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Fターム[5E343DD35]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | 導体パターンの形成方法 (7,103) | メッキ (3,277) | 湿式メッキ (2,652) | 化学メッキ (1,169) | 処理条件が特定されたもの (75) | メッキ浴の撹拌 (8)

Fターム[5E343DD35]に分類される特許

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【課題】洗浄および無電解銅めっき液などの表面処理において、微細化した貫通スルーホールおよび非貫通バイアホールに処理液を供給し処理液の供給不足による銅めっき欠損などの不具合発生を抑える。
【解決手段】本発明は、洗浄および無電解銅めっきなどの表面処理において、装置コストの安い洗浄および無電解銅めっきなどの表面処理を行なうバーチカル方式を使用し、処理液を微細な貫通スルーホール、非貫通バイアホールに処理液を供給するため、カゴに銅張り積層板と、処理液の流れを制御するための、取付け、取外し可能な整流板を配置し処理する。 (もっと読む)


【課題】 電子部品の電極表面に対し、電源を用いず、かつ触媒処理も行わずCuめっき皮膜を形成する場合においても、成膜速度の高いCuめっきを可能とする電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】 少なくとも表面がCuの析出電位に対し電気化学的に卑な浸漬電位を有する金属からなる導電性媒体を、Cuめっき浴中で前記被めっき物と混合し、前記被めっき物における電極上にCuめっき皮膜を形成する工程を含む電子部品の製造方法において、前記Cuめっき浴が、硫酸銅、硝酸銅、塩化銅から選ばれる少なくとも一種、ならびに、リンゴ酸、乳酸、マロン酸、グルタミン酸から選ばれる少なくとも一種、を含む。 (もっと読む)


【課題】ピンホール欠陥を減少し、防食性を向上させるめっき方法及びめっき装置を提供する。
【解決手段】本実施例に係るめっき装置10Aは、被めっき体11Aを無電解めっき液12に浸漬させて、被めっき体11Aの表面に無電解Ni−Pめっき層を形成するめっき装置であって、無電解めっき液12を収容するめっき槽13と、めっきを開始し、被めっき体11Aに無電解Ni−Pめっき層が形成される際に発生する水素ガスG量が一定状態になるまで被めっき体11Aを振動させる振動モータ14と、被めっき体11Aと振動モータ14とを連結する振動伝達部材15と、振動モータ14が発生する振動の振幅を調整するコイルバネ16とを有する。発生する水素ガスG量が一定状態となるまで被めっき体11Aに振動を与え、被めっき体11Aに吸着された水素ガスの離脱を促進することで、無電解めっき層にピンホール欠陥が発生するのを防止し、防食性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】非貫通スル−ホ−ルを有するプリント配線板の無電解めっき方法において、従来、振動させたり、揺動させたりしてめっきをしていたが、貫通スルーホールや非貫通スル−ホ−ル中に発生した水素気泡を完全に取り除くことは困難で、そのためにスルーホール内にめっき液の供給が十分行われるとはいえず、その部分のスルーホール内に目的のめっきが形成されなかった。
【解決手段】 本発明は、めっき液に浸漬した前記プリント配線板に振動を与えながら無電解めっきする際に、合わせて流量に強弱をもたせたバブリングを前記プリント配線板の下方から加えることを特徴とするプリント配線板のめっき方法を提供することである。 (もっと読む)


【課題】はんだ槽における溶融はんだの流れのばらつきを抑制可能なソルダーレベラーを提供する。
【解決手段】ソルダーレベラー1は、浸漬室300と供給口301と排出口302a、302bとを持つはんだ槽30と、排出口302a、302bと供給口301との間を連通する撹拌通路32を持つ撹拌槽31と、撹拌通路32に配置され溶融はんだを循環させる循環ポンプ4と、を備える。ソルダーレベラー1は、さらに、浸漬室300を、供給口301に連通する前室300aと、被処理物Bが浸漬される処理室300bと、に仕切る仕切部50と、仕切部50に配置され前室300aと処理室300bとの間を連通する複数の整流通路と、を持ち、供給口301から複数の整流通路までの距離の差異に因らず、処理室300bの溶融はんだの流れのばらつきを抑制する整流部材5を備える。 (もっと読む)


【課題】酸素供給時におけるめっき液の流れへの影響を低減し、信頼性の高いものを得る、めっき膜の製造方法、及びめっき処理装置を提供する。
【解決手段】めっき液5中に少なくとも一対の電極20a,20bを配し、めっき液5中に基材Pを浸漬する。そして、一対の電極20a,20bに電圧を印加し、めっき液5中に含有された水を電気分解することでめっき液中に酸素を発生させるとともに、基材Pにめっき膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】セラミック素材上に形成された金属部分などに選択性良く析出し、パターン外析出が発生し難く、めっき浴の分解、沈殿なども生じにくい、安定性に優れた新規な無電解金めっき浴を提供する。
【解決手段】(i)水溶性金化合物、
(ii)錯化剤、
(iii)還元剤、並びに
(iv)イソチオ尿素及びその誘導体からなる群から選ばれた少なくとも一種の成分からなる安定剤、
を含有する水溶液からなる自己触媒型無電解金めっき液。 (もっと読む)


【課題】被めっき材の被めっき面により均一な膜厚のめっき膜を容易に形成できるようにした無電解めっき装置及び無電解めっき方法を提供する。
【解決手段】被めっき材Wを保持する保持部10と、めっき液22を保持するめっき槽24とを有し、被めっき材Wをめっき槽24内のめっき液22に接液させてめっきを行うめっき装置において、保持部10は加熱部14を有する。 (もっと読む)


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