま、SNRを向上させた磁気記録層122を備える垂直磁気記録媒体100を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体100の製造方法は、ディスク基体110上に少なくとも下地層118、第1磁気記録層122a、第2磁気記録層122bをこの順に備える垂直磁気記録媒体100であって、第1磁気記録層122aおよび第2磁気記録層122bは柱状に成長した結晶粒子の間に非磁性物質からなる粒界部を形成したグラニュラー構造の強磁性層であり、第1磁気記録層122a中の結晶粒子の平均粒径をAnm、第2磁気記録層122b中の結晶粒子の平均粒径をBnmとした場合、A<Bであることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、第1磁気記録層の結晶粒子の間隔を工夫することで、連続層としての機能をも備えさせた連続層を備える垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体100は、第1磁気記録層122aおよび第2磁気記録層122bは柱状に成長した結晶粒子の間に非磁性物質からなる粒界部を形成したグラニュラー構造の強磁性層であり、第1磁気記録層122aにおいて結晶粒子と隣接する結晶粒子との粒界部の最短距離の平均により定められる粒子間距離は1nm以下であることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、同一の組成で形成される連続した2層間におけるパーティクルの付着を防止することにより、垂直磁気記録媒体の歩留まりの向上および記録再生特性の改善が可能な垂直磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 ディスク基体110上に複数の層をスパッタリングによって成膜する垂直磁気記録媒体の製造方法において、複数の層のうち、少なくとも2つの連続する層を、同一チャンバーにおいて同一のターゲットを用いて1つのプロセスタイム内でスパッタ条件を異ならせて成膜することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成される軟磁性層と、軟磁性層上に形成される底層と、底層上に形成される複数のCo合金酸化物層を有する記録層と、を備え、複数のCo合金酸化物層の各層は、底層側に位置した下部層から上部層へ行くほど磁気異方性エネルギーが次第に低くなるように形成されたことを特徴とする垂直磁気記録媒体である。前記第1Co合金酸化物層のPt含量は、前記第2Co合金酸化物層のPt含量より多い。 (もっと読む)


【課題】耐摩耗性及び耐蝕性を維持しつつ保護層の薄膜化を図ることができる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】基板1と、基板1の上方に形成された磁性層3と、磁性層3の上方に形成された、密度が2.2g/cm3以上の非晶質窒化シリコン膜からなる保護層4と、保護層4上の潤滑層5とを有する。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録層の粒径の微細化と垂直配向性を両立することで、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に、少なくとも裏打ち層と下地膜と中間層と垂直磁気記録膜を有する垂直磁気記録媒体において、前記中間層の少なくとも1層がReを主構成元素とし、さらに第2の主構成元素としてhcp構造を有する元素あるいはbcc構造を有する元素を含む構成とする。また中間層の主構成元素であるReの濃度を55原子%〜99.5原子%の範囲内とする。さらに、第2の主構成元素をCoまたはCrとする。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録媒体の記録層に用いるCo系合金は腐食しやすい合金であるため、記録密度向上のために保護膜の薄膜化を進めていくと、耐食性、耐久性の観点から製品性能を満足する結果を得ることが難しくなってくる。
【解決手段】垂直磁気記録媒体のグラニュラー磁性層6を保護するDLC保護膜7をCVD法により形成する際に、グラニュラー磁性層界面側の第1層7aの膜厚を保護膜全膜厚の7.5〜25%,水素含有量を33〜38%とし、第2層7bの膜厚を保護膜全膜厚の50〜85%,窒素含有量を3〜7%とし、最表面側の第3層の膜厚を保護膜全膜厚の7.5%〜25%,水素含有量を25%以下とする。 (もっと読む)


【課題】高S/N比をもった垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】基板1と、該基板1上に形成された密着層2と、該密着層2上に形成された、非磁性体を含む軟磁性裏打ち層3と、該軟磁性裏打ち層3上に形成された非磁性下地層4と、該非磁性下地層4上に形成された磁気記録層とを備え、該磁気記録層は、第一の強磁性層5と、該第一の強磁性層5上に形成された第二の強磁性層9とからなり、第一の強磁性層5上の少なくとも一部に非金属膜8が形成されている垂直磁気記録媒体である。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録媒体およびその製造方法に関し、高い熱安定性とノイズ低減とコストダウンを実現する。
【解決手段】非磁性基体1上に、軟磁性裏打ち層2、下地層3、非磁性中間層4、磁気記録層5、保護膜6、液体潤滑層7を順次形成する。下地層3はパーマロイ系材料を用いて成膜し、非磁性中間層4はRuまたはRu基合金材料を用いて成膜する。磁気記録層5は磁性材料にB4Cを加えたグラニュラー材料を原材料に用いて成膜するが、このとき、非磁性基体1の温度をほぼ室温程度の常温として成膜を行なう。 (もっと読む)


【課題】記録層が良好な結晶配向性を有し、高記録密度化を図れる垂直磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】、基板11と、基板11上に、軟磁性裏打積層体12、シード層13、酸化抑制層14、第1下地層15、第2下地層16、記録層18、保護膜19、および潤滑層20を順次積層した構成を有し、Ruを除く貴金属元素を含む酸化抑制層14をRuあるいはhcp結晶構造を有するRu合金からなる第1下地層15の下地として設け、第1下地層15、第2下地層16、さらには記録層18の結晶配向性を向上する。 (もっと読む)


【課題】下地層の粒成長を抑制し、且つ高い配向性を出現させることによって、低い媒体ノイズを有し、高S/N比が得られる磁気ディスクを提供する。
【解決手段】ディスク状ガラス基板上に、少なくとも、非晶質の第1下地層と、結晶質の第2下地層と、磁性層とを有する磁気ディスクの製造方法であって、酸化性ガスを含む雰囲気において反応性スパッタリングにより前記第1下地層を成膜した後、100℃から240℃の範囲の基板温度で前記第2下地層を成膜する。前記第1下地層は、例えばCoW、CrW、CrTa、CrMo、CoTaのうちの何れかの材料からなる。前記酸化性ガスとしては、例えば酸素ガス、二酸化炭素ガスである。また、前記第2下地層は、体心立方構造のCr系合金からなる。 (もっと読む)


【課題】安価でかつ高密度な記録が可能な磁気記録媒体を製造することを可能にする。
【解決手段】基板に磁性膜を形成する工程と、インプリント法により磁気記録媒体の凹凸パターンが転写されるパターン転写膜の形成を、1×10−3Torr以下の真空中でパターン転写膜形成用材料を100℃以上400℃以下の温度で加熱して前記磁性膜上に蒸着することにより行う工程と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】粒状のコバルト合金に酸化物が添加されて成る記録層(RL)を備えた垂直磁気記録ディスクにおいて、記録性能を劣化させることなく良好な耐食性を付与する。
【解決手段】六方最密(hcp)結晶構造を有するRu或いはRu合金から成る中間層(IL)を従来よりも実質的に低いスパッタ圧にて蒸着し、その結果、中間層の柱状構造が従来よりも減少し、中間層の表面が従来よりも平滑になる。そのようにして得られた比較的平滑な中間層(IL)の表面をアルゴン雰囲気中でのスパッタエッチング等のイオン照射により変性し、ナノスケールの粗さとし、その上に記録層(RL)を成長させる。そのように中間層(IL)の表面を粗面化すると記録層(RL)が成長する際に記録層中の粒子の分離が促進されるが、本発明の中間層(IL)は柱状構造が少ないので水や腐食剤の通り道が従来よりも少なくなる。 (もっと読む)


【課題】軟磁性下地層SULと垂直記録層RLとの間の中間層ILを低スパッタ圧で形成すると、RLの凹凸を低減してディスクの耐食性を改善することができる。しかしながら、低スパッタ圧でILを形成すると、ディスクの保磁力が大きく低下するため記録性能が低下する。
【解決手段】垂直磁気記録ディスクは、酸化物を添加された粒状コバルト合金記録層RLと、軟磁性下地層SUL上に形成された交換ブレーク層としての中間層IL、およびILとRLの間に形成された極薄核生成膜(NF: Nucleation film)を有する。同ディスクの作製においては、ILを従来に比べてかなり低スパッタ圧で堆積させ、それによってRLとその上のオーバーコートOCの凹凸度を低減する。NFとRLは、かなり高いスパッタ圧で堆積させる。その結果、良好な記録特性を有し、改善された耐食性を有するディスクが得られる。 (もっと読む)


【課題】面内磁気記録ヘッドで記録可能であり、且つ、熱的に安定であり、しかも、SNRが高い磁気記録媒体を得る。
【解決手段】非磁性支持体12と、該非磁性支持体12の少なくとも一方の面に形成されたシード層14と、該シード層14上に形成された下地層16と、該下地層16上に形成された磁性層18とを有し、シード層14は、RuAl又はRuNiAlから選ばれるB2構造の合金の層であり、下地層16は、Ti含有率が20〜35at%のCrTi合金の層であり、磁性層18は、CoPtを主成分とする強磁性体微粒子が酸化物又は窒化物で分離されたグラニュラ構造を有する層である。 (もっと読む)


【課題】面内磁気記録ヘッドで記録可能であり、且つ、熱的に安定であり、しかも、SNRが高い磁気記録媒体を得る。
【解決手段】非磁性支持体12と、該非磁性支持体12の少なくとも一方の面に形成されたシード層14と、該シード層14上に形成された下地層16と、該下地層16上に形成された磁性層18とを有し、磁性層18は、CoPtを主成分とする強磁性体微粒子が酸化物で分離されたグラニュラ構造を有する層であり、酸化物は、酸化ケイ素と酸化クロムの混合物である。酸化ケイ素と酸化クロムの混合比は、9:1〜1:9の範囲である。前記強磁性体微粒子の平均粒子径は、円形換算で6〜10nmφである。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録ディスク用基板に加熱を行う際に温度ばらつきが発生するのを防止可能な磁気記録ディスクの製造方法、および磁気記録ディスク用基板加熱装置を提案すること。
【解決手段】 4枚の磁気記録ディスク用基板10に対して4つのヒータ面440を対向させた状態で加熱する際、4つのヒータブロック410を加熱装置400の磁気記録ディスク用基板10との対向面の中心位置を中心に回転させ、かつ、4つのヒータブロック410の各々について自転させる。このため、ヒータ面440上に温度ばらつきがあっても、各磁気記録ディスク用基板10の間、および磁気記録ディスク用基板10の面内位置で温度ばらつきが発生するのを防止することができる。 (もっと読む)


21 - 40 / 44