【課題】複数枚の非導電性の基板に対してバイアススパッタによる成膜を行う枚葉式の成膜装置において、生産性を維持したままで、良好にＤＣバイアスを印加することができるようにする。
【解決手段】複数枚の基板１を略々一平面上に保持する基台６と、複数のバイアス印加用端子１３が設けられた導電性のバイアス印加部材１４とを備える。バイアス印加部材１４は、基台６に対し、基台６上に保持された複数の基板１の略々中央を通り各基板１に対して垂直な回転軸回りに回動可能に支持されており、基台６に対して回動されることにより、複数のバイアス印加用端子１３を基台６上に保持された複数の基板１に対応して接離させる。 （もっと読む）

【課題】高密度記録が可能であると共に、生産歩留まりの低下を回避し、さらには磁気記憶装置の信頼性を向上可能な垂直磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板１１と、基板１１上に、軟磁性裏打ち層１２、シード層１３、下地層１４、記録層１５、保護膜１６、および潤滑層１８を順次積層した構成とし、下地層１４は、ＲｕまたはＲｕ合金からなる複数の結晶粒子１４ａからなり、結晶粒子１４ａ同士を互い離隔する空隙部１４ｂを介して基板面内方向に配置され、記録層１５は下地層１４の結晶粒子１４ａ上に堆積した複数の磁性粒子１５ａからなり、磁性粒子１５ａ同士を互い離隔する空隙部１５ｂを介して基板面内方向に配置される。記録層１５の磁性粒子１５ａは、下地層１４の結晶粒子１４ａ上に成長した構成を有する。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドの腐食の発生を抑えることが可能な磁気ディスクを提供する。
【解決手段】面取部及び側壁部からなる端面と、主表面とを有する基板上に磁性層と保護層とを順次形成する磁気ディスクの製造方法であって、前記保護層の成膜時に、前記基板に対して所定のバイアスを印加することによって前記端面に保護層を形成する。 （もっと読む）

【課題】改善された高い記録性能、特に良好な信号雑音比をもつ磁気記録媒体及び製造法を提供する。
【解決手段】基板、第１及び第２磁性層をもち、第１磁性層２における磁性粒子間の交換結合は、第２磁性層３における磁性粒子間の交換結合より低く、第１及び第２磁性層は膜の積み重ねであり、そのため第１磁性層２における磁気粒子は第２磁性層３を通る通路により交換結合される。前記第１の磁性層は非強磁性材料の領域を包含し、また前記第２の磁性層は本質的に非強磁性材料を包含しない。 （もっと読む）

【課題】高記録密度を有する垂直磁気記録媒体の量産を安定して行うためには、軟磁性下地層の特性を劣化させることなく成膜を行う技術が必要である。
【解決手段】基板１上に密着層２を形成し、次に第一軟磁性層３１及び第二軟磁性層３２をそれぞれ２５ｎｍ形成し、非磁性層３３であるＲｕを形成し、第三軟磁性層３４及び第四軟磁性層３５をそれぞれ２５ｎｍ形成して軟磁性下地層３を作製した。第一軟磁性層３1と第二軟磁性層３２及び第三軟磁性層３４と第四軟磁性層３５はそれぞれ強磁性的に結合しており、第二軟磁性層３２と第三軟磁性層３４はＲｕ非磁性層３３を介して反強磁性的に結合している。その後、基板半径方向に磁界を印加しながら冷却を行い、次に、中間層４であるＲｕを形成し、記録層５を形成し、保護膜６を形成した。 （もっと読む）

【課題】 プラズマＣＶＤ炭素系膜の耐久性、耐食性を活かしつつ、且つ、耐ガス吸着性の良好な保護膜形成方法を提供する。
【解決手段】 炭化水素ガスを原料としたプラズマＣＶＤ法を用いて耐摺動部材上に保護膜を形成するにあたり、保護膜の成膜初期は耐摺動部材に−５００Ｖを超えるバイアス電位を印加し、成膜終期には−５００Ｖ以下のバイアス電位を印加して成膜することを特徴とする。
また、保護膜を成膜する時間に対して、成膜終期のバイアス電位の印加時間の比率が２５％以下であることが好ましい。
また、磁気記録層および保護膜を備えた磁気記録媒体において、保護膜を上述の方法によって形成する。 （もっと読む）

【課題】 非導電性のディスク基体を用いた磁気記録媒体を高い量産性で製造する。
【解決手段】 ハードディスクドライブに搭載される磁気記録媒体の製造方法であって、非導電性のディスク基体１２を準備する準備工程と、回転可能な台部２０２と、台部２０２に設けられた保持部２０４と、バイアス印加用端子２０６とを備える基板アダプタ１０２を用いて、バイアス印加用端子２０６をディスク基体１２に接触させない状態で、保持部２０４にディスク基体１２を保持させる保持工程と、ディスク基体１２上に導電性膜を成膜する第１成膜工程と、台部２０２を回転させることにより、ディスク基体１２にバイアス印加用端子２０６を接触させる接触工程と、バイアス印加用端子２０６を介してバイアス電圧を印加しつつ、次の層を成膜する第２成膜工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供すべく、最適な基板の凹凸寸法と保護膜層の厚さとの関係を明らかにする。
【解決手段】 段差ｈ（ｎｍ）の凹凸を有する非磁性基板の表面に磁性層と保護膜層を形成したものであって、該凹凸パターンの凸部におけるカーボン保護膜層厚さの最大値をａ、凹部におけるカーボン保護膜層厚さの最小値をｂとしたときに、これらａ，ｂ，ｈの関係が下記式
４．０≦ｂ−ａ≦１９．８・・・・・・・（１）
４．５≦ｂ≦２５・・・・・・・・・・・（２）
４．０≦ｈ≦２０．０・・・・・・・・・（３）
を満足する磁気記録媒体、及びこの磁気記録媒体を組み込んだ磁気記録再生装置。 （もっと読む）

【課題】 非磁性基板上に磁性記録層を有し、この磁性記録層上に被覆層を有する磁気ディスクにおいて、磁性記録層と被覆層との密着度を向上させ、被覆層の十分な耐久性、特に、良好な耐ＬＵＬ特性を維持することができるようにする。
【解決手段】 非磁性基板１上に磁性記録層３を有し、この磁性記録層３上に被覆層４を有する磁気ディスク１０であって、被覆層４は、磁性記録層３側に、ホウ素及び炭素からなる第１被覆層４ａを有して形成されている。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体に同時に水平記録と垂直記録を応用できる方法の提供。
【解決手段】磁気記録媒体は順に基板とメッキされる底層と、緩衝層と、磁性記録層とを備えてなり、底層はその厚さを変更することにより記録媒体の磁性パラメータを同調することができる。製法は、（ａ）基板を提供するステップと、（ｂ）基板上に特定厚さ範囲を具備して記録媒体の磁気性質を同調する同調層を形成するステップと、（ｃ）同調層上に緩衝層を形成するステップと、（ｄ）緩衝層上に記録層を形成するステップとを備えてなる。磁気記録媒体の基板と記録層との間に配置される底層の厚さ変化を利用して磁気記録媒体の磁性及び磁気記録層の結晶優先方位を同調すると共に、底層厚さの変化により得られた磁気記録の優先方位、易磁化方向、抗磁力、磁気異方性及びヒステリシス曲線の角形比の性質を同調し、磁気記録媒体に垂直および／又は平行膜層表面の磁性を具備させる。 （もっと読む）

表面粗さが小さく低コストな磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法を提供する。軟磁性層１６を、基板１２側の第１の軟磁性層２６と、記録層２０側の第２の軟磁性層２８と、を積層してなる構成とし、第２の軟磁性層２８における記録層２０側の面２８Ａの表面粗さが、基板１２のベース面１２Ａの表面粗さよりも小さく、且つ、第１の軟磁性層２６における記録層２０側の面２６Ａの表面粗さよりも小さくなるように第２の軟磁性層２８を形成する。
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【課題】 垂直磁気記録媒体及びその製造方法に関し、裏打層の結晶化を防ぐことによって表面を平坦化し、中間層及び磁気記録層の任意のエピタキシャルな結晶成長を可能にする。
【解決手段】 非晶質或いは析出型微結晶の軟磁性体膜からなる裏打層１と磁気記録層３との間に非磁性中間層２を設けた垂直磁気記録媒体の裏打層１の表面粗さＲ_a を１．０ｎｍ以下とし、表面うねり振幅を２ｎｍ以下、うねり周期を１μｍ以上とする。 （もっと読む）

【課題】 赤外線照射加熱効率の高い情報記録媒体用基板、この基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラスまたは結晶化ガラスからなり、（１）２７５０〜３７００ｎｍの波長域に分光透過率が５０％以下となる領域が存在する、（２）波長２７５０〜３７００ｎｍにわたり、分光透過率が７０％以下となる、（３）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、垂直磁気記録媒体用に供される、（４）赤外線照射加熱用に供され、２００ｐｐｍ超の水分を含む、あるいは（５）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、赤外線照射加熱後にスパッタリングによって形成される情報記録層を含む多層膜の支持用に供されることを特徴とする情報記録媒体用基板、および前記基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、並びに情報記録媒体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンで形成され、該凹凸パターンの凸部として記録要素が形成された記録層を有し、磁気ヘッドの良好な浮上特性が得られる信頼性が高い磁気記録媒体、これを備える磁気記録再生装置及びこのような磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体１２は、基板の上に所定の凹凸パターンで形成され、該凹凸パターンの凸部として記録要素２４Ａが形成された記録層２４と、記録要素２４Ａの間の凹部２６に充填された充填要素２８と、充填要素２８よりも電気抵抗率が低く、充填要素２８の上に形成された導電膜３０と、記録要素２４Ａ及び充填要素２８を被覆し、且つ、導電膜３０の上面に接して形成された保護層３２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】非磁性基板１上に磁性層３を有しこの磁性層３上に保護層４を有する磁気ディスク１０の製造方法において、保護層４の膜厚を５ｎｍ以下とした場合においても、この保護層４の耐久性、特に、耐ＬＵＬ特性を優れたものとする。
【解決手段】保護層４を、カーボンを主成分としてプラズマＣＶＤ法により成膜する。この保護層４の成膜を、常温乃至２５０°Ｃ以下の環境下で行う。より好ましくは、この保護層４の成膜を、常温乃至１５０°Ｃ以下の環境下で行う。この保護層４は、膜厚を１ｎｍ乃至５ｎｍとして成膜することができる。この磁気ディスクの製造方法においては、ロードアンロード方式用の磁気ディスク１０を良好に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体の製造方法、およびその磁気記録媒体を備えた磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】非磁性基板上に少なくとも裏打ち層と下地膜と垂直磁気記録膜を有する垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記垂直磁気記録膜を少なくともＣｏとＰｔと酸化物を含むグラニュラー構造からなる膜で形成し、該垂直磁気記録膜を基板温度１００℃以上１７０℃以下の所定の温度範囲に設定した条件でスパッタリング法を用いて形成する。 （もっと読む）

【課題】プラスチック単層フィルムでなるベースフィルムに熱変形を生じさせることなく金属膜を成膜することができる生産性に優れた巻取式真空蒸着方法及び巻取式真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】金属膜の蒸着前において原料フィルム１２に電子ビームを照射する電子ビーム照射器２１を配置すると共に、キャンローラ１４には直流バイアス電源２２の正極を接続し、補助ローラ１８には直流バイアス電源２２の負極を接続する。これにより、金属膜の蒸着前は電子ビームの照射により帯電させた原料フィルム１２をキャンローラ１４に密着させ、金属膜の蒸着後は補助ローラ１８に電気的に接続される金属膜とキャンローラ１４との間に印加したバイアス電圧によって原料フィルム１２をキャンローラ１４へ密着させる。 （もっと読む）

【課題】異常放電によるターゲットからのパーティクルの飛散を防止し、高品質な垂直磁気記録媒体を高歩留まりで製造する方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録層６の成膜に当っては、ＤＣパルスを使用し、スパッタリングとスパッタリングの間の反転期間(Reversal Time)にターゲットに反対極性の電圧が印加される。スパッタリング時は、ターゲットに負の電圧が印加され、ターゲット表面が負の電位になり、Ａｒ＋が衝突することでスパッタリングが始まり、スパッタされたＣｏＣｒＰｔとＳｉＯ_２は中間層５の表面に堆積する。ターゲットの絶縁物（ＳｉＯ_２）の表面はＡｒ＋により帯電し、ターゲットの電圧に比べて大きな値となる。しかしながら、非スパッタリング時にはターゲットに正の電圧を印加することで、絶縁物表面に帯電した電荷を中和するので、アーキングの発生を防止することができる。 （もっと読む）

本発明は、情報記憶媒体に関し、特に、磁性材料の複数の離散的なアイランドを含む超高密度磁気情報記憶媒体に関する。
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【課題】 信頼性を向上し高密度の情報の記録再生が可能な小径の磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】 非磁性基板上に、少なくとも裏打ち層と垂直磁気記録膜と保護膜を有する磁気記録媒体において、非磁性基板を、直径４８ｍｍ以下の円盤形のシリコンとし、保護膜をＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ Ｌｉｋｅ Ｃａｒｂｏｎ）で構成し、垂直磁気記録膜を、少なくともＣｏとＰｔと酸化物を含むグラニュラー構造とする。また酸化物を、ＳｉＯ_２，Ｃｒ_２Ｏ_３，ＴｉＯ，ＴｉＯ_２，Ｔａ_２Ｏ_５からなる群から選ばれた何れか一種を含む構成とする。 （もっと読む）