【課題】積層構造の中にスピネルフェライト薄膜を配置したスピンフィルタ効果素子において、スピネルフェライト薄膜下部の金属電極層の酸化および下部界面の熱拡散を抑制し、上部界面の大気成分による汚染を排除しつつ、（１００）優先配向したスピネルフェライト薄膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】基板上に（１００）優先配向のスピネルフェライト薄膜を製造する方法であって、前記製造方法は、スパッタリング法でスピネルフェライト薄膜もしくはその前駆体となる薄膜を基板上に形成するスパッタ成膜ステップと、その基板を真空中で加熱する真空加熱ステップとを有することを特徴とするスピネルフェライト薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】一つの試料を作製するだけで、フェライトの組成変化に伴う磁気特性の変化を連続して測定することができるフェライトの特性評価方法を提供する。
【解決手段】透光性を有する単結晶基板上に、薄膜形成法を用いて、成分組成を水平方向に傾斜させて製膜した複数層の組成傾斜フェライト層からなる組成傾斜フェライト薄膜を形成し、該フェライト薄膜の組成傾斜方向に沿い連続して磁気光学効果を測定することにより、該フェライトの組成変化に伴う磁気特性の変化を連続して測定する。 （もっと読む）

【課題】製造プロセス中に磁性体膜の材料の拡散を防止し得る半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置１は、基板２０と、基板２０の主面上に形成され、かつ配線層を含む半導体素子１２と、半導体素子１２を被覆する磁性体からなる磁気シールド膜１５と、半導体素子１２と磁気シールド膜１５との間に介在し、かつ磁気シールド膜１５の磁性体材料の拡散を防止するバッファ膜１４と、を有する。バッファ膜１４は、磁性体材料の拡散防止効果をもたらすとともに、磁気シールド膜の結晶化を促進する効果も有する。 （もっと読む）

【課題】Ｃｏ、Ｒｕなどの希少金属を用いることなく、磁気的に反平行状態で結合した構造を含む磁気記録媒体、垂直磁気記録媒体、磁気記憶装置、磁気メモリセルを提供すること。
【解決手段】第１磁性層と第２磁性層とが非磁性層を介して、磁気的に反平行状態で結合した構造を含む磁気記録媒体ならびに垂直磁気記録媒体、磁気記憶装置、磁気メモリセルであって、第１磁性層がスピネル型または逆スピネル型のイオン結晶構造をもつ酸化物からなり、第２磁性層が単体で強磁性を有する金属または単体で強磁性を有する金属を含む合金からなり、前記非磁性層がバンドギャップ３ｅＶから８ｅＶの絶縁物からなる。 （もっと読む）

【課題】キャリア周波数が高い場合でも、ＲＦＩＤタグの送受信性能の特性改善に寄与し得る磁性体材料を提供すること。
【解決手段】フェライト材料の金属の組成をＦｅ_ａＮｉ_ｂＺｎ_ｃＣｏ_ｄ（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＝３．０，２．１≦ａ≦２．７，０≦ｂ≦０．４，０≦ｃ≦０．４，０．１≦ｄ≦０．５）で示されるようなものとする。好ましくは、かかるフェライト材料からなるフェライト膜１４４をフェライトめっき法により３０μｍ以下の厚さを有し且つ３０以上のアスペクト比を有するように成膜し、それをＲＦＩＤタグ１００のアンテナ導体１２０に近接配置する。アンテナ導体１２０にフェライト膜１４４が直接接触する構成としても良い。 （もっと読む）

【課題】一種類の水溶液を基板に供給するだけで、フェライトめっき膜の成膜の可能なフェライトめっき液を開発し、フェライトめっき膜の成膜工程を簡易化することにより、磁気特性の良好なフェライトめっき膜のノイズ抑制体などへの応用範囲を拡大する。
【解決手段】２価の鉄イオンを必須成分として含む金属イオンと、キレート作用により金属イオンを安定化するキレート剤と、２価鉄イオンの少なくとも一部を酸化する酸化剤と、反応場のｐＨ値の低下を抑制するｐＨ調整剤と、２価鉄イオンの少なくとも一部を酸化する酸化剤と、反応場のｐＨ値の低下を抑制するｐＨ調整剤を含有させた水溶液を調製し、この水溶液を基板に供給し、水溶液の温度を上昇させてキレート剤のキレート作用を低下させることにより、フェライトめっき膜を成膜する。この方法により、フェライト膜の均質性が向上するとともに、成膜の生産性が向上する。 （もっと読む）

【課題】強磁場中加熱を利用してコバルトフェライト磁性材料の保磁力及び磁気的角形比を高め、これを磁性層に用いて磁気的特性に優れた磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】基板１上に、混合したコバルトと酸化鉄より成る材料（材料層２）、またはコバルトフェライトを堆積させる工程と、この基板１を磁場中で加熱処理する工程とを少なくとも有する。 （もっと読む）

【課題】 フェライトめっき法によって形成されたフェライト膜において、生成速度を向上して工業的な生産性を増し、フェライト膜の組成および組織を制御し、２６０℃程度の温度で熱処理した後も高比抵抗でかつ軟磁気特性が優れたフェライト薄膜およびその製造方法を得る。
【解決手段】 フェライトめっきにて形成されたＦｅ，Ｎｉ，Ｚｎ系のフェライト薄膜において、Ｆｅの含有量がモル比でＦｅ／（Ｆｅ＋Ｎｉ＋Ｚｎ）の値が２．０／３以下であって、約２６０℃で熱処理した後の、表面抵抗率（Ω）と膜厚（ｃｍ）の積が１０⁶Ωｃｍ以上であるフェライト薄膜とする。 （もっと読む）