説明

Fターム[5D112GA28]の内容

Fターム[5D112GA28]に分類される特許

1 - 20 / 118


【課題】酸化ジルコニウムを研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨するときに、ナノピット、ナノスクラッチが生じ難くするようにした磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】モノクリニック結晶構造(M)とテトラゴナル結晶構造(T)を有する酸化ジルコニウム砥粒を研磨材として含有する研磨液を用いてガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を有する。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、良好な研磨速度を確保すること、主表面にスクラッチ等のキズが生じ難くすること、及び、主表面の縁部のだれを生じに難くすることを可能とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク、及び磁気記録再生装置を提供すること。
【解決手段】イットリウムを含有する部分安定化ジルコニアを研磨材として含む研磨液を用いて研磨する。 (もっと読む)


【課題】微小なピットやスクラッチ等の表面欠陥を従来品より更に低減でき、次世代用の基板として使用することが可能な高品質のガラス基板を低コストで製造できる磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】シリカ砥粒を含む研磨液と、研磨パッドが配備された定盤とを用いて、ガラス基板の主表面を研磨する研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。上記研磨液は、光散乱法により測定される平均粒子径が5nm以上50nm以下で、かつCV値が0.3以上である粒度分布のシリカ砥粒を含む。また、上記研磨液は、重量平均分子量が5000以上のスルホン酸基を含むアクリル系ポリマーを含有し、pHが0.5以上5以下の範囲内に調整されている。 (もっと読む)


【課題】優れた耐衝撃性を有し、読み書きエラーの発生頻度が少ないHDD用ガラス基板およびHDD用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を形成する内周端面に圧縮応力層とイオン交換層とを有し、主表面及び外周端面にイオン交換層を有さないことを特徴とするHDD用ガラス基板とする。中心孔を有する円盤状のガラス基板前駆体を用いたHDD用ガラス基板の製造方法であって、化学強化工程によって前記ガラス基板前駆体の全表面に厚みの合計が50〜200μmである圧縮応力層とイオン交換層とを形成した後、外径研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の外周端面に形成されたイオン交換層を除去し、研削工程及び/又は研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の主表面に形成されたイオン交換層を除去することを特徴とするHDD用ガラス基板の製造方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、高温高湿環境下においても歪みの発生しにくいHDD用ガラス基板および該HDD用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたHDD用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが2〜30μmであることを特徴とするHDD用ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、磁気ディスク装置に搭載された場合に使用時にイオン溶出による後発エラーの発生頻度が少ないHDD用ガラス基板および該HDD用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたHDD用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが100μmを超え180μm以下であるHDD用ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】化学強化処理において溶融塩の寿命を長く保つことができ、安定した特性の強化ガラス製品が得られるイオン交換ガラス物品の製造方法を提供する。
【解決手段】Li含有組成のガラス物品を、当該ガラスに含まれるLiよりもイオン半径が大きいアルカリ金属元素を含む溶融塩融解液と接触させることにより、前記ガラス物品中のLiと前記溶融塩融解液中のアルカリ金属とをイオン交換するイオン交換工程を含むイオン交換ガラス物品の製造方法である。ここで、上記溶融塩融解液には、NaF、KF、KAlF、NaCO、NaHCO、KCO、KHCO、NaSO、KSO、KAl(SO)、NaPO、KPOからなる群より選ばれる少なくとも1種類の添加物を添加して、当該添加物が固体状態で上記イオン交換工程を行う。 (もっと読む)


【課題】1平方インチ当たり40ギガビット以上のような高記録密度での使用に供される磁気ディスクとして構成しても、サーマルアスぺリテイ障害を起こすことがなく、耐衝撃性にも優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。携帯電話、デジタルカメラ、携帯型「MP3プレイヤ」、PDA等の携帯情報機器や、「カーナビゲーションシステム」など車載用機器にも搭載できるように、例えば、外径30mm以下の小型磁気ディスクとして構成しても、安定した動作を実現できる磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】端面部が鏡面加工されており、端面部の算術平均粗さ(Ra)が100nm以下である。 (もっと読む)


【課題】表面が平滑で、且つ耐熱性に優れ、しかも表面硬度の高い磁気記録媒体用アルミニウム基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム基板にベーマイト処理を施した後、加熱して酸化皮膜を形成する工程と、加熱後のアルミニウム基板表面に無機ポリシラザン含有溶液を塗布した後、加熱して表面硬度の高いSiO2膜を形成する工程、を含む製造方法。 (もっと読む)


【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が100ギガビット/平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の0.05%以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が98N以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】化学強化工程を施したガラス基板を破壊することなく、該化学強化層のばらつきを基板全体に対して一様に評価することのできるHDD用ガラス基板の検品・選別方法を提供することを目的としており、更には、この検品・選別方法により、長期間使用された場合においても読み取りエラーの発生が少ないHDD用情報記録媒体を製造可能な製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明は、化学強化工程によって表層に圧縮応力層が付与されたHDD用ガラス基板を検品・選別する工程において、前記HDD用ガラス基板の径方向において、中心孔の径端から0.5mmの位置から、前記HDD用ガラス基板の外径端から0.5mmの位置までの位相差の最大値が、5.0nm未満であるものを選択することを特徴とするHDD用ガラス基板の検品・選別方法である。 (もっと読む)


【課題】強度に優れ、かつ高平滑性を備えたHDD用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を有するガラス基板前駆体を化学強化液と接触させて、前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換して圧縮応力層を付与する化学強化工程を2回以上有するHDD用ガラス基板の製造方法において、1回目の化学強化工程と2回目以降の化学強化工程との間に主表面加工工程を有することを特徴とするHDD用ガラス基板の製造方法。記HDD用ガラス基板の製造方法において、前記1回目の化学強化工程前に前記ガラス基板前駆体の内径研磨を施し、前記1回目の化学強化工程と2回目の化学強化工程の間に前記ガラス基板前駆体の外径研磨を行うことが好適である。 (もっと読む)


【課題】パーティクル等の異物が基板表面に強固に付着する前に、基板表面に吸着し、これらの異物の強固な付着を防ぎ、後の洗浄工程で基板上の異物の残留を著しく減少させることが可能となる電子材料用表面保護剤を提供することを目的とする。
【解決手段】炭素数6〜24の脂肪族第1級アミンのアルキレンオキサイド付加物(A1)、炭素数8〜36の脂肪族第2級アミンのアルキレンオキサイド付加物(A2)、炭素数6〜24の第1級アルカノールアミンのアルキレンオキサイド付加物(A3)および炭素数8〜36の第2級アルカノールアミンのアルキレンオキサイド付加物(A4)からなる群から選ばれる1種以上のアルキレンオキサイド付加物(A)並びに水を必須成分として含むことを特徴とする電子材料用表面保護剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】 砥粒、研磨屑などのパーティクルの強固な付着を防止することが可能となる電子材料製造工程用パーティクル固着防止液、およびパーティクル固着防止液を用いた電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】 有機還元剤および水を必須成分として含有するパーティクル固着防止液を用いる。有機還元剤としては、レダクトン類、フェノール類、糖類、チオール類などが挙げられ、好ましくはレダクトン類、フェノール類である。これらは2種以上を組み合わせて用いることもできる。 (もっと読む)


【課題】研削工程及び/又は研磨工程における加工レートを向上させると共に、基板表面に残存する加工ダメージ層を低負荷で効果的に除去することが可能となり、表面の研磨加工によるダメージ発生を抑制し、耐衝撃性に優れた、強度信頼性の高い磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とすることを目的とする。
【解決手段】磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板表面に引張応力層を形成させる引張応力層形成工程を含み、前記引張応力層形成工程は精密研磨工程の前に備えることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。前記引張応力層形成工程は、ガラス基板に含まれるアルカリ金属イオンの交換を行うイオン交換処理法を含み、前記イオン交換処理法はガラス基板に含まれるアルカリ金属イオンのイオン半径よりもイオン半径が小さいイオンを含有する処理液に前記ガラス基板を浸漬させ、ガラス基板表面に引張応力層を形成させることが好適である。 (もっと読む)


【課題】外周部の厚みが均一な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板前駆体を用いて磁気ディスク用ガラス基板を製造するものであって、該製造方法は、深さ方向に2相以上に分離した複数の液相を備えた洗浄浴を用いて実行される洗浄工程を含み、該洗浄工程は、洗浄浴の液相中最上相を除くいずれかの液相にガラス基板前駆体を浸漬させた後、最上相を通過させてガラス基板前駆体を引き上げる工程であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】安定して均一な品質の磁気ディスク用ガラス基板を製造することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板前駆体を用いて磁気ディスク用ガラス基板を製造するものであって、該製造方法は、深さ方向に2相以上に分離した複数の液相を備えた洗浄浴を用いる洗浄工程を含み、該洗浄工程は、洗浄浴の液相中最下相に隣接する液相にガラス基板前駆体を浸漬させる工程であり、最下相に含まれる薬液成分の濃度は、最下相に隣接する液相に含まれる薬液成分の濃度よりも高いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】化学強化処理後の基板毎の化学強化層の厚みのばらつきを低減できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用のガラス基板1の製造方法は、ガラス基板1を成形する工程と、主表面に化学強化層を形成する工程と、を備える。化学強化層を形成する工程は、化学強化処理槽20内に貯留された化学強化処理液にガラス基板1を浸漬させる工程と、ガラス基板1を化学強化処理液中で移動させる工程と、を含む。移動させる工程は、化学強化処理槽20の内壁23a,23bに沿って内壁23a,23bの水平方向長さL1,L2の半分以上に亘ってガラス基板1を水平方向に移動させる工程と、化学強化処理液の液深の半分以上に亘ってガラス基板1を垂直方向に移動させる工程と、の少なくともいずれか一方を有する。 (もっと読む)


【課題】強度が高く、かつハードディスクに搭載したときにヘッドクラッシュが生じにくい磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いた製造方法であって、ガラス基板前駆体の中心に穴をあけるコアリング工程と、ガラス基板前駆体の内周端面および外周端面を面取りする内外加工工程とを少なくとも含み、コアリング工程と内外加工工程との間に、ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の表面に対してより均一に化学強化処理を施すことが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を得る。
【解決手段】円形ディスク状に形成されるガラス基板1に磁気記録層が形成される情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、線状の金属部材を含む保持用治具7を準備する工程と、保持用治具7を用いてガラス基板1を化学強化処理液中に浸漬し、ガラス基板1の表面に対して化学強化処理を施す工程と、を備え、保持用治具7の周囲は、ガラス基板1が化学強化処理液中に浸漬された状態で、ガラス基板1の周りに化学強化処理液の対流が生じるように開放されている。 (もっと読む)


1 - 20 / 118