【課題】基板外周端部のロールオフの低減、中でも、ハードディスクの高容量化に必要なロールオフの低減に有効な研磨液組成物、及びロールオフが低減された基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ、酸、界面活性剤、及び水を含有する研磨液組成物であって、(a)酸の水に対する25℃における溶解度が1g/飽和水溶液100g以上、(b)界面活性剤が下記一般式（１）で表されるスルホン酸又はその塩、かつ（c）研磨液組成物のpHが0〜3、である研磨液組成物、
R-O-(AO)_n-SO_３H （１）
[式中、Rは炭素数3〜20の炭化水素基、AOは炭素数2〜4のオキシアルキレン基、及びｎはAOの平均付加モル数で1〜6を表す。]、及び該研磨液組成物を被研磨基板1cm²当たり0.05ｍL/分以上の供給速度で供給し、5〜50kPaの研磨圧力で研磨する工程を有する基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】円盤状ガラス基板の外周端面の清浄度を向上させる。
【解決手段】円盤状ガラス基板１をその主表面が鉛直となるようにしつつ回転させ、その回転するガラス基板１の外周端面１ａに、超音波を照射された洗浄液Ｗを流下させるガラス基板１の洗浄方法。前記洗浄方法を用いて複数枚のガラス基板１を洗浄する方法であって、複数枚のガラス基板１をそれらの下部を露出させかつ互いに離隔させて鉛直に保持できる基板ケース２０に収納し、ガラス基板１をその露出した下部の外周端面１ａが２本の回転可能なシャフト２Ａ、２Ｂに接触するように載せて支持し、シャフト２Ａ、２Ｂを回転させてガラス基板１を回転させる円盤状ガラス基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 研磨で生じる研磨パッドの汚染および目詰まりを防止することにより、研磨表面粗さの品質のバラツキを防止し、製品の品質を向上させる研磨加工方法を提供すること。
【解決手段】 磁気ディスク用ガラス基板を研磨する工程と、研磨後に該ガラス基板をリンスする工程とを少なくとも含む磁気ディスク用ガラス基板の研磨方法であって、前記研磨工程がコロイダルシリカを研磨砥粒の主成分として用いる仕上研磨加工工程を含み、前記リンス工程がこの研磨直後に、定盤を停止せずにリンス液を流しながら行われ、このリンス工程で用いられるリンス液が界面活性剤を含有した純水であり、さらにアルカリを添加してｐＨが８〜１２に調整されたものであることを特徴とする研磨方法。 （もっと読む）

【課題】 ガラス材料からなる基体上に１μｍ以上の厚い膜であっても密着性良く均一に無電解めっき法でめっき膜を形成することが可能なガラス基体へのめっき方法を提供する。
【解決手段】 ガラス材料からなる基体上に、少なくとも、ガラス活性化処理Ｓ２、シランカップリング剤処理Ｓ３、Ｐｄ触媒化処理Ｓ４、Ｐｄ結合化処理Ｓ５を順次施した後、無電解めっきＳ６により０．０２μｍ以上０．５μｍ以下の膜厚にめっき膜を形成して２００℃以上３５０℃以下の温度にてアニール処理Ｓ７を施し、そのめっき膜上に無電解めっきＳ８を施す。 （もっと読む）

【課題】 テクスチャー加工を施すべき基板の表面のスラリーの濡れ性を改善し、テクスチャー加工時に基板の表面に供給するスラリーが基板の表面に均一に広がるようにすることにより、基板表面の均一な加工を可能とし、異常突起の形成を抑制する。
【解決手段】 テクスチャー加工を施すべき基板の表面に砥粒を含むスラリーの濡れ性を改善するための濡れ性改善液をテクスチャー加工を施す前に塗布する濡れ性改善液塗布工程４０と、濡れ性改善液で濡れた状態の基板を回転してその表面にスラリーを供給しながらテクスチャー加工を施すテクスチャー加工工程５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】 磁気転写用マスター担体や光ディスクの成形に使用する光ディスク用マスター担体など、情報に応じた凹凸パターンが形成されたマスター担体の製造方法において、より適切な凹凸パターンを形成する。
【解決手段】 情報に応じた凹凸パターンが形成された原盤上に、その原盤を電解液に浸して金属を電着することにより所定厚さの金属盤を積層し、その積層後に金属盤を原盤から剥離してマスター担体を製造するマスター担体製造方法において、金属盤を積層した後、その金属盤が積層された原盤を、電解液の温度を同じ温度の純水に浸し、その温度の純水中において金属盤を原盤から剥離する。 （もっと読む）