【課題】処理カップ内における気液分離効率を低下させることなく、処理カップからの薬液のミストの漏出を防止または抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理カップ２５の上段には、第２構成部材２２の第２案内部３８の上端部３８ｂと第３構成部材２３の上端部２３ｂとの間に、ウエハＷの端面に対向し、第１薬液を捕獲する第１薬液捕獲口としての第３開口５７が形成される。処理カップ２５内の下段には、傾斜部４１の先端部と第４構成部材２４の傾斜部４６の先端部との間に、第１雰囲気捕獲口５８が形成される。第３開口５７と第１雰囲気捕獲口５８との上下方向における中間位置（中段）に、処理カップ２５内に下降気流を発生するための羽根部材６１が配置されている。羽根部材６１は、スピンチャック３のスピンベース８に、一体回転可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板に対する処理の開始が通常のタイミングよりも遅れた場合に、その処理の開始までに生じた不具合を解消することができる、基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置では、プロセスレシピに従ったプロセスレシピ制御が２５回繰り返し実行されることにより、２５枚のウエハに対する処理が行われる。２５回のプロセスレシピ制御中に、タイマにより、ウエハへの薬液の供給の停止から次回のプロセスレシピ制御の開始までの時間が計測される。そして、タイマによる計測時間が予め定める基準時間以上であれば、プロセスレシピ制御に割り込んで、プリレシピに従った制御が実行され、プリディスペンス動作が行われる。プリディスペンス動作により、ノズルなどに溜まった薬液が廃棄されるので、プロセスレシピ制御の再開後に、劣化した薬液がウエハに供給されることを防止できる。 （もっと読む）

【課題】基板を略水平に保持した状態で所定の処理を行う基板処理装置および基板処理方法において、遮断板を用いた処理技術と同様の遮断効果を得ながらも、より装置の小型化に適した技術を提供する。
【解決手段】基板Ｗの略中央上方にガス吐出ヘッド２００を設ける。ガス吐出ヘッド２００の下部に基板表面Ｗfに向けて開口したガス吐出口２８３から、アルゴンガスを基板表面Ｗfに向けて吐出する。また、ガス吐出口２８３を取り囲むように設けたガス吐出口２９３からは、アルゴンガスよりも比重の小さい窒素ガスを吐出する。これにより、基板表面Ｗfに沿って流れるアルゴンガス層Ｌ1の上に窒素ガス層Ｌ2が形成され、周囲に浮遊するゴミＤやミストＭ等がアルゴンガス層Ｌ1に取り込まれ基板表面Ｗf近傍に運ばれるのを防止する。 （もっと読む）

【課題】長期にわたって優れたシール性能を発揮することができるダイヤフラムバルブを提供する。ダイヤフラムバルブの閉状態において、処理流体配管を確実に閉塞することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】フッ素樹脂（ＰＴＦＥまたはＰＦＡ）製の弁座３０の先端部（ダイヤフラム２５に対向する端部）には環状のシール部材２０が配置されている。弁座３０の上面には、弁座３０の内面に連続する環状の段部４５が形成されており、その段部４５にシール部材２０が収容されている。シール部材２０は、フッ化ビニリデン系樹脂（ＦＫＭ）によって形成されており、比較的高い弾性および耐薬性を有している。流路の閉鎖状態で、ダイヤフラム２５と弁座３０との間にシール部材２０が密着状態で介装される。 （もっと読む）

【課題】磁性層のエッチングに使用した磁性層上のエッチングレジストを、磁性層の磁気特性を劣化させること無く完全剥離する工程を含むパターン化磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁性層のエッチングに用いたエッチングレジストの剥離工程が、磁性層または保護層上のエッチングレジストに、減圧下にエキシマＶＵＶレーザを照射する工程、および磁性層または保護層上に残存するレジストをレジスト剥離剤溶液に浸漬して洗浄除去する工程、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

例えばハードディスク媒体基板などの電子基板、当該ハードディスク媒体の製造に用いられるインプリント型（imprint mold）、または読取り／書込みヘッド組立部品（read/write head assembly part）の表面および／または斜面からサブミクロン粒子を除去するための洗浄溶液ならびに方法。当該洗浄溶液は、ポリカルボキシレートポリマーまたはエトキシル化ポリアミンを含む。当該方法は、ポリカルボキシレートポリマーまたはエトキシル化ポリアミンを含む洗浄溶液と当該基板の表面を接触させる工程を含む。当該方法における任意の付加的な工程は、音波エネルギーを当該洗浄溶液に適用することおよび／または当該表面をすすぎ溶液に音波エネルギーを適用するか、あるいは適用することなく、当該すすぎ溶液により当該表面をすすぐことを含む。 （もっと読む）

【課題】充分な耐衝撃性を有し、加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかもコストダウンを可能とする磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供すること。
【解決手段】本発明では、多結晶Ｓｉウェハの平坦化の工程でのエッチングは行なわれず、機械研削のみで平坦化がなされる（Ｓ１０４、Ｓ１０６）。これは、エッチング速度に結晶面依存性があるため、多結晶Ｓｉウェハをエッチングすると、ウェハ表面に露出している各結晶粒の結晶方位面の違いによって段差が生じることが避けられず、精密な表面平坦化の障害となるためである。そして、最終研磨段階に先立って予めＳｉウェハ表面を酸化膜で被覆して酸化膜付きＳｉウェハとし（Ｓ１０７）、この酸化膜表面を平坦化することで表面に段差のない平坦な基板（酸化膜付きＳｉ基板）を得ている（Ｓ１０８）。 （もっと読む）

【課題】高い基板強度と低アルカリ溶出量の両方を兼ね備える磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケート組成を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、金型成形された円盤型ガラス基板の中心部をくり貫いて作られたドーナツ型ガラス基板の内周端面をエッチング処理するエッチング処理工程と、エッチング処理されたドーナツ型ガラス基板の表層のアルカリイオンをプロトン交換によりアルカリ封止処理を施すアルカリ封止処理工程とを有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、前記製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気記録ディスクの製造方法および磁気記録ディスク。 （もっと読む）

【課題】記録媒体用ガラス基板を安定して移載ができ、ガラス基板に傷を付けない移載用治具、該移載用治具を用いた記録媒体用ガラス基板の製造方法、記録媒体用ガラス基板及び記録媒体を提供することである。
【解決手段】中央に開口部を有するガラス基板を移載する移載用治具５において、前記移載用治具５が、棒状の移載部５０と、握り部５１とを有し、前記開口部を前記移載部５０の凹部の２カ所の支持部Ｐ１，Ｐ２で支持する移載用治具。前記移載部５０は、棒状の芯材５０２と、該芯材の側面に固着保持する凹部を有する一対の板材５０１とを有し、前記棒状の芯材５０２が金属であり、前記一対の板材５０１が樹脂からなることを特徴とする移載用治具。 （もっと読む）

【課題】ノズルおよび該ノズルに接続された処理液導入部に残留する処理液をガスによって押し出す際に、該処理液を安定して押し出すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】押出処理が停止され、薬液処理が実行される間、上流側バルブＶ１と下流側バルブＶ２は閉じられ、上流側バルブＶ１および下流側バルブＶ２とに挟まれたバルブ間領域ＶＲは大気圧Ｐ０に調整されている。そして、薬液処理後、薬液押出処理を開始するために上流側バルブＶ１の開放に先立って下流側バルブＶ２が開かれる。この時点では、残留薬液にかかる圧力は大気圧Ｐ０となっているため、残留薬液が押し出されることがない。このため、いきなり元圧力Ｐ１で残留薬液が押し出されるのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】積層された複数のガラス基板を固定するために接着剤を使用せず、剥離後の洗浄が容易で効率よく低コストで製造できる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】積層された複数の円板状ガラス基板を水分雰囲気下で冷凍し、積層されたガラス基板を氷を介して冷凍固定する冷凍固定ステップと、積層されたガラス基板を冷凍固定した状態で、円板状ガラス基板の中心部を穿孔し、積層された円板状ガラス基板に貫通孔を形成する貫通孔形成ステップと、積層されたガラス基板を冷凍固定した状態で、貫通孔を有する円板状ガラス基板の内周側面及び外周側面のうち少なくとも一方を溶解液によって溶解する溶解ステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】比抵抗低減気体中の不純物による基板汚染や基板上の金属膜腐食の問題を抑制しつつ、基板の帯電を抑制または防止できる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】薬液ノズル５から基板上に薬液を液盛りして薬液工程が行われる。基板の回転によって薬液を排液した後、純水ノズル６から基板上に純水を液盛りして１回目のリンス工程が行われる。純水を排液した後、純水ノズル６から基板上に純水を液盛りして２回目のリンス工程が行われる。基板上に純水が液盛りされた状態で、ガスノズル７から炭酸ガスが供給され、基板の上面付近の雰囲気が炭酸ガス雰囲気とされる。これにより、炭酸ガスが純水中に溶け込む。その後、基板の回転によって、炭酸ガスが溶解した純水が基板外に排液される。 （もっと読む）

【課題】化学強化剤の飛散を防止するとともに、秤量することなく所定量の化学強化剤を処理槽に投入できるようにする。
【解決手段】化学強化剤を溶融して化学強化液とし、この化学強化液にガラス基板を接触させてガラス基板を化学強化するガラス基板の化学強化処理方法において、化学強化剤として、所定重量で所定形状に成形加工されたものを使用する。作業性および自動化の観点から、１つ当たりの化学強化剤の重量は５０〜２００ｇの範囲の所定重量とするのが好ましい。また化学強化剤の飛散を一層防止する観点からは、化学強化剤の形状は、シート状、直方体状、ペレット状、リング状のいずれかであるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】化学強化工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、化学強化工程後のガラス基板の冷却時に発生する微小うねりを抑制し、ヘッドクラッシュ及びサーマル・アスペリティといった障害を防止しつつ磁気ヘッドの低フライングハイト化を図り高密度情報記録が可能であって、特に、携帯情報機器用の小型の磁気ディスクに適用して好適な磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】化学強化工程後の冷却工程において、温度が低下する前のガラス基板の表面に、固化したときにガラス状に固化する物質が融解された融解液をコートしておくことにより、ガラス基板の表面に化学強化塩を結晶させることなく、ガラス基板の温度を所定の温度まで低下させる。 （もっと読む）

【課題】化学強化工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、化学強化工程後のガラス基板の冷却時に発生する微小うねりを抑制し、ヘッドクラッシュ及びサーマル・アスペリティといった障害を防止しつつ磁気ヘッドの低フライングハイト化を図り高密度情報記録が可能であって、特に、携帯情報機器用の小型の磁気ディスクに適用して好適な磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】化学強化工程後の冷却工程において、化学強化塩よりも固化温度の低い物質が融解された処理液にガラス基板を接触させる冷却処理を行う。処理液の温度は、化学強化工程における化学強化塩融解液の温度よりも低く調整しておく。 （もっと読む）

【課題】研磨中に研磨加工速度を低下させることなく、高い生産性を確保することが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】多成分系のガラス基板の表面に研磨パッドを接触させ、ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させてガラス基板の表面を研磨する鏡面研磨工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、研磨液のｐＨ値を所定範囲内に保持する。 （もっと読む）

【課題】良好な端部形状を得ることが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】多成分系のガラス基板の表面に研磨パッドを接触させ、ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させてガラス基板の表面を研磨する鏡面研磨工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、鏡面研磨工程によって得られるガラス基板の端部形状を示すＤｕｂｏｆｆ値が±１０ｎｍ以内となるように研磨液の凝集度または分散度を制御して鏡面研磨工程を行う。 （もっと読む）

【課題】高い磁気記録密度を有する、新規なディスクリートトラック媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本磁気記録媒体は、軟磁性層とその上にある磁気記録層と磁気記録層の直下にある中間層とを有する円板状の磁気記録媒体であって、磁気記録層が、磁気記録媒体の半径方向に複数ならんだ磁気記録トラックを有し、中間層の上面において円板の半径方向に凹凸を繰り返すように設けられた凹部と凸部とにより、各磁気記録トラックが、円板の半径方向において互いに分離されている。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面にレジスト剥離液としてのＳＰＭを供給するためのＳＰＭノズル１２と、スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面に有機溶剤と窒素ガスとを混合して得られる混合流体を供給するための二流体ノズル１３とが備えられている。二流体ノズル１３からウエハＷの表面に混合流体が供給されることにより、レジストの表面の硬化層が破壊された後、ＳＰＭノズル１２からウエハＷの表面に高温のＳＰＭが供給されて、ウエハＷの表面からレジストが剥離される。 （もっと読む）

【課題】基板にダメージを与えることなく、イオン注入時にマスクとして用いられたレジストを良好に剥離（除去）することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面にレジスト剥離液としてのＳＰＭを供給するためのＳＰＭノズル１２と、スピンチャック１１に保持されたウエハＷの表面に加熱された純水と加熱された窒素ガスとを混合して生成される液滴の噴流を供給するための二流体ノズル１３とが備えられている。二流体ノズル１３からウエハＷの表面に液滴の噴流が供給されることにより、レジストの表面の硬化層が破壊された後、ＳＰＭノズル１２からウエハＷの表面に高温のＳＰＭが供給されて、ウエハＷの表面からレジストが剥離される。 （もっと読む）