【課題】平面度精度の高いガラスブランク及びその製造方法、並びに磁気記録媒体基板及び磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラスブランクが、ガラスブランクの第１面及び第２面の縁部から、該第１面及び第２面の法線方向に夫々突出する第１及び第２の突出部を有し、第１及び第２の突出部の頂面は、夫々該第１面及び第２面と略平行に形成されており、第１及び第２の突出部の頂面の夫々から前記第１面及び第２面に亙って第１及び第２の傾斜面が形成されている構成とした。 （もっと読む）

【課題】より薄肉のガラスブランクを作製する場合でもより高い平面性を有するガラスブランクを得ること。
【解決手段】下型のプレス面の中央部に、軟化状態のガラスを供給した後、上型と下型との間で軟化状態のガラスをプレス成型するプレス工程を少なくとも経て、情報記録媒体基板用のガラスブランクが作製され、プレス工程の実施直前において、上型プレス面の中央部近傍の温度が、上型プレス面の他の領域の温度よりも低いガラスブランクの製造方法、これに用いる上型およびプレス成型装置、ならびに、これを用いた情報記録媒体用基板の製造方法および情報記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】より薄肉のガラスブランクを作製する場合においても高い平坦性を有する情報記録媒体基板用ガラスブランクを作製すること。
【解決手段】下型上の軟化状態の塊状ガラスを上型と下型とによりプレスして、この塊状ガラスを２つのプレス面間に延伸させる塊状ガラス延伸工程と、２つのプレス面間に挟持された状態で完全に延伸し終えた軟化状態の円板状ガラスを上型のプレス面から剥離する剥離工程と、剥離工程の実施前後のタイミングで、軟化状態の円板状ガラスの外周端近傍を、軟化状態の円板状ガラスの中心部を基準として略対称的に冷却する冷却工程と、を少なくとも経て、情報記録媒体基板用ガラスブランクを製造する情報記録媒体基板用ガラスブランクの製造方法。また、この製造方法を利用した情報記録媒体用基板の製造方法、および、情報記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターン転写後の磁気記録媒体において優れたＳ／Ｎ比が実現されるモールドを提供することにある。
【解決手段】基材と、上記基材に隣接する中間層と、上記中間層に隣接し、表面に微細な凹凸パターンを有するパターン形成層とを備え、上記中間層が紫外線透過性のシリコーン樹脂を含有する接着剤からなり、その弾性率が、上記基材の弾性率よりも小さく、かつ、上記パターン形成層の弾性率よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】溶融ガラスをプレス成形することによってガラス基板を製造するための金型において、離型の際のガラス基板の割れやクラックの発生を防止することができるガラス基板成形用金型、該ガラス基板成形用金型を用いたガラス基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】溶融ガラスが供給され、供給された該溶融ガラスを加圧するための第１の成形面を備える下型と、下型の第１の成形面との間で溶融ガラスを加圧するための第２の成形面を備える上型とを有するガラス基板成形用金型であって、第１の成形面及び第２の成形面の少なくとも一方は、表面粗さＲａが０．１１μｍ以上５μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】記録密度の向上を図ることができる磁気記録媒体の提供。
【解決手段】基板１１に金属ガラス層１３を形成し、その金属ガラス層１３を過冷却液体領域温度に保ちつつ金型２を押圧し、金属ガラス層１３に金型２の成形転写面に形成された凸凹形状を金属ガラス層１３に転写する。形成された凹部１３０内に磁性体を埋め込んだり、凸部１３２上に磁性体を蒸着することにより、磁気的に孤立化された磁性ドットが形成された磁気記録媒体が得られる。金属ガラス層１３に凹凸形状をナノインプリンティングすることで、非常に微細な凹凸形状を形成することができ、磁気記録媒体の記録密度の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】成形を行う際に基板形成材料と成形金型との間に気泡が入ることを抑え、成形工程後においては成形金型の中心部においても基板形成材料とプレス成形用金型との間の離型性を容易にする成形金型、中間部材及び基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】中間部材９を成形するための成形金型１が、ディスク領域１１を成形するディスク領域成形部と、除去領域１０を成形する除去領域成形部とを有し、除去領域成形部が、連続した凹曲面部を含むこととする。また、これによって製造される中間部材９が、除去されて開口部となる除去領域１０と、ディスク領域１１とを有し、除去領域１０は、連続した凸部１３を含むこととする。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンの変形および転写不良を招くことなく、基材の上に凹凸パターンを高精度で形成し得る凹凸パターン形成方法を提供する。
【解決手段】凹凸パターン２５が形成されたスタンパー２を中間体１０（基材）上の樹脂層３に押し付けることによって凹凸パターン２５を樹脂層３に転写することで中間体１０の上に凹凸パターンを形成する凹凸パターン形成方法であって、スタンパー２の押し付け時における樹脂層３の温度よりもガラス転移点が低い第１の樹脂材料と、押し付け時における樹脂層３の温度よりもガラス転移点が高い第２の樹脂材料とを混合した混合樹脂材料を中間体１０の上に塗布することによって樹脂層３を形成する。 （もっと読む）

【課題】マスクの形成コストを低減し得るマスク形成方法を提供する。
【解決手段】凹凸パターンが形成されたマスクを中間体１０の上に形成する際に、紫外線硬化型の塗液（放射線硬化型の塗液）を中間体１０の上に塗布して塗膜３１を形成する塗膜形成処理と、塗膜３１に紫外線５２ａ（放射線）を照射する紫外線照射処理（放射線照射処理）と、スタンパーにおける凹凸パターンの形成面を塗膜３１に押し付けてスタンパーの凹凸パターンを塗膜３１に転写するパターン転写処理とをこの順で実行してマスクの凹凸パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 インプリントによるパターン転写に伴う磁性体加工において、磁性体にダメー
ジを与えることなく簡易に微細化を行うための磁性層加工プロセスを提供する。
【解決手段】 シリカガラス、アルキルシロキサンポリマー、アルキルシルセスキオキサ
ンポリマー（MSQ）、水素化シルセスキオキサンポリマー（HSQ）、水素化アルキルシロキ
サンポリマー（HOSP）から選ばれる１つの材料からなるSOG２０１を磁性層１０３の凸部
に設け、イオンミリングを行うことにより、ＳＯＧ２０１がＳｉＯ2１０２に変質し、磁
性層１０３のエッチングマスクとして機能する。 （もっと読む）